一种制备高质量ZnO材料的方法

    公开(公告)号:CN103938183A

    公开(公告)日:2014-07-23

    申请号:CN201410177089.9

    申请日:2014-04-29

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种生长高质量氧化锌薄膜材料的方法,选用蓝宝石片作为生长氧化锌薄膜材料的衬底;将清洗过的蓝宝石衬底放在金属有机化学气相外延设备的反应室衬底底座上;将反应室抽真空至3*10-3Pa以下,以排净反应室中的空气;充入氮气和氢气的混合气体对衬底进行高温预处理;高温预处理的温度为1000℃-1200℃,处理时间为3min-8min;将衬底降温到适合ZnO缓冲层薄膜生长的温度,使用高纯二甲基锌作为Zn源,叔丁醇t-BuOH作为O源,在MOCVD设备中生长ZnO缓冲层;ZnO薄膜生长是选用N2作为稀释气体,同时加入适当流量的H2;采用LP-MOCVD技术在ZnO缓冲层上生长ZnO。

    金属有机源压力闭环控制系统

    公开(公告)号:CN1584111A

    公开(公告)日:2005-02-23

    申请号:CN200410041227.7

    申请日:2004-06-10

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种金属有机源压力闭环控制系统包括流量计、金属有机源、与反应室相连的调节阀和压力传感器(DP),其特点是还包括由单片机、数模转换器、放大器所组成的单片机控制电路。载气通过流量计导入到金属有机源,携带了金属有机源气体的混合气体通过调节阀通入到反应室;单片机控制电路通过控制调节阀改变气体的流量,压力传感器将压力转换为电压反馈信号输出。通过控制和反馈的信号使得管路内的压力达到一个动态平衡值,以减小对MOCVD材料生长过程的影响。

    一种半导体晶片内部电场的检测方法

    公开(公告)号:CN118465515B

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202410919386.X

    申请日:2024-07-10

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明提供了一种半导体晶片内部电场的检测方法,包括以下步骤:在待测半导体晶片下方设置底电极;在待测半导体晶片表面上采用外延生长技术和电子束蒸发技术生成半透明电极;采用电子束蒸发技术在半透明电极的中心生长金电极,金电极的尺寸小于半透明电极;进行不同恒定偏压下的光电流测试,获得不同偏压下的光响应谱;光电流测试的光线垂直金电极进行照射;通过法兰兹‑卡尔迪西效应FK和相应半导体场吸收模型对待测半导体晶片在光电流测试中的耗尽区、扩散区和无场吸收区进行分析得到光响应公式,并与光响应谱进行拟合,得到不同偏压下待测半导体晶片的内部电场。对器件无损伤且简单易行,对实际器件内部电场进行精确检测。

    一种p型铱镓氧合金外延薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN118563421A

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202410657041.1

    申请日:2024-05-24

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明涉及一种p型铱镓氧合金外延薄膜及其制备方法,所述p型铱镓氧合金外延薄膜的化学式为(IrxGa1‑x)2O3,且x≤0.05;其晶相为α相、ε相、β相中的一种。α‑Ir2O3为六方刚玉结构,Ir3+离子仅占据八面体位置。在高Ga组分(IrxGa1‑x)2O3(x≤0.05)外延薄膜中,可通过Ir3+离子仅取代占据八面体位置的Ga3+离子的前提下实现晶相调控,具体通过改变Mist‑CVD中衬底温度实现(IrxGa1‑x)2O3(x≤0.05)外延薄膜的晶相调控,实现与α‑Ga2O3、ε‑Ga2O3、β‑Ga2O3晶型匹配且晶格失配极小的目标,是晶体结构复杂的Ga2O3的理想p型材料制备方案,为进一步开发Ga2O3在功率器件及射频器件领域的新型结构提供了坚实的基础。

    基于自组装Ni纳米岛的JBS功率二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN115621327A

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN202110792656.1

    申请日:2021-07-14

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明提出了一种基于自组装Ni纳米岛的JBS功率二极管及其制备方法。该二极管的结构包括自下而上依次设置的阴极、N+衬底、JBS结构和阳极,JBS结构包括N‑漂移层、PN异质结和Ni纳米岛,其中,N‑漂移层上设有沟槽结构,位于沟槽内侧面和底部的P型金属氧化物与N‑漂移层构成PN异质结;Ni纳米岛位于沟槽的顶部,与N‑漂移层形成肖特基接触;PN异质结与肖特基接触相并联。本发明利用Ni薄膜在快速热退火下形成的自组装纳米岛代替光刻胶作为掩膜,省去了光刻的步骤,大大简化了制备工艺,不仅缩短了制备周期,而且节约了成本。

    一种化学气相沉积设备和成膜方法

    公开(公告)号:CN111188027B

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN202010088816.X

    申请日:2020-02-12

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种化学气相沉积设备,包括气体输入结构和反应室,所述气体输入结构包括气体分配器以及下方的出气套筒,所述气体分配器为开设有一个入口和多个均匀分布的出口相连通的容器,所述每个出口均为出气套筒的结构,出气套筒包括由内向外依次同轴嵌套设置的第一管、第二管和第三管,所述气体分配器的每一所述出口与所述第一管对应,所述第一管内的空间用于传输第一反应物,所述第一管外与所述第二管内之间的空间用于传输隔离气体,所述第二管外与所述第三管内之间的空间用于传输第二反应物,所述隔离气体使得所述第一反应物与所述第二反应物至少在出气套筒出口处隔离。

    一种日盲紫外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN111564504A

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN202010298336.6

    申请日:2020-04-16

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了日盲紫外探测器及其制备方法。探测元件由上至下包括由金属和氧化物的多周期滤波结构(或称滤波层),紫外吸收体、叉指电极层、衬底层;多周期滤波结构顶部,底部均为电解质隔离层;由金属薄膜和电介质薄膜交替的多周期滤波结构生长在探测器的电介质隔离层上。多周期滤波结构尤其是交替生长氧化铝和铝。探测器结构采用背电极MSM结构,金属叉指电极制备在紫外吸收体与衬底之间,光信号从器件正面经过滤波结构射入紫外吸收体中,以避免叉指电极的阻挡,有效提高吸收效率。可实现日盲紫外波段的高效探测,同时对可见光、红外波段具有高抑制作用。

    一种化学气相沉积设备和成膜方法

    公开(公告)号:CN111188027A

    公开(公告)日:2020-05-22

    申请号:CN202010088816.X

    申请日:2020-02-12

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种化学气相沉积设备,包括气体输入结构和反应室,所述气体输入结构包括气体分配器以及下方的出气套筒,所述气体分配器为开设有一个入口和多个均匀分布的出口相连通的容器,所述每个出口均为出气套筒的结构,出气套筒包括由内向外依次同轴嵌套设置的第一管、第二管和第三管,所述气体分配器的每一所述出口与所述第一管对应,所述第一管内的空间用于传输第一反应物,所述第一管外与所述第二管内之间的空间用于传输隔离气体,所述第二管外与所述第三管内之间的空间用于传输第二反应物,所述隔离气体使得所述第一反应物与所述第二反应物至少在出气套筒出口处隔离。

    ZnO导电协变衬底垂直结构型GaN紫外LED

    公开(公告)号:CN106601881B

    公开(公告)日:2019-03-19

    申请号:CN201710093149.2

    申请日:2017-02-21

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种ZnO导电协变衬底垂直结构型GaN紫外LED,以纳米图形化(PSS)蓝宝石作为外延基底,使用MOCVD方法生长ZnO低温缓冲层和ZnO高温外延层,以ZnO外延层作为高品质导电衬底,后续生长GaN紫外LED外延,LED芯片经剥离和转移后,形成ZnO导电协变衬底垂直结构型GaN紫外LED。新型的垂直结构型GaN紫外LED,可降低器件成本,并提高GaN紫外LED的出光效率。形成ZnO导电协变衬底垂直结构型GaN紫外LED,剥离工艺简单,成本低,有利于实现柔性衬底的照明工程。

    基于氧化物异质结的极性溶剂化学传感器及制备方法

    公开(公告)号:CN106645323A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201611079255.7

    申请日:2016-11-30

    Applicant: 南京大学

    CPC classification number: G01N27/26

    Abstract: 本发明公开了一种基于氧化物异质结的极性溶剂化学传感器,在衬底上制备ZnMgO/ZnO异质结构,通过光刻、热蒸发等半导体工艺在异质结构制作电极,形成肖特基‑欧姆接触的非对称无栅高电子迁移率晶体管(HEMT)结构的化学传感器。ZnMgO/ZnO异质界面形成二维电子气(2DEG),吸附于器件传感区域的极性溶剂分子可以影响异质界面二维电子气(2DEG)的浓度,通过器件漏源电流的变化,从而实现对多种极性溶剂的探测。

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