微透镜阵列成像组件的制备方法

    公开(公告)号:CN114913558A

    公开(公告)日:2022-08-16

    申请号:CN202110179851.7

    申请日:2021-02-08

    Abstract: 本申请涉及的一种微透镜阵列成像组件的制备方法,包括:S1、提供微透镜阵列组件,微透镜阵列组件包括基底和形成在基底正面的若干微透镜单元,若干微透镜单元形成微透镜阵列;S2、在基底的背面制备若干遮光部,遮光部由挡光材料形成,遮光部正对微透镜单元的位置布置;S3、在正面涂覆黑色光阻材料,黑色光阻材料为负性感光材料;S4、对背面进行紫外泛曝光;S5、溶解去除涂覆在微透镜单元上的黑色光阻材料;S6、去除遮光部。本申请通过在基底的正面涂覆黑色光阻材料、在基底的背面精准的涂覆挡光材料,并在基底的背面进行紫外泛曝光,从而制备得到在微透镜单元的间隙上精确覆盖黑色光阻材料的高效率、高精度的微透镜阵列成像组件。

    一种投影幕布
    42.
    发明公开
    一种投影幕布 审中-实审

    公开(公告)号:CN114815489A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202110062212.2

    申请日:2021-01-18

    Abstract: 本发明提供一种投影幕布。所述投影幕布至少包括着色层、扩散层、菲涅尔透镜层中的一层、以及反射层;其中,菲涅尔透镜层为球面菲涅尔透镜层或非球面菲涅尔透镜层,菲涅尔透镜层包括沿着一平面突起的若干环状凸起,所述若干环状凸起以环带排列,且沿着垂直于所述平面的截面,每个环状凸起的截面形状为三角形或多台阶形或自由面形,每个截面形状平行于所述平面的边宽度渐变,截面形状及其宽度的渐变,决定球面菲涅尔透镜层或非球面菲涅尔透镜层的聚光特性;每个环状凸起表面具有散点微结构,反射层为金属层或金属合金层,且其采用电镀、蒸镀、溅射或涂布工艺制备。本发明提供的投影幕布表现出比现有投影幕布具有更高的亮度、以及更大的视角。

    一种指纹识别微透镜成像组件的制备方法

    公开(公告)号:CN114578463A

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN202011383383.7

    申请日:2020-12-01

    Abstract: 本发明涉及一种指纹识别微透镜成像组件的制备方法,包括:S1、提供微透镜阵列,在微透镜阵列表面涂覆正性光刻胶,正性光刻胶厚度大于微透镜阵列高度;S2、去除微透镜周围的正性光刻胶并保留微透镜上表面的正性光刻胶;S3、在正性光刻胶表面和微透镜的间隙处喷涂一层黑色光阻材料;S4、对黑色光阻材料紫外泛曝光;S5、将正性光刻胶及其表面的黑色光阻材料剥离,得到指纹识别微透镜成像组件。该加工方法简单,制备出位置精度高、遮光效果好的指纹识别微透镜成像组件,解决了对准套刻中识别精度和遮光效果之间的技术矛盾问题,可以选择吸光系数更大的黑色光阻实现增强成像分辨率和提高信噪比,同时又可以获得较高的对位精度。

    裸眼三维显示装置
    44.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112269271B

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202011536267.4

    申请日:2020-12-23

    Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置,其包括:显示部件,其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列;和,视角调控器件,其包括由多个视角调控单元阵列排布而成的视角调控单元阵列,其中每个视角调控单元与多个显示单元相对应,所述显示单元被分为多组,每组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为一个视角,不同组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为不同视角,每组显示单元中的各个显示单元对应不同视角调控单元,每个视角调控单元对应的多个显示单元被分到不同组中。这样,可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果,可再现全视差图像。

    一种体全息元件制作方法
    45.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106406061B

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN201611033273.1

    申请日:2016-11-16

    Abstract: 本发明公开了一种体全息元件,其包括至少一像素化的信息层和至少一基材层,信息层设置于基材层上,或者信息层设置于相邻的两基材层之间;从体全息元件的剖面看,其信息层具有阵列分布的像素化的条纹面,每个像素内部的条纹面具有周期性,并且与基片平面具有夹角,每个像素为反射布拉格体光栅。本发明还公开了一种像素化反射体全息元件的制作方法和制作系统。本发明通过干涉光束调控、在体全息记录材料的感光层上进行像素化拼接曝光,经后续化学或物理处理,构成复杂光学参数的像素化的反射体全息光学元件。

    光刻方法
    46.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111999984B

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN201910448289.6

    申请日:2019-05-27

    Abstract: 本发明公开一种光刻方法,用于将待处理图形进行无掩模版的光刻,所述方法包括如下步骤:S1:将所述待处理图形进行K次拆分,形成K幅子图形;S2:预设分割宽度M,分别将K幅所述子图形按照所述预设分割宽度M切割成n条子条带;S3:将K幅所述子图形中形成的n条宽度为M的所述子条带进行重组,形成n条新条带;S4:光刻所述新条带,其中,每完成一条新条带光刻,步进一条所述子条带的宽度M,进行另一待处理的新条带光刻。通过将待处理图形拆分分割形成的n条子条带进行重组,实现子条带分辨率的增强,从而达到光刻分辨率增强的效果。

    一种消除零级衍射影响的结构光组件

    公开(公告)号:CN113009705A

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN201911317253.0

    申请日:2019-12-19

    Abstract: 本发明提供一种消除零级衍射影响的结构光组件,包括:激光光束;衍射光学器件,用于接收及扩束激光光束,并向图形面投射图案化光束;折射透镜,位于衍射光学器件的一侧,用于使图案化光束中的零级衍射光在图形面上形成背景光,并使图案化光束中的负一级衍射光或正一级衍射光在图形面上聚焦形成图案。本发明提供的消除零级衍射影响的结构光组件,将衍射器件和折射透镜相结合,入射激光从衍射器件出射到图形面之间没有聚焦点,既能使图形面上形成的图案更加清晰,也能对激光安全防护起到作用。

    三维微纳结构光刻系统及其方法

    公开(公告)号:CN112799286A

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN201911115238.8

    申请日:2019-11-14

    Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统,包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台,数字掩模装置与空间光调制器电性连接,投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间,旋转工作台用于固定待光刻的基片;数字掩模装置用以生成数字掩模,数字掩模包括图形曝光区,数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器,空间光调制器用以显示数字掩模,空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜,图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比;投影物镜将图形光投影在基片上,旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统,结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。

    温度控制装置
    49.
    发明公开
    温度控制装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN112731767A

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN201910974007.6

    申请日:2019-10-14

    Abstract: 本申请涉及一种温度控制装置,安装于激光直写设备上,激光直写设备包括架体、设置在架体内用以进行激光直写的工作区域、位于工作区域上方的密闭区域、位于工作区域下方的温控区域及与工作区域、温度控制装置信号连接的控制器,温度控制装置包括:温度传感器,设置在工作区域内以检测工作区域内的温度;冷水机,与温度传感器信号连接;风道机构,竖向设置在工作区域内且连接温控区域及密闭区域;冷凝翅片,设置在温控区域内且连接冷水机及风道机构;风扇,设置在风道机构上;风机过滤器,设置在密闭区域内且用以将流向至工作区域的气流过滤。本申请的温度控制装置能够集成至激光直写设备上,且控温精度高。

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