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公开(公告)号：CN104169802B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201380014388.4
申请日：2013-03-13
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F1/42 , G03F9/7019
Abstract: 本发明提供一种校正用掩模及校正方法，能够容易地测定调整曝光装置的曝光位置的图像传感器的分辨率。本发明的校正用掩模及校正方法中，使光透过具有掩模部、玻璃面部和遮蔽线组的校正用掩模，接受除所述遮蔽线组外的透过的光，并从接受的光的上方转换图像信息，然后根据所述图像信息测定分辨率信息，其中，所述掩模部具有用于取得图像的图像取得窗，所述玻璃面部位于所述掩模部的下方侧，并由利用粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成，所述遮蔽线组为分别设置在所述图像取得窗及所述玻璃面部上的由遮蔽材料构成的遮蔽线。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104169802A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201380014388.4
申请日：2013-03-13
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F1/42 , G03F9/7019
Abstract: 本发明提供一种校正用掩模及校正方法，能够容易地测定调整曝光装置的曝光位置的图像传感器的分辨率。本发明的校正用掩模及校正方法中，使光透过具有掩模部、玻璃面部和遮蔽线组的校正用掩模，接受除所述遮蔽线组外的透过的光，并从接受的光的上方转换图像信息，然后根据所述图像信息测定分辨率信息，其中，所述掩模部具有用于取得图像的图像取得窗，所述玻璃面部位于所述掩模部的下方侧，并由利用粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成，所述遮蔽线组为分别设置在所述图像取得窗及所述玻璃面部上的由遮蔽材料构成的遮蔽线。
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公开(公告)号：CN102902155B
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201210262534.2
申请日：2012-07-26
Applicant: 株式会社 V 技术
Abstract: 本发明提供一种光掩模及曝光装置。光掩模(9)在同一掩模基板(10)上将掩模图案不同的多种图案区域(11)按照其中心轴相互平行的方式排列设置，并具备：在与各所述图案区域(11)的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处，分别按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的多个开口部(12)；和在各所述开口部(12)内分别为了辨别所述掩模图案而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记(13)，将各所述开口部(12)内的辨别用标记(13)分别设置在各所述开口部(12)的纵长中心轴上的不同位置。
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公开(公告)号：CN103733138B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201280037975.0
申请日：2012-07-30
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F9/7015 , G03F7/70791 , G03F9/00 , G03F9/7019 , H01L21/682
Abstract: 本发明进行以下的步骤：为了检测到在将在输送方向A上被输送来的被曝光基板1的定位的偏移，检测出在被曝光基板（1）上预先规定的第1观测点（14）和第2观测点（15）的坐标的坐标检测步骤；基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点（14）和第2观测点（15）预先规定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出步骤；以及基于所述被算出校正量对之后被曝光的被曝光基板（1）的定位进行校正的定位校正步骤。由此，能够使之后被曝光的被曝光基板的定位精确度得以提高。
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公开(公告)号：CN103733138A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201280037975.0
申请日：2012-07-30
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F9/7015 , G03F7/70791 , G03F9/00 , G03F9/7019 , H01L21/682
Abstract: 本发明进行以下的步骤：为了检测到在将在输送方向A上被输送来的被曝光基板1的定位的偏移，检测出在被曝光基板（1）上预先规定的第1观测点（14）和第2观测点（15）的坐标的坐标检测步骤；基于所述被检测出的坐标相对于根据所述第1观测点（14）和第2观测点（15）预先规定的基准线的偏移算出校正量的校正量算出步骤；以及基于所述被算出校正量对之后被曝光的被曝光基板（1）的定位进行校正的定位校正步骤。由此，能够使之后被曝光的被曝光基板的定位精确度得以提高。
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公开(公告)号：CN102902155A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210262534.2
申请日：2012-07-26
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明提供一种光掩模及曝光装置。光掩模(9)在同一掩模基板(10)上将掩模图案不同的多种图案区域(11)按照其中心轴相互平行的方式排列设置，并具备：在与各所述图案区域(11)的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处，分别按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的多个开口部(12)；和在各所述开口部(12)内分别为了辨别所述掩模图案而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记(13)，将各所述开口部(12)内的辨别用标记(13)分别设置在各所述开口部(12)的纵长中心轴上的不同位置。
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