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公开(公告)号：CN1710487A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200510011494.4
申请日：2005-03-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 连续面形掩模移动光刻曝光装置包括主机大基板、掩模移动工作台系统、均匀照明系统、掩模架、掩模、基片、对准观测系统、基片升降承片台系统、照明均匀性检测系统和控制系统，在主机大基板上分别固定有掩模移动工作台系统和照明均匀性检测系统，掩模移动工作台系统由XY手动台和XY掩模移动台组成，XY掩模移动台上支撑有掩模架，掩模架吸附着掩模，基片被吸附于基片升降承片台系统上，均匀照明系统位于掩模架和掩模的上方，对准观测系统连接在均匀照明系统的一侧，工作台系统、均匀照明系统和照明均匀性检测系统的探测输出信号送入至控制系统进行处理，用于闭环控制。本发明具有掩模移动曝光光刻功能，且操作使用方便。
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公开(公告)号：CN1702548A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200410009117.2
申请日：2004-05-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 不刻透金属掩模板由石英基板加上表面或下表面或上下表面图形相同的不刻透铬或金或铜或银或铝单层金属薄层图形构成，借助光照射具有微细图形结构不刻透金属掩模板产生波长很短的等离子波，等离子波能穿过不刻透单层金属掩模图形的下凹孔和缝槽传播到另一面射出，使一般波长光穿过纳米不刻透金属掩模进行光刻。本发明克服了现有铬掩模板和刻透金属掩模板的纳米图形制作技术复杂，同时又由于受衍射极限的限制，或不能被一般波长或长波长光穿过，无法进行光刻的缺点，用193－1100nm波长光照明，也可光刻制作出纳米量级的图形。
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公开(公告)号：CN1553284A
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：CN03123574.3
申请日：2003-05-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置，由光源(3)、镜组(2)、反射镜(1)和镜组(4)组成的均匀照明系统照明掩模，并使接触接近放置的硅片(7)上的抗蚀剂涂层(6)感光，其特征在于：均匀照明系统的光源(3)是一般波长或长波长激光，镜组(1)和镜组(4)是聚焦扩束准直均匀照明镜组，在均匀照明位置放置的掩模是金属掩模(5)，它与安放在其下方的高分辨率抗蚀剂涂层(6)之间距离为0.005－1000μm。本发明用193－1000nm任意波长激光照明金属掩模，激发金属掩模表面等离子体，通过等离子波传播，出射小发散角光用于光刻，不受衍射极限的限制，不需要复杂昂贵的极短波长光源，就可制作出纳米量级的图形。
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公开(公告)号：CN1167966C
公开(公告)日：2004-09-22
申请号：CN00109948.5
申请日：2000-07-26
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开的0.35微米投影光刻物镜，是一种大规模集成电路制造设备分步重复投影光刻机的高分辨力投影成像物镜。它由外层密封恒温上外套和下外套、中间层镜筒、内层为分隔固定光学透镜元件的透镜框组件组成。它克服了目前国内现有光刻设备投影光刻物镜光刻分辨力低，不能制作高分辨力图形的不足，并且具有双远心特性，结构性能好，制作成本低。
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公开(公告)号：CN1406860A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN01108757.9
申请日：2001-08-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明是一种用原子制作任意超微细图形的装置，由原子束发生器、真空室、通电线圈、激光束、计算全息编码片和基片等构成。它利用磁场、激光场使准直原子束冷却、减速，形成准单色德布罗意波；使准单色德布罗意波通过计算全息编码片孔产生衍射和干涉，在工件台上直接堆积制作出任意形状的超微细图形。该装置克服了现有技术的缺陷，可广泛应用于制作包含纳米图形的超微细三维图形、纳米材料和纳米器件等的研究和开发。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1689844B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200410009039.6
申请日：2004-04-26
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种塑钞亚波长光栅导模共振防伪标记，由塑钞(币)基板(1)、可视见图案(2)、防伪标记区域(3)、区域内的字、字母或图形(4)和塑钞(币)的覆盖层组成，其特征在于：防伪区域(3)中有特定方向范围内可视见的具有防伪功能的字、字母或图形(4)，都是由压制的单方向长短不一密集分布的亚波长波导光栅构成。在塑钞(币)的正面能观察到全亮的单色防伪字、字母或图形，这是由于亚波长波导光栅对入射光的一波长光产生了导模共振，由于导模共振与塑钞(币)基板(1)和覆盖层的材料折射率ns和ng、光栅周期t和光栅高度h2等因素有关，尽管制作简便，但设计较为复杂，因而防伪字、字母或图形不易被仿造，防伪效果极好。
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公开(公告)号：CN101424758B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200810227029.8
申请日：2008-11-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种制作基于金属覆盖层的负折射人工材料的方法，包括：选择石英基片，并将其表面抛光；然后在其表面蒸镀一层SiO2膜；在SiO2膜表面蒸镀一层铬膜，并在其上均匀涂覆一层光刻胶；采用电子束光刻的方法，在光刻胶上制备出介质光栅结构；采用湿法腐蚀技术，将光刻胶作为掩模，腐蚀掉裸露在外的铬膜；采用干法腐蚀技术，将铬膜作为掩模，在高纯SiO2膜上刻蚀出介质光栅结构，去除铬膜；采用真空蒸镀技术，在SiO2光栅结构上蒸镀厚度为h的金属层，基于金属覆盖层的负折射人工材料制作完成。本发明具有制作简便，单层损耗小，单层正入射的特性，在磁共振、近场光学、隐身材料等领域具有很大的应用前景。
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公开(公告)号：CN101051025B
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200710099103.8
申请日：2007-05-11
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 表面等离子体生化传感检测装置，由测试台、金属纳米结构基片、半透半反镜、偏振片、滤光片、准直镜、照明光纤、集光镜、氙灯光源、聚光镜、单色仪、光电倍增管、信号处理数码转换器、被测生化样品、XY扫描台、扫描驱动控制器和计算机部分组成，被测生化样品涂放于金属纳米结构基片上，被上方的照明系统照明后，其反射光通过光学系统的半透半反镜反射，聚光镜聚光，由光电倍增管接收转换为电信号，处理转换为数字信号后送入计算机部分，检测出生化样品的种类，并经扫描台移动快速测出众多个生化样品。该检测装置结构简单、实用、调整方便，灵感度高，检测效速高，易于应用推广。
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公开(公告)号：CN100567955C
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200510012232.X
申请日：2005-07-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种生化分子检测方法，生物分子液体在通过金属微纳结构时，部分生物分子会附着在金属微纳结构的表面，多余的生物分子液体流往废液回收池；光源耦合到光纤中去，然后照射到表面附有生物分子的金属微纳结构上产生表面等离子体波，当光在传感单元表面的波矢分量与表面等离子体的波矢匹配的条件下，共振导致反射光或透射光的能量损失，这在反射光谱或透射光谱中是一个明显的低谷；反射光谱或透射光谱经光谱仪后成像在CCD上，通过CCD将光信号转换为电信号送入计算机处理系统进行分析。本发明可用于DNA分子、蛋白质标定和识别、药物传输、分子器件、病毒探测、细菌探测、微观组织诊断和活性治疗等领域。
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公开(公告)号：CN101446777A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200810246604.9
申请日：2008-12-30
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种超分辨i线光刻装置，包含分离式曝光系统、自净化空气过滤系统以及气控弹性掩膜变形系统；曝光系统采用i线汞灯光源，且光源与匀光照明系统分离，两部分间光能传输通过光纤实现；气控弹性掩膜变形系统中，通过微气泵来改变气压大小使弹性掩膜发生变形，掩膜与芯片的紧密贴合通过控制弹性掩膜变形量的大小得以实现，从而可以得到超分辨光刻分辨力；自净化空气过滤系统，通过装置壳体顶部的空气过滤器循环过滤实现装置内部工作环境达到超净要求；通过包含上述系统的装置，实现在汞灯光源i线紫外光波长下突破一百纳米的超分辨近场光刻功能；该装置光刻分辨力高，结构简单，成本低，操作方便，对环境要求较低，适用于多种纳米结构加工领域。
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