公开(公告)号：CN1926666A

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200480042307.2

申请日：2004-10-20

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 下村哲生 ,  中森雅彦 ,  山田孝敏 ,  小川一幸 ,  数野淳 ,  渡边公浩

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B37/205 ,  H01L21/30625

Abstract: 本发明提供一种研磨垫及使用了该研磨垫的半导体器件的制造方法。即使在使用碱性料浆或酸性料浆进行研磨的情况下，也可以在从使用开始直至使用结束的长时间内持续维持高精度的光学终点检测。本发明的研磨垫被用于化学机械抛光中，具有研磨区域及透光区域，所述透光区域的浸渍于pH11的KOH水溶液或pH4的H2O2水溶液中24小时后的测定波长λ下的透光率T1(％)与浸渍前的测定波长λ下的透光率T0(％)的差ΔT(ΔT＝T0－T1)(％)，在测定波长400～700nm的全部范围内在10(％)以内。

公开(公告)号：CN102655983B

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201180004980.7

申请日：2011-02-24

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 清水绅司 ,  数野淳

IPC: B24B37/24 ,  C08G18/10 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  C08G18/10 ,  C08G18/12 ,  C08G18/3206 ,  C08G18/4238 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/6674 ,  C08G18/758 ,  C08G18/7621 ,  C08G2101/00 ,  H01L21/3212 ,  C08G18/3814

Abstract: 本发明的目的在于提供一种研磨垫，其具有具备相分离结构的研磨层，研磨速度大，平坦化特性优良，能够抑制划痕的产生。本发明的研磨垫，具有研磨层，所述研磨垫的特征在于，所述研磨层由含有异氰酸酯封端预聚物(A)、异氰酸酯封端预聚物(B)以及增链剂的聚氨酯原料组合物的反应固化物形成，其中，所述异氰酸酯封端预聚物(A)通过使包含异氰酸酯成分和聚酯系多元醇的预聚物原料组合物(a)反应而得到，所述异氰酸酯封端预聚物(B)通过使包含异氰酸酯成分和聚醚系多元醇的预聚物原料组合物(b)反应而得到，且所述反应固化物具有相分离结构。

公开(公告)号：CN102811838B

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201180011574.3

申请日：2011-03-11

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 数野淳

IPC: B24B37/26 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/22 ,  B24B37/26

Abstract: 本发明的目的在于提供研磨层与缓冲层不易剥离的层叠研磨垫。本发明的层叠研磨垫中，不具有贯通区域的研磨层与缓冲层借助胶粘构件而层叠，其特征在于，在所述研磨层的背面侧设置有至少一个从研磨层的中心区域延续至外周端的非胶粘区域X，并且/或者在所述胶粘构件上设置有至少一个从胶粘构件的中心区域延续至外周端的非胶粘区域Y。

公开(公告)号：CN101636247B

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：CN200880008531.8

申请日：2008-03-12

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 小川一幸 ,  数野淳 ,  木村毅 ,  下村哲生

IPC: B24B37/20

CPC classification number: H01L21/30625 ,  B24B37/205

Abstract: 本发明的目的在于提供从使用初期至末期不会随着透光率的下降而产生终点检测误差的研磨垫；以及提供使用该研磨垫的半导体器件的制造方法。本发明涉及一种研磨垫，具有包含研磨区域及透光区域的研磨层，其特征在于，所述透光区域的研磨面侧的表面经粗糙化处理，并且所述透光区域使用前的在波长600nm下的透光率为40～60％。

公开(公告)号：CN102554766B

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：CN201210004655.7

申请日：2005-12-08

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 小川一幸 ,  下村哲生 ,  数野淳 ,  中井良之 ,  渡边公浩 ,  山田孝敏 ,  中森雅彦

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/22

CPC classification number: B24B37/205 ,  Y10T428/24339 ,  Y10T428/24992

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，即使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫将具有研磨区域及透光区域的研磨层和具有比透光区域小的开口部(B)的缓冲层层叠，使得透光区域与开口部(B)重合，并且在所述透光区域的背面与所述开口部(B)的断面的接触部分，设有将该接触部分覆盖的环状的不透水性弹性构件。

公开(公告)号：CN103945984A

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：CN201280057510.1

申请日：2012-12-06

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 数野淳

IPC: B24B37/22 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/22 ,  B24D18/0072 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的目的是提供层叠研磨垫，其即使在较大的情况下也能够平坦地贴附于研磨压盘。本发明的层叠研磨垫为研磨层和支撑层经由粘接构件层叠而成，其特征在于：所述研磨层包含0.5-5重量％的亲水性物质；所述支撑层由缓冲层和热尺寸变化率为1.3-12.6％的树脂膜一体成形而成；所述层叠研磨垫以研磨层侧成为凹状的方式弯曲，垫周边的平均弯曲量为3-50mm。

公开(公告)号：CN102811838A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN201180011574.3

申请日：2011-03-11

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 数野淳

IPC: B24B37/26 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/22 ,  B24B37/26

Abstract: 本发明的目的在于提供研磨层与缓冲层不易剥离的层叠研磨垫。本发明的层叠研磨垫中，不具有贯通区域的研磨层与缓冲层借助胶粘构件而层叠，其特征在于，在所述研磨层的背面侧设置有至少一个从研磨层的中心区域延续至外周端的非胶粘区域X，并且/或者在所述胶粘构件上设置有至少一个从胶粘构件的中心区域延续至外周端的非胶粘区域Y。

公开(公告)号：CN102655983A

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN201180004980.7

申请日：2011-02-24

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 清水绅司 ,  数野淳

IPC: B24B37/24 ,  C08G18/10 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  C08G18/10 ,  C08G18/12 ,  C08G18/3206 ,  C08G18/4238 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/6674 ,  C08G18/758 ,  C08G18/7621 ,  C08G2101/00 ,  H01L21/3212 ,  C08G18/3814

Abstract: 本发明的目的在于提供一种研磨垫，其具有具备相分离结构的研磨层，研磨速度大，平坦化特性优良，能够抑制划痕的产生。本发明的研磨垫，具有研磨层，所述研磨垫的特征在于，所述研磨层由含有异氰酸酯封端预聚物(A)、异氰酸酯封端预聚物(B)以及增链剂的聚氨酯原料组合物的反应固化物形成，其中，所述异氰酸酯封端预聚物(A)通过使包含异氰酸酯成分和聚酯系多元醇的预聚物原料组合物(a)反应而得到，所述异氰酸酯封端预聚物(B)通过使包含异氰酸酯成分和聚醚系多元醇的预聚物原料组合物(b)反应而得到，且所述反应固化物具有相分离结构。

公开(公告)号：CN101530988B

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN200910135488.8

申请日：2006-05-10

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 数野淳 ,  小川一幸 ,  中森雅彦 ,  山田孝敏 ,  下村哲生

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/04 ,  H01L21/304 ,  C08G18/10 ,  C08G101/00

Abstract: 本发明提供一种在研磨对象物的表面难以发生划伤，且平坦化特性优越的研磨垫。本发明的研磨垫，其具有由具有微细气泡的聚氨酯树脂发泡体构成的研磨层，其特征在于，作为所述聚氨酯树脂发泡体的原料成分的高分子量多元醇成分是数均分子量为600～700的疏水性高分子量多元醇，且所述聚氨酯树脂发泡体含有不具有羟基的硅系非离子表面活性剂10～15重量％，所述聚氨酯树脂发泡体的比重是0.7～0.8，阿斯卡D硬度是55～65度。

公开(公告)号：CN101489720B

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200780027348.8

申请日：2007-08-22

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 数野淳 ,  下村哲生 ,  中井良之 ,  小川一幸 ,  木村毅

IPC: B24B37/00 ,  C08G18/32 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24D3/26 ,  C08G18/12 ,  C08G18/4238 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/664 ,  C08G18/6674 ,  C08G18/724 ,  C08G18/7621 ,  C08J9/30 ,  C08J2375/04 ,  C08L83/00 ,  C08G18/3243

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种平坦化特性及耐磨损性优良的抛光垫及其制造方法。本发明涉及抛光垫，其包含由具有微小气泡的聚氨酯发泡体构成的抛光层，其特征在于，所述聚氨酯发泡体是(1)通过与4，4’-亚甲基双(邻氯苯胺)反应而形成tanδ的峰值温度为100℃以上的非发泡聚氨酯的异氰酸酯封端的预聚物A、(2)通过与4，4’-亚甲基双(邻氯苯胺)反应而形成tanδ的峰值温度为40℃以下的非发泡聚氨酯的异氰酸酯封端的预聚物B以及(3)4，4’-亚甲基双(邻氯苯胺)的反应固化物，且异氰酸酯封端的预聚物A与异氰酸酯封端的预聚物B的混合比为A/B＝50/50～90/10(重量％)。