利用金刚石NV色心原位表征异质界面状态的方法

    公开(公告)号:CN111584382A

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN202010345111.1

    申请日:2020-04-27

    Abstract: 利用金刚石NV色心原位表征异质界面状态的方法,本发明属于半导体材料及器件技术领域,它要解决现有在异质结两相相接界面处电荷状态分布、电子输运特性难以采用常规方法进行精确测量的问题。表征方法:一、对金刚石基底进行清洗;二、通过CVD法在金刚石基底表面生长NV色心层;三、使用显微镜聚焦到金刚石上生长的NV色心层,测得测试点处的第一次拉曼光谱;四、在生长NV色心层的金刚石表面生长待测的异质结;五、再次测得测试点处的拉曼光谱;将测试点处的第一次拉曼光谱与第二次拉曼光谱进行对比。本发明通过在界面连接处的金刚石亚表面层使用MPCVD法生长含有NV色心的薄层,能够准确的表征出异质界面状态的改变。

    串行总线故障模拟系统及模拟方法

    公开(公告)号:CN108958997A

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201810503937.9

    申请日:2018-05-23

    CPC classification number: G06F11/221 G06F11/2273 G06F11/261

    Abstract: 本发明提供串行总线故障模拟系统及模拟方法,属于计算机可靠性能评价技术领域。本发明所述串行总线故障模拟系统,包括控制机和故障注入器;控制机根据用户要求生成故障命令,将故障命令发送给故障注入器,接收故障注入器反馈的注入结果和目标系统状态,并将其反馈给用户;故障注入器采用现场可编程逻辑器件FPGA,根据来自控制机的故障命令对故障注入所需的所有参数进行设置,在接收到来自于串行总线的数据后,向数据当中注入故障,并将修改后的数据发送给串行总线,将得到的注入结果和目标系统状态返回给控制机。本发明解决了现有总线故障注入用以验证计算机可靠性时,实时性低的问题。本发明可用于总线故障模拟。

    光导型双色紫外红外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN101572278B

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN200910072199.8

    申请日:2009-06-05

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 光导型双色紫外红外探测器及其制备方法,它涉及一种双色紫外红外探测器结构及其制备方法。本发明解决了现有的同时探测红外和紫外信号的双色红外紫外探测器的结构复杂及探测成本高的问题。探测器结构是在蓝宝石衬底外延依次生长有AlN层、GaN层、GaN/Alx1Ga1-x1N多量子阱、GaAs过渡层、GaAs/Alx2Ga1-x2As多量子阱和GaAs盖层;方法:1.蓝宝石衬底置于分子束外延系统中进行氮化;2.在蓝宝石衬底上生长AlN层;3.在AlN层上生长GaN层;4.在GaN层生长GaN/Alx1Ga1-x1N多量子阱;5.在GaN/Alx1Ga1-x1N多量子阱上生长GaAs;6.在GaAs上生长GaAs/Alx2Ga1-x2As多量子阱;7.GaAs/Alx2Ga1-x2As多量子阱生长GaAs盖层即得双色紫外红外探测器结构。本发明光导型双色紫外红外探测器结构简单,探测成本低。

    光导型双色紫外红外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN101572278A

    公开(公告)日:2009-11-04

    申请号:CN200910072199.8

    申请日:2009-06-05

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 光导型双色紫外红外探测器及其制备方法,它涉及一种双色紫外红外探测器结构及其制备方法。本发明解决了现有的同时探测红外和紫外信号的双色红外紫外探测器的结构复杂及探测成本高的问题。探测器结构是在蓝宝石衬底外延依次生长有AlN层、GaN层、GaN/Alx1Ga1-x1N多量子阱、GaAs过渡层、GaAs/Alx2Ga1-x2As多量子阱和GaAs盖层;方法:一、蓝宝石衬底置于分子束外延系统中进行氮化;二、在蓝宝石衬底上生长AlN层;三、在AlN层上生长GaN层;四、在GaN层生长GaN/Alx1Ga1-x1N多量子阱;五、在GaN/Alx1Ga1-x1N多量子阱上生长GaAs;六、在GaAs上生长GaAs/Alx2Ga1-x2As多量子阱;七、GaAs/Alx2Ga1-x2As多量子阱生长GaAs盖层即得双色紫外红外探测器结构。本发明光导型双色紫外红外探测器结构简单,探测成本低。

    一体化无外接原料气体的高品质金刚石MPCVD生长设备及生长方法

    公开(公告)号:CN114032526B

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202111328019.5

    申请日:2021-11-10

    Abstract: 一体化无外接原料气体的高品质金刚石MPCVD生长设备及生长方法,它为了解决现有MPCVD生长设备需要以氢气、甲烷等作为原料气体,气体管路安装复杂的问题。本发明金刚石MPCVD生长设备中反应室内腔腔体套设在反应室外腔腔体内部,反应室内腔腔体的底部与竖直波导管相连通,水平波导管的一端与微波源相连,石墨碳源可控样品台设置在反应室内腔腔体内,石墨碳源可控样品台与竖直波导管同轴设置在石墨碳源可控样品台的上表面开有沟槽,沟槽内装填有石墨碳源,石墨碳源可控样品台的底部设置有升降装置。本发明碳源来自于固态碳源石墨粉末刻蚀,不需要气体碳源外接管路,提高了生长样品的纯度与生长过程的安全性。

    一种增强型金刚石基场效应晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN118448467A

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202410394378.8

    申请日:2024-04-02

    Abstract: 本发明提供一种增强型金刚石基场效应晶体管,包括金刚石衬底、源极、漏极、栅极和低功函数金属耗尽层;金刚石衬底上形成有氢终端表面,氢终端表面为金刚石衬底氢化处理得到,氢终端表面接触空气形成导电沟道,源极和漏极设置于导电沟道的两端;低功函数金属耗尽层设置于导电沟道上,并位于源极和漏极之间;低功函数金属耗尽层的功函数小于4.9eV,厚度为5‑50nm,低功函数金属耗尽层与导电沟道形成肖特基接触;低功函数金属耗尽层材质为金、铝、钛、锆、铂、铪及钇中的至少一种;低功函数金属耗尽层上设置有栅电极,低功函数金属耗尽层通过介质层与栅电极导通。本发明的低功函数金属耗尽层与导电沟道形成肖特基接触,夹断沟道实现常关特性,阈值电压稳定。

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