-
公开(公告)号：CN1945863A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200610117009.6
申请日：2006-10-11
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: H01L33/00 , H01L31/0304 , H01L29/20 , H01L21/20
Abstract: 本发明公开了一种生长在Al2O3衬底上的复合缓冲层及制备方法，该复合缓冲层包括：依次排列生成的AlN层、GaN层、InN:Mn层及InN过渡层。制备方法采用MBE生长方式，首先采用高温氮化技术在Al2O3表面形成AlN层；再分三步进行GaN层生长；进一步在GaN层上，生长InN:Mn层；再生长InN过渡层。由于Mn的扩散系数较大，在InN薄膜生长时掺入少量的Mn原子可以起到活性剂作用，有利于InN的成核和InN成核岛之间的融合，使得InN:Mn在GaN层上很快由三维变为二维生长。为防止Mn的扩散对于后续InN单晶薄膜的物理性质的影响，在生长好InN:Mn层后，再生长InN过渡层。最后，在AlN－GaN－InN:Mn－InN复合缓冲层的基础上就可生长高质量的InN单晶薄膜。
-
公开(公告)号：CN1298020C
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：CN200410089448.1
申请日：2004-12-13
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所 , 上海蓝宝光电材料有限公司
Abstract: 本发明提供一种用于氮化镓外延生长的复合衬底，该衬底由单晶硅片、二氧化硅层和单晶硅薄膜单元构成的阵列层组成。单晶硅薄膜单元为正方形，边长由光刻技术所能达到的最小线宽决定，厚度为2～100nm，单元间隔小于或等于所要生长GaN外延层的厚度。本发明的优点是结构简单，成本低廉，便于大规模生产，可以生长面积大、厚度大、位错密度非常低的GaN外延层，可用于制造发光亮度高、电学性质优良的GaN基半导体发光二极管、半导体激光器及其它光电子器件。
-
公开(公告)号：CN1862272A
公开(公告)日：2006-11-15
申请号：CN200610025716.2
申请日：2006-04-14
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种探测波长可调的太赫兹光电探测器，该探测器由多量子阱芯片和超导磁体系统组成。它是应用外加磁场为调谐手段对探测频率进行调节的多量子阱结构的THz光电探测器。本发明的优点是克服了n－QWIP器件原理上导致的缺点，抑制了热辅助的暗电流和声子散射几率，增大了光生载流子寿命，提高探测器的响应率，并最终提高了探测器的探测率。本发明器件所用材料制备工艺成熟，材料均匀性好。
-
公开(公告)号：CN1793874A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200510111477.8
申请日：2005-12-14
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: G01N23/227 , G01N13/00 , G01N1/28
Abstract: 本发明公开了一种测量半导体纳米结构光电性能的设备和方法，该设备包括：扫描探针显微镜、脉冲激光器、透镜和光电信号耦合测量部件。该方法是：利用扫描探针显微系统精确的空间定位和控制能力，使用导电针尖作为纳米电极，并采用背面入射的方法将脉冲激光引入样品待测区域，在对样品实施结构扫描的同时获得特定纳米区域的光激发电学特性。本发明的优点是：利用扫描探针显微镜的导电针尖作为高精度、高稳定性的移动纳米电极，可以对样品表面的微观区域进行光电响应的二维成像，像点间的信息具有很高的可比性，有助于对半导体光电功能材料的均匀性实施高分辨率的检测。
-
公开(公告)号：CN1787234A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510027144.7
申请日：2005-06-24
Applicant: 华东师范大学 , 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 一种量子阱红外探测器(QWIP)焦平面(FPA)的制备方法，制备从两异质晶片，硅晶片和GaAs晶片开始，硅晶片和GaAs晶片上分别制有硅基读出集成电路和终止层、下电极层、量子阱层、上电极层、二维光栅，首先用化学机械平坦化工艺，使制有硅基读出集成电路的硅晶片的表面光滑、平整、清洁，接着在把同样光滑、平整、清洁的GaAs晶片的上电极与硅晶片上的对应的金属电极对位，用低温异质晶片键合方法对两晶片进行预键合、低温热处理，直至两晶片键合在一起，然后减薄GaAs晶片的籿底，选择刻蚀蚀去剩余的籿底，用腐蚀液蚀去终止层，最后完成量子阱红外探测器与硅基读出集成电路对应电极的连接，得产品，量子阱红外探测器焦平面。该方法具有制造成本低、产品机械强度高和可靠性好等优点。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1776442A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN200510110630.5
申请日：2005-11-23
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所 , 上海蓝宝光电材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种检测氮化镓基半导体发光二极管质量优劣的方法。它是根据GaN基半导体发光二极管中存在的压电效应和InN类量子点结构，通过测量在不同注入电流下，发光峰位的蓝移量来判断发光二极管性能的优劣。在相同注入电流下，如果发光峰位蓝移量越大，电流的注入效率就越高，电流在芯片、电极、支架、引线等器件各个部分上的损失就越小。这就说明制造发光二极管的各个工艺过程，如材料生长、电极加工、封装控制的比较好，产品的质量相对就比较高。本发明具有操作简单，易于批量使用的特点。
-
公开(公告)号：CN1702926A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510025274.7
申请日：2005-04-21
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: H01S5/00
Abstract: 本发明公开了一种激发光源和量子点发光光源集成的、灵巧的、便携式微型单光子光源。激发光源为激光二极管，发光光源为量子点嵌埋的三维光学微腔。以激光二极管的芯片作为衬底，在衬底上依次排列量子点嵌埋的三维光学微腔和滤光片。三维光学微腔是由微腔膜系和膜系四周刻蚀呈三角格子周期性分布的圆柱形空气柱构成的。这种结构的优点是：在微腔膜系的垂直方向上形成一维光子晶体，同时微腔膜系又与空气柱形成二维光子晶体，整个结构构成一个三维光子晶体微腔，当嵌埋在微腔中的量子点被激光二极管激发时，由于三维光学微腔的选模作用，可以获得性能优良的单光子输出，形成单光子源。
-
公开(公告)号：CN1225826C
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN03129509.6
申请日：2003-06-26
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种半导体太赫兹相干光源器件，它是利用耦合量子阱结构将量子阱激光器输出的激光转换成太赫兹辐射源。器件包括：激发功能块和发光功能块二部分。其特征是：激发功能块选用工艺上已非常成熟的GaAs/AlGaAs量子阱激光器，发光功能块为GaAs/InGaAs耦合量子阱结构。二大功能块通过分子束外延集成为一体。本发明的器件的最大优点是：由于激发部分和发光部分是通过薄膜技术集成为一体，因此，激发部分的出射激光将被有效地耦合到发光部分，这样发光效率实际上是内量子效率，大大提高了激发光的效率。而且它的制备工艺十分简单且成熟。器件达到了小型化，使用方便的目的。
-
公开(公告)号：CN1638218A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410084778.1
申请日：2004-11-30
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于单光子源的单量子点嵌埋光学微腔及制备方法，光学微腔包括：衬底，与衬底牢固结合的光学微腔，嵌埋在光学微腔中的单量子点。所说的光学微腔由光学膜系构成，其膜系的带通峰位与量子点的荧光峰位一致。其制备方法是将量子点的生长过程与光学微腔的制备过程分离开来，使其不再直接关联，从而使得两个制备过程之间不再相互制约，极大地拓宽了两个独立制备过程各自的选择范围，可以设计制备出性能更优良的光学微腔和量子点，而且大大简化了整个制备工艺过程，最终使得制备高性能的单量子点嵌埋光学微腔成为现实。
-
公开(公告)号：CN1622285A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：CN200410089448.1
申请日：2004-12-13
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所 , 上海蓝宝光电材料有限公司
Abstract: 本发明提供一种用于氮化镓外延生长的复合衬底，该衬底由单晶硅片、二氧化硅层和单晶硅薄膜单元构成的阵列层组成。单晶硅薄膜单元为正方形，边长由光刻技术所能达到的最小线宽决定，厚度为2～100nm，单元间隔小于或等于所要生长GaN外延层的厚度。本发明的优点是结构简单，成本低廉，便于大规模生产，可以生长面积大、厚度大、位错密度非常低的GaN外延层，可用于制造发光亮度高、电学性质优良的GaN基半导体发光二极管、半导体激光器及其它光电子器件。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
378
records
(took 0.048 seconds)
