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公开(公告)号：CN111183373B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201880062537.7
申请日：2018-08-10
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明的防反射薄膜(100)是在透明薄膜基材(1)的一个主表面具备包含折射率不同的多个薄膜的防反射层(5)。防反射层包含与透明薄膜基材接触的底漆层(50)。底漆层的氩的含量为0.5原子％以下。底漆层(50)例如为硅氧化物层。防反射薄膜的透湿度优选为1g/m2·24h以下。带防反射层的偏光板(101)于偏光件(8)上具备上述防反射薄膜(100)。
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公开(公告)号：CN112020424A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201980027678.X
申请日：2019-04-22
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明涉及电磁波透过性金属光泽物品(1)，其具备：基体(10)、在前述基体(10)上形成的金属层(12)、和在前述金属层(12)的与前述基体侧处于相反侧的面上形成的阻隔层(13)，前述金属层(12)包含多个部分(12a)，所述多个部分(12a)中，至少一部分彼此处于不连续的状态。
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公开(公告)号：CN112004665A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201980027687.9
申请日：2019-04-22
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明涉及电磁波透过性金属光泽物品(1)，其具备：具有凹凸面的基体(10)、和在前述基体(10)的前述凹凸面上形成的金属层(12)，前述金属层(12)包含多个部分(12a)，所述多个部分(12a)的至少一部分彼此处于不连续的状态。
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公开(公告)号：CN111183373A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201880062537.7
申请日：2018-08-10
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明的防反射薄膜(100)是在透明薄膜基材(1)的一个主表面具备包含折射率不同的多个薄膜的防反射层(5)。防反射层包含与透明薄膜基材接触的底漆层(50)。底漆层的氩的含量为0.5原子％以下。底漆层(50)例如为硅氧化物层。防反射薄膜的透湿度优选为1g/m2·24h以下。带防反射层的偏光板(101)于偏光件(8)上具备上述防反射薄膜(100)。
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公开(公告)号：CN108603965A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780008717.2
申请日：2017-01-27
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: B32B9/00 , C23C14/08 , G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/04
Abstract: 本发明提供作为阻隔薄膜及偏光板发挥功能、且抑制了裂纹的产生的光学层叠体。本发明的光学层叠体依次具有：偏光件；应力松弛层；基材；包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层；和由SiO2构成的第2氧化物层，应力松弛层的弹性模量为0.01MPa～70GPa，且厚度为13μm～200μm。在一个实施方式中，应力松弛层由粘合剂构成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105473756A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201580001616.3
申请日：2015-05-15
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: C23C14/58 , B32B7/02 , B32B9/00 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/35 , C23C14/5806 , H01B1/02 , H01B3/426 , H01B3/427 , H01L31/022466
Abstract: 提供能够飞跃性提高晶体转化处理后的透明导电层相对于晶体转化处理前的透明导电层的电特性、实现进一步的低电阻化的透明导电性薄膜。透明导电性薄膜(1)具备薄膜基材(2)和形成于该基材的一个主表面(2a)的结晶质透明导电层(3)。晶体转化处理前的非晶质透明导电层的载流子密度na×1019为(10～60)×1019/cm3、霍尔迁移率μa为10～25cm2/V·s，晶体转化处理后的结晶质透明导电层(3)的载流子密度nc×1019为(80～150)×1019/cm3、霍尔迁移率μc为20～40cm2/V·s，由{(nc-na)2+(μc-μa)2}1/2定义的移动距离L为50～150。
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公开(公告)号：CN119604787A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202480003259.3
申请日：2024-07-09
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明的抗反射膜(X)具备基材膜(10)、基材膜(10)上的密合层(21)、以及密合层(21)上的抗反射层(22)。抗反射层(22)包括与密合层(21)相接的高折射率层(22a)和高折射率层(22a)上的低折射率层(22b)。抗反射层(22)的与基材膜(10)相反一侧的表面(22A)的表面粗糙度Sa为4.5nm以下。在抗反射膜(X)的厚度方向(H)的剖视观察下，高折射率层(22a)与低折射率层(22b)的界面处的第二界面长度(L2)相对于基材膜(10)与密合层(21)的界面处的第一界面长度(L1)的比率(L2/L1)为1.10以上。
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公开(公告)号：CN119096168A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202380035774.5
申请日：2023-04-18
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 抗反射膜(10)依次具有：透明膜基材(11)、硬涂层(12)以及抗反射层(13)。抗反射膜(10)的耐热性试验前后的第一方向的尺寸变化率优选为－0.10％以上且0.10％以下。此外，抗反射膜(10)的耐湿热性试验前后的第一方向的尺寸变化率优选为0.01％以上且0.20％以下。透明膜基材(11)优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
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公开(公告)号：CN115803187B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202180049370.2
申请日：2021-07-13
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B7/022 , G02B1/18 , G02B1/14 , G02B1/115 , G02B1/113 , G02B1/10 , C23C14/34 , C23C14/08 , C23C14/06 , B32B27/00 , B32B9/00
Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)依次具备透明基材(11)、硬涂层(12)、无机氧化物基底层(13)和防污层(14)。防污层(14)是配置在无机氧化物基底层(13)上的干法涂布膜。防污层(14)的与无机氧化物基底层(13)相反一侧的表面(14a)的通过纳米压痕法而测得的25℃下的硬度(GPa)与弹性恢复率之积为0.8以上。
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公开(公告)号：CN118696622A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202380023854.9
申请日：2023-02-27
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供在不使用偏振板的OLED显示装置中不易产生干涉不均的OLED显示装置中使用的光学层叠体。本发明提供一种在OLED元件的视觉辨识侧仅层叠有偏振度为95%以下的光学元件的OLED显示装置中使用的光学层叠体。上述光学元件至少在视觉辨识侧具有减反射层。
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