一种具有多功能电控光学特性的调光器件

    公开(公告)号:CN114442348A

    公开(公告)日:2022-05-06

    申请号:CN202210121238.4

    申请日:2022-02-09

    Abstract: 一种具有多功能电控光学特性的调光器件,它涉及一种调光器件。本发明要解决现有散射模式的调光器件对入射光透过率的调节有限,吸收模式的调光器件难以做到隐私的保护,且很难均匀利用整个调光元件的消光材料的问题。调光器件由一层第一透明介质层、一层第一透明导电层、一层散射型调光层、n层染料液晶调光层、一层第二透明导电层及一层第二透明介质层组成。本发明用于具有多功能电控光学特性的调光器件。

    一种聚合物分散液晶的应用

    公开(公告)号:CN110283602B

    公开(公告)日:2021-10-26

    申请号:CN201910668525.5

    申请日:2019-07-23

    Abstract: 一种聚合物分散液晶的应用,涉及热致变色领域。本发明是要解决现有的热致变色聚合物制备方法复杂,传统温控膜转变温度不可调的技术问题。本发明的热致变色聚合物分散液晶薄膜是一种智能调光膜,将薄膜粘贴于建筑的窗户玻璃上,可以根据室内温度自行调节透过的光线,温度较高时薄膜为不透明态,减少太阳光的辐照,降低室内温度;温度较低时薄膜恢复透明态,允许光线进入,提升室内温度。本发明的热致变色调光膜具有对温度变化敏感、自动响应调控的特点,大幅度减少能源消耗。本发明可以通过改变原材料的种类和比例来控制透光率的转变温度,且制备工艺简单,可以大尺寸、批量化生产。

    抗激光损伤混杂VOX相的制备方法

    公开(公告)号:CN113235042A

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN202110516132.X

    申请日:2021-05-12

    Abstract: 抗激光损伤混杂VOx相的制备方法,本发明属于功能薄膜材料,它为了解决现有采用不同工艺制备的氧化钒薄膜的光学调制性能参差不齐,极大的限制了薄膜的激光防护效能的问题。制备方法:一、超声清洗基底材料和靶材;二、安装V2O3靶材;三、真空室抽气;四、设置沉积温度,采用直流偏压反溅清洗;五、当等离子亮起后降低气压至0.5~1.5Pa,同时通入0.3~0.8sccm的O2,设置偏压为‑100~‑140V,进行预溅射清洁靶材表面,然后打开挡板,沉积薄膜。本发明还可采用退火方法。本发明利用射频磁控溅射工艺,通过控制沉积工艺参数,制备了主要成分为VO2和V2O5的高VO2比例混杂晶态VOx相薄膜。

    一种采用嵌套环结构的Low-E车膜及其车窗

    公开(公告)号:CN119371899A

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202411396529.X

    申请日:2024-10-09

    Abstract: 一种采用嵌套环结构的Low‑E车膜及其车窗,涉及智能车膜技术领域。解决现有Low‑E车窗电磁屏蔽效能较高,不利于GPS、ETC以及手机信号的穿透,导致车内移动设备信号弱化,影响导航准确性和通信质量的问题。同时,本发明还解决了更换Low‑E的车窗成本较高、周期较长,提高了消费者体验的准入门槛的问题。嵌套环结构的Low‑E车膜通过将Low‑E薄膜覆盖在柔性基底层上,光学胶层覆盖在Low‑E薄膜上,其中Low‑E薄膜由多个环结构单元阵列排布而成,且各个环结构单元互相连通,使得电磁透射性能发生跳变,即:由强电磁屏蔽转变为电磁透过,增加对电磁波的增透效果,适用于智能车膜领域。

    一种基于遗传算法设计优化的宽频透明吸波体及其设计方法

    公开(公告)号:CN113032951B

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202011424017.1

    申请日:2020-12-08

    Abstract: 本发明公开了一种基于遗传算法设计优化的宽频透明吸波体及其设计方法。所述宽频透明吸波体包括透明导电膜与介质层,所述透明导电膜包括底部低阻抗导电膜层(1)、中层图形化导电膜层(2)和上层图形化导电膜层(3),所述底部低阻抗导电膜层(1)与中层图形化导电膜层(2)之间为介质层Ⅰ,所述中层图形化导电膜层(2)与上层图形化导电膜层(3)之间为介质层Ⅱ,所述介质层Ⅰ与介质层Ⅱ均为空气介质;多个所述宽频透明吸波体在二维平面上周期排布呈棋盘状,多个所述宽频透明吸波体在二维平面上沿水平方向与垂直方向均匀排布。本发明解决了吸波体宽带吸收、低剖面的难题,利用遗传算法设计互补谐振图案及结构参数,从而实现超材料吸波体。

    一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法

    公开(公告)号:CN112281133B

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202011172175.2

    申请日:2020-10-28

    Abstract: 本发明涉及一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法和半球谐振子制造方法,该谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法包括:获取镀膜设备和镀膜工件的三维数据;根据获取的三维数据建立镀膜工件及有效镀膜区域的三维模型,对镀膜工件待镀膜的镀膜面沿径向分布划分网格;利用有限元仿真获得不同工艺参数对应的镀膜工件即半球谐振子在镀膜表面的膜层厚度分布及均匀程度数据;在镀膜过程中,采集镀膜厚度参数,动态分析膜层的厚度分布及均匀程度,依据已获得的膜层厚度及均匀程度结果修正镀膜的工艺参数,使膜层厚度分布均匀程度不断提高。采用本发明能够快速实现半球谐振子所需的均匀镀膜,并提高实际镀膜过程中产品的质量。

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