-
公开(公告)号:CN112552349A
公开(公告)日:2021-03-26
申请号:CN202011028967.2
申请日:2020-09-25
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明涉及有机金属化合物、包括其的有机发光器件和包括有机发光器件的电子设备。有机金属化合物由式1表示,其中,在式1中,M为过渡金属,L1为如本文中提供的由式2表示的配体,L2为如本文中提供的由式3表示的配体,且n1和n2各自独立地为1或2。 M(L1)n1(L2)n2。
-
公开(公告)号:CN111377974A
公开(公告)日:2020-07-07
申请号:CN201911324015.2
申请日:2019-12-20
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供有机金属化合物和包括其的有机发光器件,所述有机金属化合物由式1表示,式1中的Y2、环A2、R1-R8、R13-R20、和d2可各自独立地与说明书中描述的相同。式1
-
公开(公告)号:CN110872326A
公开(公告)日:2020-03-10
申请号:CN201910809554.9
申请日:2019-08-29
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明涉及有机金属化合物、包括该有机金属化合物的有机发光器件和诊断组合物。所述有机金属化合物由式1表示,其中,在式1中,基团和变量与在说明书中描述的相同。式1
-
-
公开(公告)号:CN110343136A
公开(公告)日:2019-10-18
申请号:CN201910260264.3
申请日:2019-04-02
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开了有机金属化合物、以及包括其的有机发光器件和诊断组合物。所述有机金属化合物由式1表示,其中,在式1中,R1-R12和R16与在说明书中描述的相同。式1。
-
-
公开(公告)号:CN102569398B
公开(公告)日:2016-06-29
申请号:CN201110230441.7
申请日:2011-08-12
Applicant: 三星电子株式会社 , 首尔大学校产学协力团
CPC classification number: H01L29/1606 , H01L29/41733 , H01L29/66045 , H01L29/778 , H01L29/78684 , H01L29/78696
Abstract: 本发明提供了一种具有多个石墨烯沟道层的石墨烯电子器件。该石墨烯电子器件包括:基板;形成在基板上的栅电极;第一栅绝缘膜,覆盖基板上的栅电极;多个石墨烯沟道层,形成在基板上,并且在多个石墨烯沟道层之间具有第二栅绝缘膜;源电极和漏电极,连接到每个石墨烯沟道层的两边缘。
-
公开(公告)号:CN101855727B
公开(公告)日:2013-02-13
申请号:CN200880115280.3
申请日:2008-11-04
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L29/66984 , B82Y25/00 , H01F1/401 , H01F1/404 , H01F10/1933 , H01F10/1936 , H01F10/3254 , H01F10/3295 , H01L29/82
Abstract: 本发明公开了自旋晶体管及操作该自旋晶体管的方法。所公开的自旋晶体管包括:沟道,由磁性材料形成且使具有特定方向的自旋极化电子选择性地通过;源极,由磁性材料形成;漏极;以及栅极电极。当预定电压施加到栅极电极时,沟道使具有特定方向的自旋极化电子选择性地通过,从而自旋晶体管被选择性地开启。
-
-
公开(公告)号:CN101308867B
公开(公告)日:2012-07-18
申请号:CN200810096571.4
申请日:2008-05-16
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L29/10 , H01L29/792 , H01L27/115 , H01L21/336 , H01L21/8247 , G11C16/02
CPC classification number: H01L21/28282 , G11C16/349 , H01L27/11568 , H01L29/42332 , H01L29/42336 , H01L29/42348 , H01L29/42352 , H01L29/66833 , H01L29/792
Abstract: 本发明提供了一种存储装置、一种制造该存储装置的方法以及一种操作该存储装置的方法。所述存储装置可以包括:沟道区,具有上端,其中,上端的两侧弯曲,两侧的弯曲部分允许在编程或擦除中将电荷注入到两侧的弯曲部分中,使得注入有电荷的弯曲部分与确定阈值电压的部分分开;栅极结构,在沟道区上。
-
-
-
-
-
-
-
-
-