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公开(公告)号：CN2813638Y
公开(公告)日：2006-09-06
申请号：CN200520114360.0
申请日：2005-07-26
Applicant: 北京有色金属研究总院 , 北京大学
Abstract: 本实用新型公开了一种多元素溅射靶材结构，是在金属锆的板材上，均匀地拼接多条条形的金属钇，其中，金属锆的板材可以为圆形，条形金属钇可以为扇条形，且多条扇条形的金属钇的大端位于金属锆的板材的边缘，小端朝向金属锆的板材的中心，多条扇条形的金属钇的中心线通过金属锆的板材的中心，并且围绕着该中心多条扇条形的金属钇均匀分布着。本实用新型的优点是，钇的加入量在靶面上于均匀分布；钇的加入量及分布不随溅射环的大小而改变；靶材使用范围大，不受磁控靶形状和位置的影响。
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公开(公告)号：CN2808484Y
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200520114361.5
申请日：2005-07-26
Applicant: 北京有色金属研究总院 , 北京大学
IPC: B26D1/02
Abstract: 一种用于金属薄带切割的装置，其特征在于：是在工作台上固定有导套，导套中配合有刀片座，刀片座上安装有刀刃向下的刀片，并在刀片座上固定有刀把手，在工作台与导套之间设有工件放置的空间。本实用新型的装置体积小，重量轻，无需固定，可随处移动，可控切割长度1mm－100mm(或200mm)，厚20μm－200μm，宽3mm－30mm的金属带材，保证表面不受损伤，切割尺寸重复性好，带材无变形，且操作简单易控，适合对长的金属薄带进行小样切割。
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公开(公告)号：CN2730887Y
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200420118599.0
申请日：2004-10-14
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/34
Abstract: 一种滑轨往复式对靶溅射加热传动装置，它包括有一个箱体，在箱体的一侧设有样品架进出口，在箱体内的底部和样品架进出口的外部设有样品架进出导轨，在导轨上设置可移动的样品架，在箱体前后面内设有加热陶瓷平行板基体，在箱体前后对应面上设有方形溅射口。所述的样品架为长方形结构，在长方形的样品架上均匀开有至少两个基片固定槽孔，在样品架的下端连接有导轮。所述的样品架外侧连接有推拉杆，其由步进马达带动。在加热陶瓷平行板基体上设有蛇形加热丝。本实用新型的优点是，结构简单、使用方便、可高效地满足直流溅射方法制备高性能、均匀性好的大面积高温超导薄膜，并满足批量化制备的要求。
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公开(公告)号：CN2681295Y
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN200320127737.7
申请日：2003-12-15
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: H01B12/00
Abstract: 本实用新型公开了一种多层双轴取向隔离层结构，是在立方织构金属镍衬底表面上，从下到上依次设有立方织构氧化镍种子层、二氧化锆阻挡层、和二氧化铈帽子层。并在二氧化铈帽子层上设有YBCO涂层。本实用新型的优点是：1.立方织构氧化镍种子层是立方织构金属镍衬底材料自身氧化，无需其它材料，降低成本。2.立方织构氧化镍种子层与立方织构金属镍衬底兼容性较好。3.由于是通过立方织构金属镍衬底表面氧化处理，适宜大规模长带生产，制备手段易连续化。4.二氧化锆阻挡层、和二氧化铈帽子层进一步加强隔离层作用，提高表面质量，改善与YBCO的化学稳定性和结构匹配性。提高YBCO的电性能。
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公开(公告)号：CN2575575Y
公开(公告)日：2003-09-24
申请号：CN02282480.4
申请日：2002-11-04
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本实用新型公开了一种筒型辐射式加热器，包括一筒型炉体，在炉体的炉壁上绕有加热丝，炉体的外侧有隔热层，所述的加热丝受控于一控温单元装置；炉体炉底周边上均布若干孔。本加热器结构合理紧凑；温度恒温区面积有足够大的尺寸，可满足制备大面积双面超导薄膜的要求；温度可调且选择范围宽，重复性好，使用寿命长，抗破坏能力强。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN201330279Y
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200820124584.3
申请日：2008-12-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本实用新型公布一种多元素溅射靶材结构，属薄膜材料制备领域。金属元素薄板靶材通过焊接层焊接在圆形的金属背板上，在靶材的溅射环区域内主元靶材和次元靶材各以6～12个扇形面交替等间隔镶嵌在靶材溅射环区域内。特别适用于贵金属靶材结构。本实用新型各组元在溅射环区域呈同心扇形分布，其组元成份比例均匀、稳定、易于控制。通过调整靶材溅射环中各组元区域面积的大小，可调整靶材成份。只在溅射区域有价格昂贵的贵金属材料，降低了靶材成本，各组元未合金化，因此有利于靶材废料回收。本实用新型用于磁控溅射薄膜材料制备设备。
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公开(公告)号：CN201154986Y
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200720191122.9
申请日：2007-12-28
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/34
Abstract: 一种加长型筒状阳极，该加长型筒状阳极为筒状，其底壁设有若干个溅射气体进气孔，其顶部为敞口，该敞口的周边缘向外凸出形成支撑边，该敞口并配有阳极盖，在阳极盖上接有进气管路。加长型筒状阳极的环壁在沉积薄膜的过程中均起到了与已有的平面阳极同样的作用，极大地增加了阳极面积，提高了溅射过程中的正效果。采用本实用新型的加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备，在制备复杂氧化物薄膜、特别是高温YBCO等稀土钡铜氧薄膜时，可显著改善负氧离子轰击以及溅射物质堆积掉渣等负影响，有显著的改善薄膜生长质量、提高性能的作用。相比于普通采用小平面阳极的溅射设备，在同样条件下制备薄膜的性能更好、工艺窗口更宽、薄膜表面形貌以及均匀性均优于传统溅射设备，体现了本实用新型的突出有益效果。
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公开(公告)号：CN2719866Y
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN200420087974.X
申请日：2004-08-13
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本实用新型公开了一种大尺寸柱状中空溅射阴极，由圆筒形高温超导溅射靶材、冷却水箱及置于冷却水箱内的冷却水循环单元组成，冷却水箱的内壁直接紧密接触高温超导溅射靶材壁，冷却水箱内壁内层覆有一层筒形软磁材，在筒形软磁材料周边上分布的一组可拼装磁体；磁体的充磁方向为内圆心至外圆周方向；冷却水循环单元的进水管开在冷却水箱的底部，出水管开在冷却水箱的顶部。其通过对原有大尺寸中空溅射阴极的改进，便于靶材在溅射过程中冷却；便于调整磁体位置和磁力线形状，增加了溅射环宽度和有效利用面积，提高制备大面积双面超导薄膜的溅射速率，整体化，设计易于扩展和拆装，满足批量化制备的要求。
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公开(公告)号：CN201332103Y
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200820124582.4
申请日：2008-12-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本实用新型公开一种铜铟硒基太阳能薄膜电池光吸收层均匀硒化装置，属太阳能电池材料领域。装置由硒化腔和上盖两部分组成，两部分均用石英加工而成，并通过磨口密封。样品放置于硒化腔内的石英隔板中心的样品窗口上，冷却颈和上盖石英壁上的小孔通过焊接连接，冷却颈和冷却管相接。本实用新型为单区加热硒化装置，能够提供充足的硒原子，其特点是，在样品窗口周围的多个平衡孔释放部分硒蒸气，使样品表面硒蒸气分布均匀，获得均匀硒化的太阳能薄膜电池光吸收层。本实用新型可与其它真空退火装置配合使用，不需要专用的抽气系统和加热系统，且硒化过程不需要通入载气，通用性强，结构简单，用于铜铟硒基太阳能薄膜电池光吸收层硒化工艺。
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公开(公告)号：CN201332102Y
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200820124581.X
申请日：2008-12-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本实用新型公布一种铜铟硒基太阳能薄膜电池光吸收层硒化装置，属太阳能电池材料领域。装置由硒化腔和上盖两部分组成，两部分均用石英加工而成，并通过磨口密封。石英隔板焊接在硒化腔石英壁的中部，样品和石英坩埚放置在石英隔板上，真空设备加热器置于石英隔板之下。冷却颈和上盖石英壁上的小孔通过焊接连接，冷却颈和冷却管相接。本实用新型为单区加热硒化装置，能够提供充足的硒原子，满足金属预制膜的硒化。本实用新型可与其它真空退火装置配合使用，不需要专用的抽气系统和加热系统，且硒化过程不需要通入载气，通用性强，结构简单，用于铜铟硒基太阳能薄膜电池光吸收层硒化工艺。
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