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公开(公告)号：CN114578463A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202011383383.7
申请日：2020-12-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州迈塔光电科技有限公司
IPC: G02B3/00 , G03F7/00 , G03F7/42 , H01L27/146
Abstract: 本发明涉及一种指纹识别微透镜成像组件的制备方法，包括：S1、提供微透镜阵列，在微透镜阵列表面涂覆正性光刻胶，正性光刻胶厚度大于微透镜阵列高度；S2、去除微透镜周围的正性光刻胶并保留微透镜上表面的正性光刻胶；S3、在正性光刻胶表面和微透镜的间隙处喷涂一层黑色光阻材料；S4、对黑色光阻材料紫外泛曝光；S5、将正性光刻胶及其表面的黑色光阻材料剥离，得到指纹识别微透镜成像组件。该加工方法简单，制备出位置精度高、遮光效果好的指纹识别微透镜成像组件，解决了对准套刻中识别精度和遮光效果之间的技术矛盾问题，可以选择吸光系数更大的黑色光阻实现增强成像分辨率和提高信噪比，同时又可以获得较高的对位精度。
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公开(公告)号：CN114519870A
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202011279520.2
申请日：2020-11-16
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州迈塔光电科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种光学图像采集单元、其制作方法、光学图像采集器件及电子设备。该光学图像采集单元通过上层遮光区和下层遮光区的配合，使其在结构上无需设置挡墙，与现有技术相比，整体厚度更小，结构相对简单；另外，通过下层遮光区还可以进一步减小散光的干扰，上层遮光区及下层遮光区结合可避免杂散光干扰，提高图像采集精度。该光学图像采集单元的制备方法通过制作上层遮光区和下层遮光区来实现挡光的作用，并且，下层遮光区的下开口直接通过激光结合微透镜即可实现，与现有技术相比，制作简单。
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公开(公告)号：CN213303046U
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202022078888.4
申请日：2020-09-21
Applicant: 苏州迈塔光电科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G06K9/00
Abstract: 本实用新型涉及一种光学图像采集单元、光学图像系统及电子设备。该光学图像采集单元包括基材、设置在所述基材上侧的透光层、部分覆盖在所透光层上的遮光层，所述透光层包括平面部、凸起部和微透镜部，所述遮光层覆盖所述平面部和凸起部、并在所述微透镜部上形成复数个光栅窗口，所述凸起部高于所述微透镜部。通过形成高于微透镜部的凸起部可以阻挡微透镜部侧面光线传递至微透镜部上，以避免及减少光束的串扰，提高感测精度干扰，且与现有技术相比，无需将平面部垫高，节省了材料，也减小了整体体积。
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公开(公告)号：CN213365537U
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202022646290.0
申请日：2020-11-16
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州迈塔光电科技有限公司
Abstract: 本实用新型涉及一种光学图像采集单元、光学图像采集器件及电子设备。该光学图像采集单元，包括具有上表面和下表面的基材、形成在所述上表面上的上层遮光区和形成在所述下表面上的下层遮光区，所述上层遮光区上贯通形成有若干上开口，所述上表面上形成有微透镜阵列，所述微透镜阵列包括若干微透镜部，所述微透镜部穿过所述上开口以暴露在上层遮光区外，所述下层遮光区上贯通形成有若干下开口，所述微透镜部的正投影覆盖所述下开口。光学图像采集单元整体厚度更小，结构相对简单，且可减小散光的干扰及提高图像采集精度。
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公开(公告)号：CN111844736B
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN201910340369.X
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/336 , B29C64/245 , B29C64/194 , B22F3/105 , C12M3/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00
Abstract: 本发明提供一种三维打印系统、利用其制作金属微納结构和在薄膜衬底上制作微納结构的方法。所述三维打印系统包括：输送透明薄膜传送带输送的传送机构，上料机构，设置于机台的投影窗口上方的透明支撑板、载物机构和成像机构。所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置，所述载物机构包括载物板和载物驱动部件，所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带；所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。本发明中的三维打印系统不仅可以实现正常的三维打印，还可以在薄膜衬底上制作微納结构，并且还可以制作金属微納结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113495432B
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202010269164.X
申请日：2020-04-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本发明还公开了一种光刻方法，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。
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公开(公告)号：CN114147957B
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202010930423.9
申请日：2020-09-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/255 , B29C64/245 , B29C64/282 , B29C64/286 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02 , G02B27/09
Abstract: 本发明公开了一种基于投影曝光技术的3D打印系统，包括用于存储液体感光树脂且底部为透明玻璃的物料存储装置、用于曝光感光树脂以形成所需产品的打印设备、实现打印设备相对于物料存储装置的运动平台，打印设备包括光学机构，光学机构设置在透明玻璃的下方，光学机构沿光路传播路径依序包括点光源、将点光源扩束为面光源并整形为平行面光源的整形扩束镜组、用于上载图像的数字微镜元件、将整形后的平行光进行微缩的二级微缩透镜组和将微缩后的光投射至感光树脂上的投影物镜，以及将图像上传至数字微镜元件上的数据处理机构。本发明还公开了一种3D打印的方法，该方法通过上述的基于投影曝光技术的3D打印系统实现。通过上述结构，提升了打印的精度。
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公开(公告)号：CN118444494A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202310081167.4
申请日：2023-02-03
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种裸眼3D显示装置，包括光源、背光屏幕和显示屏幕；所述背光屏幕设置在所述光源的出射光路上，所述显示屏幕设置在所述背光屏幕的出射光路上，所述背光屏幕上形成有多组像素阵列，每组所述像素阵列包括多个像素，每个所述像素包括微纳结构，用于将入射光线衍射至对应的视点；所述显示屏幕用于提供多视角图像，以及对来自所述背光屏幕提供的入射光线进行振幅调制，根据所述多视角图像和调制后的入射光线生成3D立体影像进行显示。实现具有光源兼容性高、光源利用效率更高效、制作难度更低、无视觉疲劳、宽色域和大幅面等优点的裸眼3D显示装置。
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公开(公告)号：CN114913559B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202110179852.1
申请日：2021-02-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G06V40/13 , G06V10/147 , G02B3/00
Abstract: 本发明涉及一种微透镜阵列成像组件的生产装置及制备方法，该微透镜阵列成像组件的生产装置通过传输系统传输基底，使基底依次通过出胶系统、压印系统、喷涂系统、显影系统和清洁系统，以依次完成在基底上涂覆胶水、在基底上压印出微透镜阵列、在基底正面和背面涂覆黑色光阻材料和挡光材料并在基底背面进行曝光、向基底正面喷涂显影剂以及对基底进行清洁，从而制备得到高效率、高精度的微透镜阵列成像组件。
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公开(公告)号：CN117666292A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202211462987.X
申请日：2022-11-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种用于偏振干涉光刻的光路结构与偏振干涉光刻系统，所述光路结构包括串接在光路上的光源模块、偏振组件、分光组件、成像组件；所述光源模块用于产生具有相干特性的线偏振光束；所述分光组件用于将射入的光线分出两束光线且射向所述成像组件，两束光线的夹角可变且可绕入射光线光轴旋转，所述成像组件用于将两束光线汇聚在光刻基片表面；所述分光组件配合所述偏振组件用于将线偏振光进行光学调制，使光束到达光刻基片时为两束偏振方向相反的圆偏振光，进而形成偏振干涉光场。本发明建立偏振干涉光刻系统，通过控制分光组件和偏振组件，能调节光场中偏振结构的周期、取向等参量，与偏振感光材料进行光化学作用，形成特定的偏振图形分布，偏振光刻系统根据预定义的偏振图形设计文件，控制上述偏振光场参量与基片的坐标走位，进行光场拼接光刻，在光刻基片上形成预期的偏振图形分布。
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