一种用于输入输出端口和电源钳位的SCR器件

    公开(公告)号:CN108538831B

    公开(公告)日:2020-10-23

    申请号:CN201810314684.0

    申请日:2018-04-10

    Abstract: 本发明属于集成电路的静电放电(ESD:Electrostatic Discharge)保护领域,具体提供一种用于输入输出端口和电源钳位的SCR器件,用以同时实现保护输入输出端口和电源钳位;本发明SCR器件包括1个主泄放器件和1个辅助控制器件,其中,辅助控制器件作为控制主泄放器件的开关,辅助控制器件在正常工作时使主泄放器件关断,不影响被保护电路的正常工作;在ESD事件到来时,辅助控制器件使主泄放器件导通,泄放ESD电流;同时,通过设计内部的RC通路的参数,能够降低主泄放器件的触发电压,且该触发电压可调制。

    一种具有表面双栅控制的横向RC-IGBT器件

    公开(公告)号:CN107342286B

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201710490849.5

    申请日:2017-06-23

    Abstract: 一种具有表面双栅控制的横向RC‑IGBT器件,属于功率半导体技术领域。该器件在传统结构的续流二极管上串联了一个MOS管,通过第二栅极来控制这个MOS管开启与关闭,达到和传统结构相同的器件功能:当RC‑IGBT正向工作时,MOS管关闭,传统结构中的N+集电区被MOS管隔离,此时器件相当于纯粹的IGBT,完全消除了传统结构中的电压折回现象;当器件反向工作时,通过第二栅极来控制MOS管开启,续流二极管得以正常工作。同时,与传统的纵向结构器件不同,本发明属于横向器件,器件建立在外延层上,器件的实现无需背面工艺,大大降低了工艺难度;通过RESURF结构,也增强了器件的横向耐压能力。

    一种用于输入输出端口和电源钳位的SCR器件

    公开(公告)号:CN108538831A

    公开(公告)日:2018-09-14

    申请号:CN201810314684.0

    申请日:2018-04-10

    Abstract: 本发明属于集成电路的静电放电(ESD:Electrostatic Discharge)保护领域,具体提供一种用于输入输出端口和电源钳位的SCR器件,用以同时实现保护输入输出端口和电源钳位;本发明SCR器件包括1个主泄放器件和1个辅助控制器件,其中,辅助控制器件作为控制主泄放器件的开关,辅助控制器件在正常工作时使主泄放器件关断,不影响被保护电路的正常工作;在ESD事件到来时,辅助控制器件使主泄放器件导通,泄放ESD电流;同时,通过设计内部的RC通路的参数,能够降低主泄放器件的触发电压,且该触发电压可调制。

    光驱动SiC/GaN基半导体器件及其制作工艺

    公开(公告)号:CN108039363A

    公开(公告)日:2018-05-15

    申请号:CN201711239512.3

    申请日:2017-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种光驱动SiC/GaN基半导体器件,它取消了传统BJT结构中的基极电极,利用紫外线穿过透明电极和薄发射区进入基区引入光激发产生电子和空穴对,为BJT的基极提供基极电流;同时采用圆角四棱台器件结构,提高了器件的耐压值。本发明还公开了制作上述光驱动SiC/GaN基半导体器件的工艺。本发明在兼具传统BJT优点的同时,提高了器件的光注入电流增益、击穿电压、EMI抗扰度、开关切换速度和稳定性,降低了驱动损耗和响应时间,降低了制造成本。本发明适用于从小功率到大功率的半导体功率器件领域。

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