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公开(公告)号:CN1829910B
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN200480021932.9
申请日:2004-06-02
Applicant: X射线光学系统公司
IPC: G01N23/00 , G01N23/223
CPC classification number: G01N23/02 , G01N23/06 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 用于将样品曝露到高能辐射的紧凑、低功耗系统和方法,例如将样品曝露到用于实现X射线吸收近边缘分析(XANES)的X射线。该系统和方法包括一个低功耗的辐射源,例如一个X射线管;一个或多个用于对指向被分析样品的辐射能量加以导向和改变的可调节晶体光学部件;以及一个用于探测由该样品发射的辐射的辐射探测器件,例如一个X射线探测器。这一个或多个可调节晶体光学部件可以是双重弯曲晶体光学部件。该系统的部件可以被排列在同一条直线上。所公开的系统和方法特别适用于XANES分析,例如生物过程中铬或其他过渡金属的化学状态的分析。
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公开(公告)号:CN101558454A
公开(公告)日:2009-10-14
申请号:CN200780046503.0
申请日:2007-11-16
Applicant: X射线光学系统公司
Inventor: 陈泽武
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G21K1/06 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 一种用于接收和重定向X射线的衍射X射线光学器件。该光学器件包括至少两个层,所述层具有类似的或不同的材料组成和类似的或不同的晶体取向。所述层中的每一个显示出衍射效应,且它们的整体效应对所接收的X射线上提供衍射效应。在一个实施例中,所述层为硅,且采用绝缘体上硅键合技术将所述层键合到一起。在另一实施例中,可以采用粘结键合技术。该光学器件可以为曲面、单色光学器件。
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公开(公告)号:CN101553881A
公开(公告)日:2009-10-07
申请号:CN200780039789.X
申请日:2007-10-23
Applicant: 塞莫尼根分析技术有限责任公司
IPC: G21K1/06 , G01N23/223
CPC classification number: G21K1/06 , G01N2223/316 , G21K2201/062 , H01J2235/08
Abstract: 一种从标准x射线管或其它多波长发射源获得集中的、单色x射线光束的方法。来自x射线管阳极的x射线使邻近的独立目标发荧光,产生单色光谱,其中的一部分通过x射线光学系统进行聚焦。这种两级方法为系统提供相当的多功能性而没有不当的信号损失。该两级集中器使得在手持和便携设备中使用聚焦光学系统成为现实。
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公开(公告)号:CN1829910A
公开(公告)日:2006-09-06
申请号:CN200480021932.9
申请日:2004-06-02
Applicant: X射线光学系统公司
IPC: G01N23/00 , G01N23/223
CPC classification number: G01N23/02 , G01N23/06 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 用于将样品曝露到高能辐射的紧凑、低功耗系统和方法,例如将样品曝露到用于实现X射线吸收近边缘分析(XANES)的X射线。该系统和方法包括一个低功耗的辐射源,例如一个X射线管;一个或多个用于对指向被分析样品的辐射能量加以导向和改变的可调节晶体光学部件;以及一个用于探测由该样品发射的辐射的辐射探测器件,例如一个X射线探测器。这一个或多个可调节晶体光学部件可以是双重弯曲晶体光学部件。该系统的部件可以被排列在同一条直线上。所公开的系统和方法特别适用于XANES分析,例如生物过程中铬或其他过渡金属的化学状态的分析。
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公开(公告)号:CN1675720A
公开(公告)日:2005-09-28
申请号:CN03819527.5
申请日:2003-06-19
Applicant: 谢诺思公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 本发明涉及具有横向梯度反射多层膜的光学单元(10),该光学单元的反射表面用于反射锐角入射的X射线并产生二维光学效应,其特征在于所述反射表面由单一表面构成,所述表面根据对应于两个不同方向的两个曲率成型。本发明还涉及制造所述光学单元的方法,其特征在于该方法包括已经具有曲率的基质上镀膜,而且所述基质的曲率沿着第二不同方向。本发明还公开了用于产生和处理RX发散角度的X光反射仪的装置,包括如上所述的光学单元,结合到X射线源上,以便光源发出的X射线在二维方向上被处理,以便调整光源对于样本所发出的光束,X光束的入射角度不同于所考虑的样本。
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公开(公告)号:CN1662999A
公开(公告)日:2005-08-31
申请号:CN03814508.1
申请日:2003-06-19
Applicant: 谢诺思公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 本发明涉及一种用来处理入射X射线束的光学装置,所述装置包括:·单色仪(M)和·用于调节入射光束的光学元件(20),其反射表面能够产生二维光学效果,以便适应在单色仪目的地的光束,所述光学元件包括多层结构类型的反射X射线的表面,其特征在于:所述反射表面由单个表面组成,所述反射表面是对应两个不同方向根据两个曲率成形的。
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