公开(公告)号：CN101184795A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200680018463.4

申请日：2006-04-07

Applicant: 宇部兴产株式会社

Inventor： 岩井英记 ,  浜田一之 ,  名越康浩

IPC: C08J5/18 ,  B32B15/08 ,  C08L79/08

CPC classification number: C08J5/18 ,  C08G73/1067 ,  C08J2379/08 ,  C08L79/08 ,  C23C14/025 ,  C23C14/205 ,  C23C14/584 ,  Y10T428/12639 ,  Y10T428/12861 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/269 ,  Y10T428/31681

Abstract: 将有机液体涂敷到聚酰亚胺前体溶液的自支撑膜的两面，然后加热进行酰亚胺化，由此提供表面粗糙度降低的聚酰亚胺膜。

公开(公告)号：CN101035925A

公开(公告)日：2007-09-12

申请号：CN200480043954.5

申请日：2004-09-08

Applicant: 比克-维奥利克斯公司

Inventor： 瓦西利斯·帕帕克里斯托斯 ,  米凯利斯·卡罗西斯 ,  迪米特里斯·皮斯米西斯

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/06 ,  B26B21/60

CPC classification number: B26B21/60 ,  C23C14/025 ,  C23C14/0635 ,  C23C14/352 ,  C23C14/568

Abstract: 本发明公开了一种在剃须刀片的剃须刀片刀口上沉积涂层的方法，其中，该涂层包含两种成分。在由至少第一和第二溅射靶构成的护罩内，每个溅射靶包含被沉积在刀口上的成分中的至少一种，并在操作中在该护罩内释放该成分。该方法包括一步骤(a)，该步骤(a)中，剃须刀片交替地在各靶的附近移动。

公开(公告)号：CN1878884A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN200480033095.1

申请日：2004-08-26

Applicant: 陶氏康宁公司

Inventor： 西田文人 ,  T·劳尔 ,  U·佩尔尼茨

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/20

CPC classification number: C23C14/025 ,  C23C14/20 ,  H05K1/0283 ,  H05K1/032 ,  H05K3/388 ,  H05K2201/0133 ,  H05K2201/0162

Abstract: 金属化硅橡胶基底的方法，该方法包括下述步骤：(i)在硅橡胶基底的表面上沉积铝的底漆层，和(ii)在铝的底漆层上沉积韧性金属层，其中韧性金属选自金、铂、钯、铜、银、铝和铟。

公开(公告)号：CN1691138A

公开(公告)日：2005-11-02

申请号：CN200510067692.2

申请日：2005-04-22

Applicant: 新科实业有限公司

Inventor： 上田国博

IPC: G11B5/31 ,  G11B5/48

CPC classification number: C23C14/022 ,  C23C14/025 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/325

Abstract: 一种薄膜磁头制造方法包括如下步骤：将在上面形成有大量薄膜磁头元件的晶片切割成每一个都具有多个对准的薄膜磁头元件的排件的步骤，通过离子束腐蚀方法清洗每个所切割排件与磁记录介质相对的表面的步骤，在排件的清洁表面上沉积保护膜的步骤，和之后分离该排件的步骤。

公开(公告)号：CN1669828A

公开(公告)日：2005-09-21

申请号：CN200510055308.7

申请日：2005-03-15

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 川上淳 ,  小尾庆幸

IPC: B44C3/02 ,  B44C5/00 ,  G04B37/22

CPC classification number: C23C14/0664 ,  A44C27/006 ,  C23C14/0015 ,  C23C14/025 ,  C23C28/048 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/36 ,  G04B37/22 ,  Y10T428/12806 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

Abstract: 本发明旨在提供能够长期保持优美外观的装饰品，并且提供具有所述装饰品的钟表。装饰品(1A)具有如下结构：至少表面附近的部分主要是由Ti和/或不锈钢形成的基材(2)；设在基材(2)上的第1被膜(3)；以及设在第1被膜(3)上的第2被膜(4)。第1被膜(3)主要由TiCN构成，第1被膜(3)中的C含量与N含量之和为5重量％～30重量％。第2被膜(4)主要由M(M代表从Ti、Pt、Pd以及In中选择的一种或两种以上元素)构成。第1被膜(3)的平均厚度为0.15μm～0.5μm。另外，第2被膜(4)的平均厚度为0.15μm～0.5μm。

公开(公告)号：CN1204287C

公开(公告)日：2005-06-01

申请号：CN99802139.3

申请日：1999-01-11

Applicant: 皇家菲利浦电子有限公司

Inventor： J·G·W·P·古利克尔斯 ,  K·戈迪克 ,  J·-S·利比格 ,  P·马洛巴比克 ,  E·霍希雷特

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/28 ,  C23C14/02 ,  B26B21/58

CPC classification number: C23C14/0015 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/025 ,  C23C14/083 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56 ,  Y10T428/24273 ,  Y10T428/2495

Abstract: 本发明涉及一种给由镍或镍合金组成的薄金属片镀膜的方法，镀膜是在真空中在薄金属片上溅射上一层金属化合物。薄金属片在压力为10-3至10-2毫巴的氩等离子体中、以等离子体离子的可变流量率和可变能量被处理可变的时间。借助于至少一个含铬或含铬合金的靶子的反应性磁控管雾化而把一层氧化铬层或含氧化铬的层连续地溅射上去的。该膜层是在压力为10-3至10-2毫巴的氩-氧混合气中用至少一个雾化源溅射上去的。在给薄金属片镀膜时，工作点被恒定地保持在规定的限界内，薄金属片被确定地与热缓冲物作热接触。薄金属片的镀膜一直要继续到其上的膜达到一阶或二阶干涉的指定干涉色为止。

公开(公告)号：CN1089996C

公开(公告)日：2002-09-04

申请号：CN94194799.8

申请日：1994-11-01

Applicant: 纽克里斯特医药公司

Inventor： R.E.布雷尔 ,  P.S.阿普特 ,  K.S.吉尔 ,  R.J.普雷特 ,  L.R.莫里斯 ,  C.L.麦因托什 ,  S.B.桑特

IPC: A01N59/16 ,  A61L2/16 ,  C23C14/14

CPC classification number: C23C14/588 ,  A01N59/16 ,  A01N59/26 ,  A61B2018/00119 ,  A61L17/145 ,  A61L29/106 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/025 ,  C23C14/06 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/086 ,  C23C14/14 ,  C23C14/16 ,  A01N47/30 ,  A01N43/80 ,  A01N43/78 ,  A01N41/08 ,  A01N2300/00

Abstract: 提供了抗菌涂层和粉末以及将其形成在医疗器件上的方法。该涂层优选是通过汽相淀积技术淀积一种抗菌的生物相容金属而形成，以便在涂层中产生原子无序状态，从而能持续地释放足以产生抗菌效果的金属离子。为了达到原子无序的优选淀积条件包括低于正常的基底温度，以及高于正常工作气体压力和低于正常的涂覆射流入射角中之一个或多个条件。同时提供了为了产生原子无序而通过汽相淀积或机械加工而形成的抗菌粉末。涂层或粉末的抗菌效果可以通过用一种低线性能量转移形式的射线，例如γ-射线照射的方法来进一步活化或提高。新的抗菌银材料的定义是以具有正的静止电位、Trec/Tm小于0.33和晶粒粒度小于200nm为特征。提供了抗菌细晶粒或超细晶粒材料及其制备方法，其中，如果将抗菌金属淀积在基体上则与一种不同的材料，例如其他生物相容的金属(例如Ta)的原子或分子、被捕集或被吸收的氧，或者抗菌金属或生物相容金属的化合物(例如AgO或TaO)一起淀积。本发明还涉及一种使用能够形成配位银离子而不是Ag+、Ag2+和Ag3+的银材料来产生抗菌效果的方法。

公开(公告)号：CN1362538A

公开(公告)日：2002-08-07

申请号：CN01123535.7

申请日：2001-07-30

Applicant: GA-TEK公司(商业活动中称为哥德电子公司)

Inventor： 王江涛 ,  约翰·卡拉汉 ,  丹·利利

IPC: C23C28/00 ,  H05K3/38

CPC classification number: C23C2/02 ,  C23C2/26 ,  C23C14/024 ,  C23C14/025 ,  C23C28/044 ,  C23C28/321 ,  C23C28/345 ,  H05K1/167 ,  H05K3/384 ,  H05K3/388 ,  H05K2201/0179 ,  H05K2201/0317 ,  H05K2201/0355 ,  H05K2203/0361 ,  Y10T428/12438 ,  Y10T428/12472

Abstract: 一种片材,由处理后在其上具有稳定层的铜箔构成。该稳定层由氧化锌、氧化铬或其组合构成,具有5－70A的厚度。在稳定层上提供汽相淀积的电阻性材料。

公开(公告)号：CN1288489A

公开(公告)日：2001-03-21

申请号：CN99802140.7

申请日：1999-01-11

Applicant: 斯托克维科有限公司 ,  皇家菲利浦电子有限公司

Inventor： J·G·W·P·古里克尔斯 ,  K·戈迪克 ,  J·-S·利比格 ,  P·马洛巴比克 ,  E·霍克雷特

IPC: C23C14/28 ,  C23C14/00 ,  C23C14/02

CPC classification number: C23C14/0015 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/025 ,  C23C14/083 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56

Abstract: 本发明涉及一种给由镍或镍合金组成的薄金属片镀膜的方法,镀膜是在真空中在薄金属片上溅射上一层金属化合物.薄金属片在压力为10-3至10－3毫巴的氩等离子体中、以等离子体离子的可变流量率和可变能量被处理可变的时间。借助于至少一个含铬或含铬合金的靶子的反应性磁控管雾化而把一层氧化铬层或含氧化铬的层连续地溅射上去。该膜层是在压力为10－3至10－2毫巴的氩－氧混合气中用至少一个雾化源溅射上去的。在给薄金属片镀膜时,工作点被恒定地保持在规定的限度之内,薄金属片被确定地与热缓冲物作热接触。薄金属片的镀膜一直要继续到其上的膜达到一阶或二阶干涉的指定干涉色为止。在薄金属片被等离子体处理后,借助于在压力为10－3至10－2毫巴的氩气中的磁控管雾化而在被等离子体处理过的薄金属片上溅射上一层铬或含铬合金层。

公开(公告)号：CN106835011B

公开(公告)日：2019-06-25

申请号：CN201611185457.X

申请日：2016-12-20

Applicant: 深圳先进技术研究院

Inventor： 唐永炳 ,  杨扬 ,  秦盼盼 ,  张文军

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  C23C14/16 ,  C23C14/32 ,  C23C14/35 ,  C23C16/26 ,  C23C16/513 ,  C23C28/00 ,  C01B32/05 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C14/022 ,  C23C14/025 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/16 ,  C23C14/325 ,  C23C14/35 ,  C23C16/26 ,  C23C16/513 ,  C23C28/322 ,  C23C28/343

Abstract: 本发明提供了一种具有类金刚石阵列的结构件，包括基体和设置在所述基体上的具有尖端结构的类金刚石纳米针阵列，所述类金刚石纳米针阵列通过对形成在所述基体上的一类金刚石涂层进行刻蚀得到。所述具有类金刚石阵列的结构件可以对细菌的细胞壁产生压力，穿刺细菌的细胞壁使其伸展并最终溶解，导致细菌死亡，有效破坏生物膜的形成，赋予该结构件显著的抗菌性能。本发明还提供了该具有类金刚石阵列的结构件的制备方法。