基于二元纳米光栅的2D/3D可切换立体显示装置

    公开(公告)号:CN116300134A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310057662.1

    申请日:2023-01-18

    Abstract: 本发明涉及一种基于二元纳米光栅的2D/3D可切换立体显示装置,包括:偏振可控光源、光线准直器、像素阵列光调制器和二元纳米光栅相位调制板;从偏振可控光源中出射的光源经过光线准直器进行准直,从光线准直器中出射的准直光经过像素阵列光调制器,进入二元纳米光栅相位调制板;当TM光开启,TE光关闭时,二元纳米光栅对TM光不产生偏折,像素阵列光调制器提供平面图像,实现2D显示;当TE光开启,TM光关闭时,二元纳米光栅对TE光产生光线偏折,通过二元纳米光栅周期、高度、深宽比调控TE光光线的相位,进而调控光线的偏折角度和汇聚位置,实现3D显示。该器件结构简单,裸眼3D显示视场角宽,亮度大,切换简便快速。

    一种基于RGBW的Micro-LED制备系统

    公开(公告)号:CN112817213B

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202110106957.4

    申请日:2021-01-27

    Abstract: 本发明提出一种基于RGBW的Micro‑LED制备系统,包括显影机、刻蚀机、光源模组,还包括在光源模组发光方向上顺序设置的掩膜版和覆有光刻胶的阵列基板;光源模组包括四组光源,每组光源对应显示像素内的一个子像素结构,掩膜版包括多个透光区,每个透光区的中心在阵列基板上的投影均位于与该透光区相对应的子像素结构的中心;当对光刻胶曝光时,四组光源同时透过掩膜版透光区对子像素结构处的光刻胶进行曝光,各组光源的曝光光照强度、曝光光照时长根据与该光源对应的子像素结构需填充的量子点胶体体积决定;显影机、刻蚀机对曝光后的阵列基板进行后续加工以使储液槽成型;本发明可解决由于对量子点的封胶厚度不同导致子像素发光亮度不均衡的问题。

    LED芯片电致发光高速检测系统
    65.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115629289A

    公开(公告)日:2023-01-20

    申请号:CN202211134343.8

    申请日:2022-09-19

    Abstract: 本发明提出一种LED芯片电致发光高速检测系统,核心组件为履带状导电模块,履带状导电模块由两个完全一致的带齿圈柱状主动轮和一个宽度与主动轮的高度相等的能与主动轮啮合的柔性导电链环构成,履带状导电模块平置于待测LED芯片阵列表面,履带状导电模块的主动轮圆柱轴与待测LED芯片阵列平行,使履带状导电模块与待测LED芯片阵列以最大接触面积接触,在检测过程中,履带状导电模块的柔性导电链环能大面积接触待测LED芯片阵列,使多个LED芯片产生电致发光现象,无需频繁地进行垂直方向的移动,可以有效提高检测效率。

    一种高稳定性银纳米线图形化导电薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN113436806B

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN202110519898.3

    申请日:2021-05-13

    Abstract: 本发明涉及一种高稳定性银纳米线图形化导电薄膜的制备方法。所述方法:先在银纳米线导电膜上实现光刻胶的图形化,接着利用半导体氧化物薄膜对未被光刻胶覆盖的银纳米线网络进行加固,最后通过超声使图形化光刻胶粘附底部银纳米线一起剥离出基板,从而实现银纳米线导电膜的图形化。本发明制作工艺简单、成本低,容易实现高分辨率的图形化银纳米线导电膜,同时能增强银纳米线的抗氧化能力和在基板上的附着性。

    基于对比学习的自监督图像分类方法

    公开(公告)号:CN112381116B

    公开(公告)日:2022-10-28

    申请号:CN202011134658.3

    申请日:2020-10-21

    Abstract: 本发明涉及一种基于对比学习的自监督图像分类方法,包括以下步骤:步骤S1:获取无标签数据,并进行随机增强生成不同视图;步骤S2:对视图进行特征提取,无监督对比计算损失,得到无监督分类模型C1;步骤S3:对无标签数据中部分进行人工标注,作为训练验证集;步骤S4:将C1作为预训练模型,根据训练验证集进行微调;步骤S5:提取训练验证集的特征,有监督对比计算损失,得到C2;步骤S6:根据C2对无标签数据预测标签,并筛选置信度高于预设值的数据作为训练样本;步骤S7:基于训练样本,将C2作为预训练模型,选取小网络进行训练微调,将验证输出准确率最高的作为最佳分类模型C3。本发明能够有效利用无标签数据训练泛化的图像分类模型,解决多类图像分类问题。

    新型多功能发光三极管器件的制备方法

    公开(公告)号:CN114203864A

    公开(公告)日:2022-03-18

    申请号:CN202111216718.0

    申请日:2021-10-19

    Abstract: 本发明提出一种新型多功能发光三极管器件的制备方法,其在发光三极管器件的外延层生长过程中,采用多次外延生长,每次外延时通过制备介质层和湿法腐蚀的方式控制器件结构;其中,制备介质层用于控制下一次外延生长的有效区域;湿法腐蚀则用于去除介质层。工艺包括了半导体光刻、半导体外延、湿法腐蚀,通过光刻制备掩膜层、在掩膜层外区域制备介质层、去除掩膜层等制备半导体层的步骤。与现有技术相比,本发明方案解决了光刻工艺中难以保证的精度问题,减小了器件制备的难度,节约了制作成本,对于提高器件制备效率具有重要意义。

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