一种半导体发光二极管的外延装置

    公开(公告)号:CN108470807B

    公开(公告)日:2019-10-29

    申请号:CN201810106850.8

    申请日:2018-02-02

    Abstract: 本发明提供了一种半导体发光二极管的外延装置,该装置包括依次接触的N电极、N型半导体接触层、N型半导体导电层、发光层、P型半导体导电层、P型半导体接触层和P电极;所述N电极与N型半导体接触层之间的界面接触电阻,通过N型半导体接触层的掺杂浓度进行调节;或P电极与P型半导体接触层之间的界面接触电阻,通过P型半导体接触层的掺杂浓度进行调节。本发明在半导体的表面与金属电极接触的界面改善电流扩展,由于金属与半导体的接触非常敏感,界面的电导性易于调控,外延中仅需很薄的一层,就可以实现电流扩展的显著改善,且器件电压的升高幅度较小。

    一种化学气相沉积装置
    42.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106811736B

    公开(公告)日:2019-03-05

    申请号:CN201611222834.2

    申请日:2016-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种化学气相沉积装置,包括位于反应腔顶部的喷淋头和带侧壁吹扫的反应腔。喷淋头中单圈排列的金属有机气体进气导管设在氢化物进气导管中,使氢化物气体环绕金属有机气体向下输运,氢化物气体或载气从喷淋头内部和外部的进气导管进入反应腔。反应腔的侧壁上设有进气导管,将氢化物或载气输运进入反应腔,起到吹扫作用。在喷淋头中心设置了尾气导管,反应气体沿径向从外侧向中心流动,最终经尾气导管从下向上抽出。使用本发明装置,可在反应腔内形成由外侧向中心的水平层流,相比长距离输运喷淋头,可大幅提升金属有机气体利用率,相比短距离输运喷淋头,将大幅减少反应腔侧壁的反应物沉积,可以满足生产型MOCVD的要求。

    一种具有变色功能的GaN基LED的结构及其调节方法

    公开(公告)号:CN106784190B

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201611224132.8

    申请日:2016-12-27

    Abstract: 本发明提供了一种具有变色功能的GaN基LED的结构及其调节方法,该GaN基LED的结构包括衬底,在衬底上依次设有缓冲层、n型层、量子阱层和p型层,在n型层内设有一掺杂C元素的GaN黄带发光层,厚度为2─20μm,C元素掺杂浓度为1×1019─1×1021cm‑3;量子阱层通电时发射蓝光,量子阱层所发射的蓝光激发GaN黄带发光层发射黄光,蓝光和黄光可混合成不同颜色的光。通过调节输入电流的大小,来调制量子阱层发射的蓝光与GaN黄带发光层发射的黄光的配比,从而可获得不同颜色的光,包括黄光、白光和蓝光。这种LED可发射包含白光在内的多种颜色的光,光的颜色可轻松变换,易于实现复杂的照明效果,或用于光通信领域。

    一种半导体发光二极管的外延装置

    公开(公告)号:CN108470807A

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201810106850.8

    申请日:2018-02-02

    Abstract: 本发明提供了一种半导体发光二极管的外延装置,该装置包括依次接触的N电极、N型半导体接触层、N型半导体导电层、发光层、P型半导体导电层、P型半导体接触层和P电极;所述N电极与N型半导体接触层之间的界面接触电阻,通过N型半导体接触层的掺杂浓度进行调节;或P电极与P型半导体接触层之间的界面接触电阻,通过P型半导体接触层的掺杂浓度进行调节。本发明在半导体的表面与金属电极接触的界面改善电流扩展,由于金属与半导体的接触非常敏感,界面的电导性易于调控,外延中仅需很薄的一层,就可以实现电流扩展的显著改善,且器件电压的升高幅度较小。

    一种多光谱发光二极管结构

    公开(公告)号:CN107170866A

    公开(公告)日:2017-09-15

    申请号:CN201710284866.3

    申请日:2017-04-27

    CPC classification number: H01L33/06 H01L33/04 H01L33/26 H01L33/30

    Abstract: 本发明公开了一种多光谱发光二极管结构,包含:衬底和半导体叠层,该半导体叠层至少包含一层n型半导体层、一层p型半导体层和多光谱发光多量子阱层;特征是:所述多光谱发光多量子阱层由量子阱禁带宽度不同的两组或三组层叠排列的多量子阱发光单元组成,可以同时出射两种或三种波长的光,任意两种波长的光之间的波长差为λ,其中100nm≥λ≥10nm;所述多量子阱发光单元是由量子阱层和量子垒层组成的周期结构,周期数为k;所述多量子阱发光单元的发光波长由其量子阱禁带宽度决定,发光波长范围为380nm─700nm。本发明能在单芯片内直接出射多光谱,可使五基色白光封装所用芯片颗粒数大幅下降,对灯珠的电路设计、光学设计以及混光提供了很大的设计窗口。

    一种适用于二次离子质谱分析的多层膜界面位置表征方法

    公开(公告)号:CN113109415B

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202110323804.5

    申请日:2021-03-26

    Abstract: 本发明公开了一种适用于二次离子质谱分析的多层膜界面位置表征方法,该表征方法是通过二次离子质谱仪探测器收集包含了界面两侧薄膜中特征元素组成的原子团簇型离子,分析该原子团簇型离子的信号,利用其峰值位置确定样品界面位置。所述原子团簇型离子能与待测的元素离子或待测的原子团簇型离子一起测试或分别测试,通过数据处理比对后实现对该信号的界面定位。本发明在利用二次离子质谱表征薄膜材料时,在不增加测试原材料损耗与仪器运行成本的条件下,无需数据拟合,仅使用实验数据即可直接标定待测样品中多层膜的界面位置,提高表征精度,提高测试效率。

    一种提高发光效率GaN基长波长LED器件结构及生长方法

    公开(公告)号:CN116779734A

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN202211322107.9

    申请日:2022-10-27

    Abstract: 本发明公开了一种提高发光效率的GaN基长波长LED器件结构及其生长方法,该GaN基长波长LED器件结构包括有源层结构,其中,所述有源层结构从下到上包括InGaN/GaN多量子阱和InGaN/AlGaN/GaN多量子阱。生长InGaN/GaN多量子阱时,InGaN阱层生长温度低于GaN垒层;生长InGaN/AlGaN/GaN多量子阱时,InGaN阱层生长温度低于AlGaN层和GaN垒层,AlGaN层与GaN垒层保持一致。一种有源层结构从下到上包括InGaN/GaN多量子阱结构以及InGaN/AlGaN/GaN多量子阱结构,可减少电子空穴泄露,改善量子阱质量,提高载流子在有源区的辐射复合速率,进而达到实现去除传统P‑AlGaN电子阻挡层以及提高GaN基长波长LED器件发光效率的目的。

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