公开(公告)号：CN1845017A

公开(公告)日：2006-10-11

申请号：CN200610039967.6

申请日：2006-04-24

Applicant: 苏州大学

Inventor： 李朝明 ,  吴建宏 ,  朱亚一 ,  居戬之 ,  胡祖元 ,  陈新荣 ,  刘全 ,  韦小茹

IPC: G03H1/04 ,  G02B5/32

Abstract: 一种用控制装置稳定全息干涉条纹的方法及装置，外界的扰动常造成干涉条纹的随机漂移，从而使拍摄的全息光栅质量下降，利用线阵CCD采集干涉条纹图像信息并传送给控制装置，控制装置计算条纹漂移量，控制装置控制与反射镜连接在一起的压电陶瓷移动进行位相补偿，可使干涉条纹的漂移大大的减小，达到稳定曝光区域干涉条纹，曝光时间将允许大大延长。

公开(公告)号：CN100437392C

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN200610039967.6

申请日：2006-04-24

Applicant: 苏州大学

Inventor： 李朝明 ,  吴建宏 ,  朱亚一 ,  居戬之 ,  胡祖元 ,  陈新荣 ,  刘全 ,  韦小茹

IPC: G03H1/04 ,  G02B5/32

Abstract: 一种用控制装置稳定全息干涉条纹的方法及装置，外界的扰动常造成干涉条纹的随机漂移，从而使拍摄的全息光栅质量下降，利用线阵CCD采集干涉条纹图像信息并传送给控制装置，控制装置计算条纹漂移量，控制装置控制与反射镜连接在一起的压电陶瓷移动进行位相补偿，可使干涉条纹的漂移大大的减小，达到稳定曝光区域干涉条纹，曝光时间将允许大大延长。