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    涂敷装置及涂敷方法
    61.
    发明公开
    涂敷装置及涂敷方法 失效

    公开(公告)号：CN101428264A

    公开(公告)日：2009-05-13

    申请号：CN200810174564.1

    申请日：2008-11-10

    Applicant: 东丽工程株式会社

    Inventor： 森俊裕 ,  釜谷学

    IPC: B05C5/02 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26 ,  B05D1/02

    Abstract: 一种即使在基板往工作台上固定需要时间的情况下也能够抑制涂敷装置整体的作业周期长期化的涂敷装置及涂敷方法。这种涂敷装置的涂敷方法包括在工作台的表面载置基板的基板载置工序、在载置于工作台的表面的基板上形成初始膜的初始膜形成工序和从涂敷单元喷出涂敷液且在基板上形成涂敷膜的涂敷膜形成工序，基板载置工序具有在工作台的表面吸附基板的吸附工序，该吸附工序包括初始吸附工序和主要吸附工序，初始吸附工序是吸附包括涂敷开始位置的基板的初始膜形成区域，主要吸附工序是吸附除了初始膜形成区域以外的基板的涂敷膜形成区域，在结束初始吸附工序后、结束主要吸附工序前，开始初始膜形成工序。

    用来检测纱线张力的装置和纱线传感器
    62.
    发明授权
    用来检测纱线张力的装置和纱线传感器 失效

    公开(公告)号：CN100351156C

    公开(公告)日：2007-11-28

    申请号：CN200410039658.X

    申请日：2000-05-26

    Applicant: 东丽工程株式会社

    Inventor： 岩出卓 ,  今江正澄 ,  新谷友季子

    IPC: B65H59/40 ,  G01L5/10

    Abstract: 纱线张力检测装置包括在一个缠绕器中的顶点导向器与横动装置之间一个纱线位置传感器、一个布置在横动装置附近的导纱器位置传感器。根据从由横动装置产生横波的时刻至由纱线位置传感器检测到横波的时刻的时间周期，测量横波的视在传播速度，并且根据视在传播速度计算横波的真实传播速度，以计算纱线张力。纱线位置传感器布置在一个由2H/3＜h＜5H/6定义的位置处。一个反射型纱线传感器包括布置在一行中的多对发光元件和光接收元件。

    双面涂覆基材的运送装置
    64.
    发明公开
    双面涂覆基材的运送装置 失效

    公开(公告)号：CN1900644A

    公开(公告)日：2007-01-24

    申请号：CN200610105974.1

    申请日：2006-07-21

    Applicant: 东丽工程株式会社

    Inventor： 奥野清人

    IPC: F26B15/02

    Abstract: 在电池相关部件的涂覆中，通常对于铜箔、铝箔等基材，进行在基材运送方向上以多条进行涂覆即带状涂覆或在基材运送运送方向的垂直方向上间隔涂覆的断续涂覆中的两种或一种。在这种情况下，涂覆液不在基材的整个基材表面进行涂覆，使基材的两端成为非涂覆部。在涂覆刚结束后不久对所述非涂覆部进行握持，通过使基材拉紧而抑制抖动是有效的。本发明的特征在于，在涂覆刚结束后不久，对连续移动的基材的两端进行持久握持，并进行控制使得维持其拉紧状态。

    外围曝光装置
    66.
    发明公开
    外围曝光装置 有权 复审申请

    公开(公告)号：CN1841204A

    公开(公告)日：2006-10-04

    申请号：CN200610066097.1

    申请日：2006-03-28

    Applicant: 东丽工程株式会社

    Inventor： 田尾正则 ,  谷川央树 ,  常吉豪

    IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

    Abstract: 本发明的外围曝光装置具有下列部件：XY支承台(2)，支承涂敷有抗蚀剂的印刷电路板(1)；支承XY支承台(2)的旋转工作台(3)；对印刷电路板(1)的外围进行曝光的外围曝光用光源(4)；保持外围曝光用光源(4)的滑动件(5)；检测外围曝光用光源(4)发射光强度的照度计(6)；向外围曝光用光源(4)提供驱动电流的直流电源(7)；以及控制外围曝光用光源(4)的温度的温度控制机构(8)。本发明的外围曝光装置在实现小型化、简单化的同时，能大幅度减小对曝光对象的不良影响，而且不会无谓地消耗电力，并且对曝光对象的外围区域进行曝光。

    曝光装置和曝光方法
    67.
    发明公开
    曝光装置和曝光方法 有权

    公开(公告)号：CN1834789A

    公开(公告)日：2006-09-20

    申请号：CN200610065501.3

    申请日：2006-03-20

    Applicant: 东丽工程株式会社

    Inventor： 谷川央树 ,  常吉豪 ,  田尾正则 ,  伊藤徹 ,  泉田信也

    IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

    Abstract: 本发明提供一种曝光装置和曝光方法，通过设置：光源装置(5)；放置基板K的平台(3)；可对平台以匀速度进行相对移动来设置，且在平台的上部，被配置成俯视图为对相对移动的方向(X)形成格外倾斜的列，被构成为用激光将由各DMD(72)形成的标记显示(72M)照射在基板上的多个曝光单元(7)；以及平台与曝光单元每相对移动从相邻的曝光单元中的一个曝光单元的曝光结束位置(P0)至另一曝光单元的曝光开始位置(P1)的距离(D1)，按照从最初通过基板上的曝光单元(7A)朝向最后通过基板上的曝光单元(7C)的顺序，转换各曝光单元照射在基板上的激光的转换装置(65、75)，以短节拍时间和低成本的装置构成实现品质优良的曝光像。

    利用激光束的识别码的打印方法和装置
    68.
    发明公开
    利用激光束的识别码的打印方法和装置 失效

    公开(公告)号：CN1782882A

    公开(公告)日：2006-06-07

    申请号：CN200510125046.7

    申请日：2002-10-24

    Applicant: 东丽工程株式会社

    Inventor： 佐藤谦二 ,  森诚树 ,  植原幸大

    IPC: G03F7/20 ,  G02B26/10

    Abstract: 在利用激光束对平台上的被标记物品打印识别码的方法和装置中，使从曝光单元输出的激光束在与对上述平台相对移动方向正交的方向上按时间顺序依次偏移地进行扫描，同时使该照射方向与上述相对移动方向同步地偏移，从而使上述被标记物品上的照射点排列成直角坐标状。另外，其它的打印方法和装置是在1个曝光单元沿相对移动方向移动1个间距的期间打印多列识别码的方法和装置。

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