公开(公告)号：CN116034448A

公开(公告)日：2023-04-28

申请号：CN202180054193.7

申请日：2021-07-27

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  新井敏成 ,  松本隆德 ,  竹下琢郎

IPC: H01J37/18

Abstract: 提供一种聚焦能量束装置，其具备：支承部，其支承被处理基板；以及聚焦能量束柱状体，其具备差动排气装置且能够以与所述被处理基板的被处理面的任意区域对应的方式进行相对移动，其中，所述支承部在将所述被处理基板水平地配置的状态下仅支承所述被处理基板的周缘部，在由所述支承部支承的所述被处理基板的下方配置有正压腔室，所述正压腔室遍及所述被处理基板的被处理区域整体地施加正压，阻止所述被处理基板因自重产生的挠曲，在所述正压腔室内具备局部负压机构，所述局部负压机构维持与所述被处理基板的下表面不接触的状态来施加负压，来抵消所述差动排气装置的吸引力，所述局部负压机构维持隔着该被处理基板而与所述差动排气装置对置的状态，并且能够追随着所述差动排气装置而相对于被处理基板进行相对移动。

公开(公告)号：CN110462503B

公开(公告)日：2022-09-30

申请号：CN201880019554.2

申请日：2018-04-10

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 新井敏成

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明涉及一种光照射装置，该光照射装置能够使原本应形成曝光图案的位置与实际曝光的曝光图案的位置一致。在与第一方向(x方向)大致正交的第二方向(y方向)上，在掩模(32)上形成的透光区域(32a)与光轴(Ax)间的距离为由通过透光区域(32a)的光形成在基板(W)上的曝光图案与光轴(Ax)间的距离的A(A为1以上的数值)倍。

公开(公告)号：CN112055831A

公开(公告)日：2020-12-08

申请号：CN201980026975.2

申请日：2019-06-07

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 吉田祐治 ,  池田聪 ,  新井敏成

IPC: G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种将散射光照射到被曝光面的光照射装置，能够根据感光性材料的波长依赖性照射适当波长的光。光照射装置具备：光源部，朝向被曝光面射出散射光；及光学滤波器，使从光源部射出的光透射，光源部射出截止了在光学滤波器中设定的选择波长的短波长侧的频带的光。

公开(公告)号：CN103733138B

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201280037975.0

申请日：2012-07-30

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 野村义昭 ,  新井敏成

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7015 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7019 ,  H01L21/682

Abstract: 本发明进行以下的步骤：为了检测到在将在输送方向A上被输送来的被曝光基板1的定位的偏移，检测出在被曝光基板（1）上预先规定的第1观测点（14）和第2观测点（15）的坐标的坐标检测步骤；基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点（14）和第2观测点（15）预先规定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出步骤；以及基于所述被算出校正量对之后被曝光的被曝光基板（1）的定位进行校正的定位校正步骤。由此，能够使之后被曝光的被曝光基板的定位精确度得以提高。

公开(公告)号：CN103733138A

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：CN201280037975.0

申请日：2012-07-30

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 野村义昭 ,  新井敏成

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7015 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7019 ,  H01L21/682

Abstract: 本发明进行以下的步骤：为了检测到在将在输送方向A上被输送来的被曝光基板1的定位的偏移，检测出在被曝光基板（1）上预先规定的第1观测点（14）和第2观测点（15）的坐标的坐标检测步骤；基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点（14）和第2观测点（15）预先规定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出步骤；以及基于所述被算出校正量对之后被曝光的被曝光基板（1）的定位进行校正的定位校正步骤。由此，能够使之后被曝光的被曝光基板的定位精确度得以提高。

公开(公告)号：CN115461833A

公开(公告)日：2022-12-09

申请号：CN202180029913.4

申请日：2021-05-31

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  新井敏成 ,  松本隆德 ,  竹下琢郎

IPC: H01J37/18 ,  H01J37/16 ,  H01J37/28 ,  H01J37/305 ,  H01J37/317 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 差动排气装置将处理用空间设为高真空度，其中，所述差动排气装置具备：位移驱动部，其能够使头部或被处理基板进行位移来调整被处理面与所述头部的对置面的平行度及距离；间隙测定部，其沿着所述头部的所述对置面的周缘分别配置在至少三个部位以上，能够检测所述对置面与所述被处理面之间的距离；以及间隙控制部，其基于所述间隙测定部检测出的所述对置面与所述被处理面之间的距离信息来控制所述位移驱动部，以使得所述对置面与所述被处理面隔开规定的距离而成为平行。

公开(公告)号：CN110998795A

公开(公告)日：2020-04-10

申请号：CN201880051904.3

申请日：2018-07-27

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  畑中诚 ,  新井敏成

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

Abstract: 本发明的一个实施方式的激光照射装置的特征在于，具备：光源，其产生激光；投影透镜，其向被覆于基板上的非晶硅薄膜的规定的区域照射激光；及投影掩模图案，其设置在投影透镜上，并设有多个开口部以对于非晶硅薄膜的规定的区域照射激光，投影透镜经由投影掩模图案而对于沿规定的方向移动的基板上的非晶硅薄膜的规定的区域照射激光，投影掩模图案在与移动的方向正交的一列中，至少相邻的开口部的面积互不相同。

公开(公告)号：CN104834043B

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：CN201510064078.4

申请日：2015-02-06

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成

IPC: G02B5/30 ,  G02B27/28 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种偏振器、偏振光照射装置及偏光轴方向调整方法，在偏振器单体或并列配置多个偏振器的偏振光照射装置中，以高精度进行偏振器的偏光轴方向的调整。所述偏振器具备：基板(10)，在表面形成有线栅(G)；及遮光部(11、11A)，形成于基板(10)上且阻挡透射基板(10)的光，光透射的光透射区域(12A)与遮光部(11、11A)的边界线(L)相对于线栅(G)的延伸方向在设定方向上形成为直线状。

公开(公告)号：CN102906635B

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201180020598.5

申请日：2011-04-15

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  新井敏成 ,  水村通伸

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/13

CPC classification number: G03F9/7084 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/133788 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70566

Abstract: 本发明提供一种取向处理方法及取向处理装置，其使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组（6A）和第二掩模图案组（6B）的光掩模（7）靠近对置，将该基板（4）在与所述第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）交叉的方向上移动，第一掩模图案组（6A）以一定的排列间距形成细长状的多个开口，第二掩模图案组（6B）与该第一掩模图案组（6A）平行地设置且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成细长状的多个开口，对所述光掩模（7）的第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）分别照射入射角度（θ）为不同的P偏振光，在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。由此，通过一次取向处理来形成取向状态不同的二种条纹状的取向区域并缩短取向处理工序的节拍。

公开(公告)号：CN105008990A

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：CN201480009344.7

申请日：2014-03-07

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成 ,  井关克登

IPC: G02F1/1337 ,  F21V19/00 ,  G02F1/13 ,  H01L21/027 ,  G02B5/30

CPC classification number: G02B27/286 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/133788

Abstract: 本发明提供一种光取向用偏光照射装置，以作业性良好、且节省空间地进行光取向用偏光照射装置中的光源的维护。光取向用偏光照射装置(1)具备光照射部(10)，其具有包含光源(2)及偏振器(4)的光学部件，光照射部(10)具备将光源(2)在光学部件之上的光照射位置(P1)支承的同时，在从光学部件向扫描方向远离的维护位置(P2)支承的光源支承导杆(11)，光源支承导杆(11)使光源(2)从光照射位置(P1)移动至维护位置(P2)时，使光源(2)的朝向以光照射侧沿扫描方向的方式发生变化。