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公开(公告)号：CN106148873A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201610617140.2
申请日：2016-07-26
Applicant: 河北工业大学
CPC classification number: C23C4/06
Abstract: 本发明钛合金及钛铝金属间化合物表面氧化物基涂层的制备方法，涉及对金属材料的镀覆，步骤是：配制用于热喷涂的铝/金属氧化物复合粉；对所需涂层的钛合金或钛铝金属间化合物工件表面进行喷砂处理；采用热喷涂的方法，将第一步中制备出的铝/金属氧化物复合粉喷涂在第二步中得到的钛合金或钛铝金属间化合物工件表面，从而形成氧化物基涂层。本发明方法省去了现有技术在金属基体喷涂陶瓷基无机复合材料涂层之前先喷涂一层合金底层即结合层的这一通用且固有的步骤，克服了现有技术先喷涂一层合金底层使得制备陶瓷基无机复合材料涂层的工艺复杂、成本明显增加和涂层抗热震性差的缺陷。
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公开(公告)号：CN103484814B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201310466640.7
申请日：2013-10-09
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明硼化钛基无机复合材料涂层的制备方法，涉及对金属材料的镀覆，以微米级的金属Al粉、微米级、亚微米级或纳米级的TiO2粉和微米级、亚微米级或纳米级的B4C粉的混合粉为原料，采用热喷涂的方法将该混合粉喷涂在金属或合金工件表面的合金底层表面上，在热喷涂过程中该混合粉中的Al、TiO2和B4C与送粉气中的氮气发生反应，原位合成出硼化钛基无机复合材料涂层，克服了现有技术制备硼化钛基复合材料涂层的方法所存在的原料成本高、制备工艺复杂、能耗大、效率低、涂层加工精度不易控制、涂层致密度低、涂层均匀性差、涂层与基体结合力差、涂层韧性低、涂层容易开裂、不适合在大规模工业生产中应用的缺点。
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公开(公告)号：CN103345958B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201310227461.8
申请日：2013-06-07
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明为一种含反应等离子喷涂纳米TiN中间层的复合电极材料，该材料组成包括基体，基体上面的粘结底层，粘结底层上面的反应等离子喷涂纳米TiN中间层，以及中间层上面的氧化物催化层；其中，基体是铁基或钛基；粘结底层为含Ni95wt.%的镍铝自熔合金或含Fe50wt.%的铁铝自熔合金层，厚度为30-70μm；反应等离子喷涂纳米TiN层中间层厚度为300-500μm；氧化物催化层厚度10-30μm。本发明与常规钛基和铁基的电极相比，复合电极的析氧电位明显提高（提高20%-25%），Ti/TiN/Sb-SnO2复合电极的强化寿命为无中间层常规电极的3倍，Fe/TiN/PbO2复合电极的强化寿命是Ti/PbO2的360倍。
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公开(公告)号：CN103522653A
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201310466639.4
申请日：2013-10-09
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明用于热浸镀锌的多层复合陶瓷涂层及其制备方法，涉及对金属材料的镀覆，其基体材料为含碳0.05～0.22wt%的普碳钢，以Fe-Al、Ni-Al、CoCrAlY或NiCrAlY的微米晶自熔合金层为底层，以Al-Fe2O3或Al-Cr2O3的铝热自反应合成以陶瓷为基的纳米陶瓷-金属复相层为中间过渡层，以陶瓷玻璃封孔的ZrO2、Al2O3、Cr2O3或Al2O3-ZrO2氧化物陶瓷层为工作层，由此构成具有微米晶-纳米晶-非晶多级结构用于热浸镀锌的多层复合陶瓷涂层；制备方法是用等离子喷涂的方法依次喷涂所配置的原料。克服了现有材料耐液锌腐蚀性能差、力学性能及导热性差或寿命低的缺点。
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公开(公告)号：CN103484814A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310466640.7
申请日：2013-10-09
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明硼化钛基无机复合材料涂层的制备方法，涉及对金属材料的镀覆，以微米级的金属Al粉、微米级、亚微米级或纳米级的TiO2粉和微米级、亚微米级或纳米级的B4C粉的混合粉为原料，采用热喷涂的方法将该混合粉喷涂在金属或合金工件表面的合金底层表面上，在热喷涂过程中该混合粉中的Al、TiO2和B4C与送粉气中的氮气发生反应，原位合成出硼化钛基无机复合材料涂层，克服了现有技术制备硼化钛基复合材料涂层的方法所存在的原料成本高、制备工艺复杂、能耗大、效率低、涂层加工精度不易控制、涂层致密度低、涂层均匀性差、涂层与基体结合力差、涂层韧性低、涂层容易开裂、不适合在大规模工业生产中应用的缺点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100401470C
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200610014041.1
申请日：2006-06-02
Applicant: 河北工业大学
IPC: H01L21/00 , H01L21/20 , H01L21/30 , C23C14/00 , C23C16/00 , C30B25/02 , C30B23/02 , C30B29/06 , C30B33/12
Abstract: 本发明公开了一种控制和消除硅气相外延层雾状微缺陷的方法，旨在提供一种有效消除雾状微缺陷，而且不增加成本以及工艺和设备的复杂性的控制硅气相外延层雾状微缺陷的方法。包括下述步骤：采用常规的化学机械抛光方法对硅衬底片进行双面抛光处理和清洗，在清洗最后的纯水清洗后，向清洗槽内加入氧化剂处理1～15min，使整个硅片表面生成一层洁净的SiO2氧化层，氧化层的厚度一般为3～5nm，再将其放入外延炉中进行外延生长。生长中可控制外延层的厚度大于预定厚度，再用气相抛光去除预留厚度。该方法工艺简单，工作效率高，不需添加额外设备，与常规外延工艺完全兼容，而且消除雾状微缺陷的效果十分显著。
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公开(公告)号：CN1316062C
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN200410072551.5
申请日：2004-10-28
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明涉及一种反应等离子喷涂纳米晶氮化物涂层的方法，其主要步骤是：其基体是工件金属或陶瓷，其表面是合金底层，底层上面是涂层，包括：工件预处理、送入混合离子气体、起弧后再在等离子流中送入喷涂用金属自熔合金粉末对工件表面进行喷涂形成合金底层；送入含氮的反应气体进反应室、送金属粉末进入焰流在合金底层上喷涂形成纳米晶氮化钛涂层。本方法能有效地克服氮化物陶瓷的脆性，提高涂层的韧性和耐磨性、减磨性，抗热震性能，可制备涂层厚度达600μm，高熔点、高硬度、良好的化学稳定性、良好的强韧性、较高的红硬性的纳米晶氮化物涂层，主要用于使用等离子喷涂法制备高熔点纳米晶氮化物陶瓷涂层。
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公开(公告)号：CN1872683A
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN200610013971.5
申请日：2006-05-31
Applicant: 河北工业大学
IPC: C01B33/158 , C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种超大规模集成电路专用纳米硅溶胶的稳定方法，旨在提供一种生产工艺简单，稳定性高的高浓度酸性硅溶胶的制备方法。首先采用阳－阴－阳三次离子交换纯化硅溶胶，之后，将交换后的硅溶胶中加入聚醚型非离子表面活性剂，硅溶胶与活性剂的体积比为1000∶1－1000∶10；再在配制好的硅溶胶溶液中加入酸调整pH值即可。本发明的方法既纯化了硅溶胶，又保障了硅溶胶在酸性条件下的稳定性，简化了生产工艺，提高了生产效率。采用本发明的方法设备成本低、生产时间短、能耗低。
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公开(公告)号：CN1603451A
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：CN200410072552.X
申请日：2004-10-28
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明涉及一种反应等离子喷涂反应室装置，其结构包括等离子喷枪与反应室构成；反应室与等离子喷枪通过螺纹连接在一起；反应室由内套、外套、进水管、出水管、进气管和送粉孔构成；内套和外套管焊接在一起构成反应室的主体结构，内套和外套管间的空间及进水管和出水管组成反应室的冷却部分，出水管和进水管焊在反应室的外套上，靠冷却水的快速流动带走一定的热量，冷却反应室。进气管连接反应室的内套，与反应室的内套和外套焊接在一起。本装置解决了普通等离子喷涂难以制备高熔点的陶瓷涂层的难题，主要用于使用低功率等离子喷涂设备，采用微米级金属粉末制备高熔点的纳米晶陶瓷涂层和粉末的工艺。
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公开(公告)号：CN2931505Y
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200620026268.3
申请日：2006-06-02
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本实用新型公开了一种能消除硅气相外延层中滑移线与高应力区的装置，旨在提供一种在降低热应力作用的同时还能消除机械应力的影响，以控制和消除外延生长中产生的滑移线和高应力集中区，而且工艺简单，生产效率高的能消除硅气相外延层中滑移线与高应力区的装置。包括基座本体，所述基座本体上设置有安放槽，与所述安放槽底部边缘的距离为1－5mm处设置有最外圈沟槽，最外圈沟槽内的安放槽内设置有互相连通的沟槽。使用本实用新型的装置，在消除热应力的同时还消除了机械应力的影响，其效果超过了SEMI国际标准，达到了控制和消除滑移线与高应力集中区的工艺目的，而且使得工艺简单，便于操作，生产效率高，成本低。
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