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公开(公告)号：CN119693602A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411721526.9
申请日：2024-11-28
Applicant: 苏州大学
IPC: G06V10/22 , G06V10/25 , G06V10/26 , G06V10/75 , G06V10/762
Abstract: 本发明涉及目标检测技术领域，公开了一种屏蔽门场景下的目标检测方法及设备，包括获取预设检测区域与模板点云；实时采集轨道交通运行过程中，屏蔽门关闭后，预设检测区域的当前点云数据，作为实时点云，与模板点云进行差分，获取差分结果，通过聚类算法判断是否存在异常区域；若存在则获取实时点云中的异常区域作为感兴趣区域，获取异常物体中心坐标，并向外扩展预设个数的像素点，构成稀疏深度提示点集；将感兴趣区域的点云数据投影至二维平面上，生成密集深度提示掩膜；将两个提示信息，输入SAM模型，对感兴趣区域进行实例分割，获取异常物体的二维边界框与异常物体类别，完成对异常物体的识别。
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公开(公告)号：CN118131476A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN118057242A
公开(公告)日：2024-05-21
申请号：CN202211445687.0
申请日：2022-11-18
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光直写方法、控制设备及激光直写系统，属于激光直写光刻技术领域，该方法包括：设定光刻的灰阶等级N、扫描像素步距M、灰阶曝光循环次数Q；将待加工的灰阶图像划分为复数个等宽度的图像条带；设定曝光时滑动提取窗口的大小；对于每个图像条带，根据N、M和Q进行滑动提取窗口灰阶提取和数据重组，得到新的图像条带；运动平台在Y方向上完成一个新的图像条带曝光后，在X方向移动一个移动步距XStep，移动步距XStep为图像条带宽度W与光学分辨率R的乘积，并对下一个新的图像条带进行曝光，直至完成对所有新的图像条带的曝光，X方向与Y方向正交；可以提高扫描速度、激光直写效率，实现灰阶的额外灰阶曝光循环次数。
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公开(公告)号：CN115802401B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202211281296.X
申请日：2022-10-19
Applicant: 苏州大学
IPC: H04W24/08 , H04B17/391
Abstract: 本发明公开一种无线网络信道状态预测方法、装置、设备及存储介质，涉及无线通讯技术领域，包括获取信道占用状态样本数据，基于Transformer模型构建网络状态时序预测模型，利用信道占用状态样本数据训练网络状态时序预测模型，包括：将多个编码器叠加，并连接全连接层构建网络状态时序预测模型，根据损失函数计算误差，采用优化算法训练网络状态时序预测模型，反复迭代至损失函数收敛，得训练完成的网络状态时序预测模型，利用训练完成的网络状态时序预测模型对待检测无线网络信道状态进行预测，得信道预测结果，利用信道占用状态样本数据训练所述网络状态时序预测模型，实现对无线网络中信道状态预测，精准预测出目前网络信道状态。
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公开(公告)号：CN116402871A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202310314574.5
申请日：2023-03-28
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种基于场景平行要素的单目测距方法、系统及电子设备，方法包括：步骤S1：获取具有场景平行要素的场地的初始图像；步骤S2：对所述初始图像进行预处理；步骤S3：对预处理后的初始图像进行边缘检测，提取边缘检测后图像中场景平行要素的轮廓；步骤S4：根据所述场景平行要素的轮廓划分出感兴趣区域，在所述感兴趣区域内提取在场景中具有平行关系的第一线段和第二线段，其中，所述场景具有平行关系的第一线段和第二线段为场景平行要素；步骤S5：分别在所述第一线段和第二线段上标注若干关键点，基于若干所述关键点建立方程组，根据所述方程组求出关键点对应的深度。本发明的目标测距方法的计算成本较低且准确性较高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114821524A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210380971.8
申请日：2022-04-11
Applicant: 苏州大学 , 苏州市轨道交通集团有限公司
Abstract: 本发明公开了一种基于BiSeNet的轨道交通道路识别优化方法，包括：S1.对初始图形进行特征提取，获取特征图矩阵并进行批处理标准化和单侧抑制；S2.对S1进行迭代，获得第一处理结果；S3.对初始图形进行上下文信息提取，获取第一图形矩阵和第二图形矩阵；S4.分别对第一图形矩阵和第二图形矩阵进行细化处理，获得第一图形矩阵函数和第二图形矩阵函数；S5.将第一处理结果和第一图形矩阵和第二图形矩阵进行结合计算，获取第二处理结果；S6.对第二处理结果进行8倍上采样获得最终路径语义分析结果。本发明易于实施，适用于轨道交通无人化运行与道路语义分割，有助于节约成本，提高生产效率，增加列车运行效率与安全性。
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公开(公告)号：CN113296364B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN202010113358.0
申请日：2020-02-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种光刻控制方法、装置及存储介质，属于微纳加工技术领域，该方法包括：获取光刻任务；对光刻任务中的所有光刻网点进行分层处理得到n层光刻网点；对每层光刻网点进行区域划分，得到区域内的光刻网点数据；按照每层每个区域内的光刻网点数据进行光刻，直至完成光刻任务；判断是否还有下一个光刻任务，若无，则结束；若有则再次执行光刻任务；可以解决拼接平台自身的定位精度误差无法消除，导致光刻后的目标出现周期暗纹、区域不均的现象的问题；由于不同层光刻网点所属的层区域存在交集，因此，对于需要拼接光刻的部分通过不同层的交集部分可以重新进行振镜扫描，实现拼接部分的过渡，减少平台自身定位精度带来的误差影响。
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公开(公告)号：CN112799286B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201911115238.8
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台，数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间，旋转工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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公开(公告)号：CN113296364A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202010113358.0
申请日：2020-02-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种光刻控制方法、装置及存储介质，属于微纳加工技术领域，该方法包括：获取光刻任务；对光刻任务中的所有光刻网点进行分层处理得到n层光刻网点；对每层光刻网点进行区域划分，得到区域内的光刻网点数据；按照每层每个区域内的光刻网点数据进行光刻，直至完成光刻任务；判断是否还有下一个光刻任务，若无，则结束；若有则再次执行光刻任务；可以解决拼接平台自身的定位精度误差无法消除，导致光刻后的目标出现周期暗纹、区域不均的现象的问题；由于不同层光刻网点所属的层区域存在交集，因此，对于需要拼接光刻的部分通过不同层的交集部分可以重新进行振镜扫描，实现拼接部分的过渡，减少平台自身定位精度带来的误差影响。
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公开(公告)号：CN112684677B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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