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公开(公告)号：CN104155709B
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201410414212.4
申请日：2014-08-21
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种透射式脉冲压缩光栅器件及其制备方法，所述器件包括熔融石英基板，设置在所述熔融石英基板的一个光学表面上的透射式脉冲压缩光栅，其特征在于：在所述熔融石英基板的另一个相对的光学表面上设有高频增透光栅微结构。采用全息光刻结合离子刻蚀转移的方法实现器件的制备。本发明通过一个器件可以同时实现光束色散和增透，提高了透射式脉冲压缩光栅激光损伤阈值和光能利用率，在超强超快激光领域具有重要应用价值。
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公开(公告)号：CN103955128B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201410176749.1
申请日：2014-04-29
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种全息光栅三维主动稳定控制记录方法，具体为：（1）制备两个参考光栅；（2）获得两个参考光栅的莫尔条纹；（3）在全息记录光路中放置主光栅干板，打开干涉记录光，记录记录光场与两参考光栅形成的莫尔条纹图像，获得参考图像；（4）实时记录记录光场与两参考光栅形成的莫尔条纹图像；（5）与参考图像比较，获得莫尔条纹图像移动信息，实时调节控制补偿装置，实现实时莫尔条纹图像与参考图像一致；（6）达到设定曝光时间，经显影获得主光栅。本发明通过三维主动稳定控制干涉光场，使得当记录光场相对光栅基板发生变化时，能在长时间曝光过程中实现实时动态补偿，提高大口径光栅全息记录的稳定性。
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公开(公告)号：CN101840193B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201010142320.2
申请日：2010-03-25
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/32 , G02B5/1857 , G02B26/0825 , G03H1/04 , G03H2001/0439
Abstract: 本发明公开了一种在有像差光栅基底上制作低衍射波像差光栅的方法。由一平行光记录光束和另一波面可调的平行光记录光束组成全息干涉记录光场，在全息记录基板上进行全息曝光，经显影后，获得所需光栅。其特征在于：在其中一束记录光束的发散光路中放入一个变形镜，通过控制变形镜，获得用于补偿全息光栅基底像差的全息记录干涉光场。在此过程中，由变形镜、变形镜控制器与干涉仪三者构成全息记录干涉光场的闭环控制和检测系统；利用经过上述对变形镜调整后获得的全息干涉记录光场对涂有感光材料的全息记录基板曝光，记录全息光栅，经显影，完成所需低衍射像差光栅的制作。
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公开(公告)号：CN101799569B
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN201010126045.5
申请日：2010-03-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作凸面双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到凸面双闪耀光栅。本发明实现了凸面双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
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公开(公告)号：CN101382612B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200810155640.4
申请日：2008-10-10
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于参考光栅单次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101840193A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010142320.2
申请日：2010-03-25
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/32 , G02B5/1857 , G02B26/0825 , G03H1/04 , G03H2001/0439
Abstract: 本发明公开了一种在有像差光栅基底上制作低衍射波像差光栅的方法。由一平行光记录光束和另一波面可调的平行光记录光束组成全息干涉记录光场，在全息记录基板上进行全息曝光，经显影后，获得所需光栅。其特征在于：在其中一束记录光束的发散光路中放入一个变形镜，通过控制变形镜，获得用于补偿全息光栅基底像差的全息记录干涉光场。在此过程中，由变形镜、变形镜控制器与干涉仪三者构成全息记录干涉光场的闭环控制和检测系统；利用经过上述对变形镜调整后获得的全息干涉记录光场对涂有感光材料的全息记录基板曝光，记录全息光栅，经显影，完成所需低衍射像差光栅的制作。
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公开(公告)号：CN101377413A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810156859.6
申请日：2008-09-28
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法，其特征在于：采用TE/TM线偏振光为入射光，入射角为被测掩模的闪耀角，分别测量标准反射片的反射光的光谱分布D0(λ)；被测掩模的反射衍射零级复色光的光谱分布D(λ)；采用比较法，计算出介质膜光栅掩模实际的反射衍射零级的光谱分布Rg(λ)，对其进行光谱反演，得到掩模的槽形参数：光刻胶的剩余厚度、槽深和占宽比。本发明实现了对于面积、重量均较大的待测掩模的槽形参数的无损检测；且可以避免测量系统的误差，对光谱仪测量系统以及光源没有特别要求，测量方法简单易行。
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公开(公告)号：CN100437392C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200610039967.6
申请日：2006-04-24
Applicant: 苏州大学
Abstract: 一种用控制装置稳定全息干涉条纹的方法及装置，外界的扰动常造成干涉条纹的随机漂移，从而使拍摄的全息光栅质量下降，利用线阵CCD采集干涉条纹图像信息并传送给控制装置，控制装置计算条纹漂移量，控制装置控制与反射镜连接在一起的压电陶瓷移动进行位相补偿，可使干涉条纹的漂移大大的减小，达到稳定曝光区域干涉条纹，曝光时间将允许大大延长。
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公开(公告)号：CN108761603B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201810495948.7
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明属于信息光学领域，涉及一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题，使用体布拉格光栅‑1级透射衍射效率作为平行光的判断标准，可以较为精确的确定针孔滤波器与准直透镜之间的距离，准确的将针孔滤波器的小孔放置在准直透镜的物方焦点上，从而实现干涉光路的准直；此外该系统有助于实现对曝光光束平行性的实时监控，配合PZT平移台还可以实现对平行光的锁定，从而提高了平行等间距条纹的全息光栅的拍摄质量。
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公开(公告)号：CN107421464B
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201710609100.8
申请日：2017-07-25
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种用于表面形貌测量的高精度干涉型双位相光栅位移传感器，它包括激光器、反射型柱面全息位相光栅、对称设置的两个平面反射镜、线密度为反射型柱面全息位相光栅线密度的两倍的参考平面光栅、对称设置的两个光电探测器、分别与两个光电探测器相连接的两个信号处理装置、一端与反射型柱面全息位相光栅相连接的测量杠杆、与测量杠杆的另一端相连接且与待测工件的表面相接触的触针；反射型柱面全息位相光栅并产生衍射角为θ的±1级衍射光，经过两个平面反射镜反射后入射至参考平面光栅上的同一光栅区域并分别在±θ角方向产生两组不同级次的衍射光的干涉条纹，分别由两个光电探测器接收并转换为电信号发送至信号处理装置进行处理。
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