-
公开(公告)号：CN115856833A
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202211618045.6
申请日：2022-12-15
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
IPC: G01S7/481 , G01S7/4863 , G01S7/487 , G01S7/48 , G01S17/89
Abstract: 本发明涉及光电探测技术领域，公开了一种基于分布式多通道并行探测的非视域成像系统，脉冲激光器发出激光后进行分束，得到透射光部分，透射光部分通过扫描振镜照射在中继墙表面，在中继墙表面发生漫反射后照射在隐藏物体表面；再次发生反射回到中继墙表面后通过扫描振镜、分布式光纤探测阵列被单光子探测器阵列所采集，处理单元根据探测信号计算所需成像信息；分布式光纤探测阵列包含中间探测通道、分布于中间探测通道侧壁外的多个边缘探测通道，多个边缘探测通道内设有光纤且通过光纤连接至单光子探测器阵列；边缘探测通道对应的边缘探测点与中继墙表面照射点之间的距离为预定值，以提升对应非视域三次回波光束的探测信号的信噪比。
-
公开(公告)号：CN115841423A
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202211589185.5
申请日：2022-12-12
IPC: G06T3/40 , G06N3/0464 , G06N3/045 , G06N3/0475
Abstract: 本发明公开了一种基于深度学习的宽场照明荧光超分辨显微成像方法，包括训练集原始图像获取，训练数据集制作，网络训练、损失函数构建，超分辨图像重建等步骤，本发明仅通过一张宽场图片即可实现超分辨SIM重构，成像速度快，降低了光毒性，提升了时间分辨率；训练集需要使用SIM系统采集，一旦训练完成之后即可基于普通的宽场显微镜系统完成超分辨成像，光路简单，样品要求低，普适性强。
-
公开(公告)号：CN115826364A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211493606.4
申请日：2022-11-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种基于双步双光子效应的高通量超分辨纳米刻写方法与装置，将存在延时的一个激发光和一个促进光合束，入射到数字微镜器件，随后成像到三维样品台的基板上涂覆的具有双步双光子效应的光刻胶上；根据所需刻写结构控制数字微镜器件，完成基板所在焦面处的曝光，同时控制三维样品台，以及激发光和促进光的延时，使延时大于光刻胶分子的单重态的激发态S1到多重态T1，进而实现双步双光子效应，实现任意三维纳米结构的刻写；激发光和促进光为同一波长且重复频率相同的激光束，且激发光的脉宽为飞秒，促进光的脉宽为皮秒或者纳秒。本发明实现超分辨激光刻写，并且结合数字微镜器件，进而实现高通量刻写能力。
-
公开(公告)号：CN115826214A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211480569.3
申请日：2022-11-23
Abstract: 本发明公开了一种基于共焦光路像素差分的焦面检测方法，该方法基于分别放置在共焦差分光路中的焦前和焦后位置上的两路图像传感器，通过将两路图像传感器获取的离焦光斑形状进行差分，结合后期图像处理，实现了焦面的实时探测跟踪与补偿。还公开了一种基于共焦光路像素差分的焦面检测装置，包括位于光学系统中心光轴上依次排布的光源、滤波准直装置、二分之一波片、偏振分光棱镜、四分之一波片、物镜、样品，以及与偏振分光棱镜共轴依次布置的会聚透镜、分光棱镜和两路图像传感器。本发明与现有的其他焦面检测方法相比，具有装置简单，抗干扰能力强的优点，能实现高精度焦面跟踪定位与补偿。
-
公开(公告)号：CN115793395A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211599240.9
申请日：2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种基于双抑制效应的高精度飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用。所述飞秒激光直写光刻胶组合物包括单体、双光子引发剂和阻聚剂；所述单体选自丙烯酸酯类化合物和甲基丙烯酸酯类化合物中的一种或多种按任意配比的组合；以单体质量为100％计，双光子引发剂和阻聚剂的质量百分比为0.5‑5wt％和0.1‑5wt％。本发明公开的光刻胶组合物中加入了阻聚剂，利用化学抑制效应可以提高飞秒激光直写的刻写精度。本发明提供了所述光刻胶组合物在飞秒激光直写制备微结构中的应用，其结合了PPI的物理抑制和阻聚剂的化学抑制两种抑制效应，可以显著提高飞秒激光直写的刻写精度，获得极高精度的高质量刻写线条。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115598833A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211046913.8
申请日：2022-08-30
Abstract: 本发明提供了一种基于方形多模光纤高通量的三维激光直写方法及系统，本发明将由多个方形多模光纤组成的光纤阵列作为激光直写头，每一方形多模光纤均利用一空间光调制器对入射方形多模光纤的光场根据加载的计算好的相位图进行相位调制，在出射面实现聚焦，聚焦后的激光对待加工物体进行三维激光直写；其中，每一方形多模光纤对应的计算好的相位图通过设置的聚焦位置，利用闭环的迭代遗传算法进行优化获得，每一方形多模光纤出射激光的聚焦位置根据光纤阵列排列时的加工误差进行设置。利用方形多模光纤可以紧致排列的特点，可将系统拓展为多通道，继而实现多通道并行直写，直写效率进一步提高，解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
-
公开(公告)号：CN112882184B
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202110061579.2
申请日：2021-01-18
Abstract: 本发明公开了一种双光束实时中心对准和稳定的装置和方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、角度压电调节镜架、二色镜、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明可以对两束不同波长的激光束进行合束，确保光斑中心严格对准，并且对出射后的合束光进行光束稳定，在长时间工作中保持两束光的中心一直稳定在重合状态，实现小型化、高精度、快速度的合束光稳定控制。利用本发明装置调整得到稳定的合束光，可以广泛用于超分辨显微成像和高精度激光直写光刻等系统中。
-
公开(公告)号：CN115452835A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202210990663.7
申请日：2022-08-18
Applicant: 浙江大学
IPC: G01N21/88 , G01N21/95 , G01N21/956 , G01N21/01
Abstract: 本发明公开了一种基于超快激光时空变换的掩膜版或晶圆缺陷高速检测装置及方法，包括激光依次通过的超快光源产生装置、时空域色散装置、样品照明与扫描检测装置和信号探测与处理装置，超快光源产生装置包括相连的超快脉冲种子源和放大装置；时空域色散装置包括激光依次通过的时域色散元件、损耗补偿和放大装置和空域色散元件；采用超快激光脉冲作为照明光源，利用时间‑光谱‑空间映射实现对样品的照明，通过单点探测器高速获取信号，每一个激光脉冲可以实现对样品的一次照明和检测，通过对样品的快速移动，可以实现对样品的高速检测，其数据通量可达1010/s以上，极大地提升了缺陷检测的速度，是对传统缺陷检测技术的有力补充。
-
公开(公告)号：CN115327867A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202211253404.2
申请日：2022-10-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种高速高精度对准的激光直写光刻方法与装置，使用位移台与转镜同步运动算法，首先基于激光器产生激光束，基于电光/声光调制器实现激光强度高速调制，基于任意波形发生器产生高速调制信号控制；然后启动位移台，按照预设路径移动，经过预设触发位置时产生触发信号；再基于数据采集卡采集触发信号，获得触发后打开转镜触发激光器，基于转镜位置激光器获得转镜扫描起始点信号，用于启动任意波形发生器输出高速调制信号；最后位移台匀速移动到下一个触发位置产生触发信号，直到位移台预设路径移动结束，完成刻写。本发明基于位移台与转镜同步运动算法，有效解决了现有激光直写光刻系统无法实现高速高精度对准的问题。
-
公开(公告)号：CN115046744B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210975776.X
申请日：2022-08-15
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于SLM生成光斑点阵的焦面检测及调倾方法与装置，所述方法在SLM上加载n×n圆形点阵，入射光束依次经过三角棱镜第一反射面、SLM、三角棱镜第二反射面、二分之一波片、偏振分束镜、四分之一波片、透镜、物镜，入射到样品表面；经样品表面反射后，反射光依次经过物镜、透镜、四分之一波片和偏振分束镜后，分束为第一光束和第二光束；其中，第一光束入射到第一CCD相机进行成像，第二光束入射到第二CCD相机进行成像，记录两个CCD相机上的光斑点阵的直径；基于两光斑点阵的直径的差值计算离焦量，进而获得焦点位置；并计算样品的倾斜度，从而对焦面进行调倾。本发明解决焦面倾斜问题，装置简单，成本低。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
534
records
(took 0.047 seconds)
