一种检测自参考干涉仪棱镜光程差的方法

    公开(公告)号:CN119164614A

    公开(公告)日:2024-12-20

    申请号:CN202411243781.7

    申请日:2024-09-05

    Abstract: 本发明提供了一种检测自参考干涉仪棱镜光程差的方法,包括:白光光源发出的光进入偏振分光棱镜后分成两束偏振光,在偏振分光棱镜上方安装自参考干涉仪棱镜,在位移台上分别安装第一反射镜和第二反射镜,在自参考干涉仪棱镜下方设置分光棱镜,在偏振分光棱镜与自参考干涉仪棱镜之间的光路上设置第一半波片,在偏振分光棱镜与第一反射镜之间的光路上设置第二半波片;测量自参考干涉仪棱镜中第一棱镜的光程,获取位移台距离初始位置的位移距离L1;测量自参考干涉仪棱镜中第二棱镜的光程,获取位移台距离初始位置的位移距离L2;然后基于L1和L2,计算获取自参考干涉仪棱镜的光程差。本发明能够实现对自参考干涉仪棱镜光程差的精确测量。

    用于光学系统调焦调平的检测装置及方法

    公开(公告)号:CN114383822B

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202210000822.4

    申请日:2022-01-04

    Abstract: 本公开提供一种用于光学系统调焦调平的检测装置,该检测装置沿光路方向依次包括:光源、第一PBS棱镜、1/4波片、测试板、1/2波片、分光棱镜和探测器;其中,光源发射的S偏振光被第一PBS棱镜反射至1/4波片,1/4波片将S偏振光转变为圆偏振光,圆偏振光透过待测光学系统,被测试板反射,再次透过待测光学系统返回进入1/4波片,1/4波片将圆偏振光转变为P偏振光;P偏振光透过第一PBS棱镜进入1/2波片,被1/2波片调整偏振方向后进入分光棱镜;分光棱镜的上半部和下半部分别将调整偏振方向后的P偏振光进行多次反射后于同一出光面输出;探测器检测上半部和下半部输出光的位置,并根据该位置对待测光学系统进行调平。

    用于硅片高度测量的信号处理方法、装置、设备及介质

    公开(公告)号:CN113916132B

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202111113530.3

    申请日:2021-09-23

    Abstract: 本公开提供一种用于硅片高度测量的信号处理方法,包括:获取运动台位置信号,其中,所述运动台位置信号包括运动台位置脉冲信号及运动台位置坐标信号;对所述运动台位置脉冲信号进行延时处理,根据延时处理前后的运动台位置脉冲信号产生驱动信号以驱动高度信号的测量;对所述高度信号进行数字滤波处理,并将所述运动台位置坐标信号与滤波后的高度信号进行拟合计算,得到硅片高度数据。本公开还提供一种用于硅片高度测量的信号处理装置电子设备及计算机可读存储介质。

    一种用于精密运动控制的变结构抗积分饱和方法

    公开(公告)号:CN111624871B

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202010616268.3

    申请日:2020-06-30

    Abstract: 一种用于精密运动控制的变结构抗积分饱和方法,包括:根据精密运动平台机械台体参考位置和实际位置之间的位置偏差,得到精密运动平台机械台体的控制量;将控制量经过预设饱和环节以及超前饱和环节,判断控制量是否处于即将积分饱和的状态;若控制量处于即将积分饱和的状态,则对即将处于积分饱和状态的控制量从积分环节切换到线性反馈环节,得到线性反馈环节的控制量;将线性反馈环节的控制量发送给预置的驱动器,以利用驱动器所述线性反馈环节的控制量驱动精密运动平台机械台体进行定位运动和匀速扫描运动。可抑制积分饱和现象,减小精密运动平台的定位运动和匀速扫描建立时间。

    一种能够降低光程差的偏振分光棱镜

    公开(公告)号:CN112394531B

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202011341828.5

    申请日:2020-11-25

    Abstract: 本公开提供一种能够降低光程差的偏振分光棱镜,包括:第一直角棱镜,包括第一直角棱镜主体,以及形成于所述第一直角棱镜主体表面的第一直角面、第二直角面、第一偏振分光面,所述第一偏振分光面表面镀有偏振分光膜;第二直角棱镜,包括第二直角棱镜主体,以及形成于所述第二直角棱镜主体表面的第三直角面、第四直角面、第二偏振分光面,所述第二偏振分光面表面镀有偏振分光膜;以及胶合层,设置于相对设置的所述第一偏振分光面和所述第二偏振分光面之间。

    用于硅片高度测量的信号处理方法、装置、设备及介质

    公开(公告)号:CN113916132A

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202111113530.3

    申请日:2021-09-23

    Abstract: 本公开提供一种用于硅片高度测量的信号处理方法,包括:获取运动台位置信号,其中,所述运动台位置信号包括运动台位置脉冲信号及运动台位置坐标信号;对所述运动台位置脉冲信号进行延时处理,根据延时处理前后的运动台位置脉冲信号产生驱动信号以驱动高度信号的测量;对所述高度信号进行数字滤波处理,并将所述运动台位置坐标信号与滤波后的高度信号进行拟合计算,得到硅片高度数据。本公开还提供一种用于硅片高度测量的信号处理装置电子设备及计算机可读存储介质。

    对准误差测量方法及装置
    48.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110824865B

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN201911212302.4

    申请日:2019-11-29

    Abstract: 本公开提供了一种对准误差测量方法。所述方法包括分别筛选每一预设位置下对准标记产生的一种以上衍射级次的衍射光束,得到每一预设位置下的+n衍射级次的衍射光束和‑n衍射级次的衍射光束,预设位置的个数为四个及以上;分别对每一预设位置下的+n衍射级次的衍射光束和‑n衍射级次的衍射光束进行干涉,以将对准标记结构变化和波像差引入的相位变化编码到产生的干涉信号中;分别探测每一预设位置下的干涉信号的光强分布;根据四个及以上预设位置下干涉信号的光强分布计算对准标记结构变化和波像差引入的对准误差。本公开还提供了一种对准误差测量装置。

    真空温度场测量装置及方法

    公开(公告)号:CN110926617B

    公开(公告)日:2021-04-13

    申请号:CN201911212862.X

    申请日:2019-11-29

    Abstract: 一种真空温度场测量装置,应用于热成像技术领域,包括:被测物体上布置有测量基准,接触式测温元件连接测量基准,并通过真空导线穿过真空腔体与接触式测温信号处理模块连接,以使接触式测温信号处理模块获取测量基准的标称温度值,真空腔体的一腔壁上开设有红外窗口,红外热像仪透过红外窗口测量测温基准的实测温度值和被测物体表面每个像素上的实测温度值,数据处理模块根据测量基准的标称温度值和实测温度值,以及被测物体表面每个像素上的实测温度值,得到被测物体的二维温度场。本申请还公开了一种真空温度场测量方法,既能实现真空中面测量,又能提高温度场的测量精度。

    一种气浴装置
    50.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110068122B

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN201910218702.X

    申请日:2019-03-21

    Abstract: 本发明实施例提供的一种气浴装置,包括:基板;气浴模组,所述气浴模组的上表面与所述基板连接,其中,所述气浴模组包括多个气浴单元,所述多个气浴单元首尾相连通,构成中心位置具有第一通孔的所述气浴模组;托板,所述托板位于所述气浴模组的下表面,将所述气浴模组于所述基板进行固定连接。解决了现有技术中紧凑的气浴单元管道密布占用过多空间,且气流容易形成遮挡,造成工作环境的流场紊乱,进而影响温度、气压等参数的均匀度的技术问题。达到了减少管道多杂带来的空间占用与安装问题,多个气浴单元组合后相互联通,形成大面积的静压腔室,提高了气流均匀度的技术效果。

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