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公开(公告)号：CN110883017A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201811051425.X
申请日：2018-09-10
IPC: B08B7/00
Abstract: 本发明提供一种静态清洁石墨烯表面的方法，包括：将活性炭复合物覆盖在石墨烯的表面；沿着垂直于所述表面的方向，对所述活性炭复合物施加压力，以使所述活性炭复合物粘附所述表面的污染物。本发明还提供实现上述方法的装置。本发明的方法和装置能够使活性炭复合物与石墨烯的表面进行充分的静态接触，通过活性炭复合物的吸附性去除石墨烯表面的污染物，从而实现对石墨烯的洁净处理，提升石墨烯的洁净度，具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN110540197A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201810534499.2
申请日：2018-05-29
IPC: C01B32/196
Abstract: 本发明提供一种碳纳米材料清洁石墨烯表面的方法，包括如下步骤：提供一碳纳米材料；使所述碳纳米材料与所述石墨烯表面接触；施加压力于所述接触碳纳米材料的石墨烯表面；及使所述碳纳米材料与所述施加压力后的石墨烯分离；其中，所述碳纳米材料为碳纳米墙或碳纳米墙复合物。本发明提供的方法简便易行，对于多种基底上的石墨烯均具有较好的清洁效果，对进一步实现和拓展石墨烯的高端应用具有重要的意义。
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公开(公告)号：CN109179389A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201811334451.3
申请日：2018-11-09
IPC: C01B32/186
Abstract: 本发明提供了一种利用CVD方法生长石墨烯薄膜的载具，用于放置在CVD设备的石英管内。载具包括底座、矩形底板以及多个矩形托板。矩形底板水平地设置在底座上方，且固定连接于底座；多个矩形托板用于承载石墨烯生长衬底，每一矩形托板上表面的四周设置有多个支撑体，石墨烯生长衬底容纳于多个支撑体围成的空间，多个矩形托板可层叠地放置在矩形底板上，相邻两个矩形托板之间用支撑体隔开。
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公开(公告)号：CN210572024U
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201921124479.4
申请日：2019-07-16
Abstract: 本实用新型一实施方式提供了一种评估石墨烯洁净度的装置，包括依次排布的预热区、负载区以及成像区；所述预热区包括第一加热器，所述预热区用以对待评估的石墨烯进行预热；所述负载区包括熏蒸部件，所述负载区用以将熏蒸样品负载于所述石墨烯的表面；所述成像区用以为负载有熏蒸样品的所述石墨烯采集图像。本实用新型一实施方式的评估石墨烯洁净度的装置，可实现石墨烯洁净度的无损、快速评估。
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公开(公告)号：CN209238603U
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201821828586.0
申请日：2018-11-07
IPC: B08B7/00
Abstract: 本实用新型提供了一种带形物品清洗装置，清洗装置包括腔室以及至少一滚轮。腔室包括供带形物品进出的进料口以及出料口；至少一滚轮设置在腔室内，每一滚轮的轴线垂直于进料口和出料口的连线，每一滚轮表面设置有吸附剂；其中，在清洗过程中，带形物品与至少一滚轮表面的吸附剂接触。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN215161038U
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202121016917.2
申请日：2021-05-13
IPC: C01B32/186
Abstract: 本实用新型一实施方式提供了一种用于批量制备石墨烯薄膜的载具，包括多个支撑板、多个加热板和电极组件；其中，所述多个支撑板用于放置生长石墨烯的衬底，所述多个加热板用于对所述衬底进行加热处理，所述电极组件与所述多个加热板相连，所述多个支撑板与所述多个加热板交替地层叠设置。本实用新型一实施方式的载具，能够实现石墨烯生长衬底的批量放置和高效加热。
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公开(公告)号：CN209242684U
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201821846250.7
申请日：2018-11-09
IPC: C01B32/186
Abstract: 本实用新型提供了一种利用CVD方法生长石墨烯薄膜的载具，用于放置在CVD设备的石英管内。载具包括底座、矩形底板以及多个矩形托板。矩形底板水平地设置在底座上方，且固定连接于底座；多个矩形托板用于承载石墨烯生长衬底，每一矩形托板上表面的四周设置有多个支撑体，石墨烯生长衬底容纳于多个支撑体围成的空间，多个矩形托板可层叠地放置在矩形底板上，相邻两个矩形托板之间用支撑体隔开。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN208440698U
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：CN201820925014.8
申请日：2018-06-14
Abstract: 本实用新型提供了一种石墨烯的清洁装置，包括动力系统和滚轮；所述动力系统包括动力轴；所述滚轮表面设置有吸附剂；所述滚轮能够在所述动力轴的作用下对所述石墨烯的表面进行滚压吸附处理。本实用新型一实施方式的石墨烯的清洁装置，通过具有吸附性的滚轮对石墨烯表面进行滚压处理，可以获得超洁净石墨烯。
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公开(公告)号：CN209584367U
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201920153423.5
申请日：2019-01-29
IPC: C23C16/44 , C23C16/458 , C23C16/26
Abstract: 本实用新型提供了一种化学气相沉积装置，用于制备薄膜材料，包括第一腔室、第二腔室、过渡腔室、底盘以及传送机构。第一腔室和第二腔室用于薄膜材料的生长或后处理。过渡腔室通过隔离件分别连通于第一腔室和第二腔室。底盘用于装载生长衬底。传送机构被配置为在第一腔室和过渡腔室之间传送底盘，以及在第二腔室和过渡腔室之间传送底盘。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209442655U
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201920038866.X
申请日：2019-01-09
IPC: C01B32/194
Abstract: 本实用新型提供了一种石墨烯薄膜转移装置，用以将石墨烯薄膜转移至目标基底。石墨烯薄膜转移装置包括壳体、刻蚀与清洗组件以及蠕动组件。壳体包括第一进水口和第一出水口，壳体内部形成真空腔体。刻蚀与清洗组件设于真空腔体内，包括腔室以及限位框。腔室包括第二进水口和第二出水口，分别连通于第一进水口和第一出水口。限位框悬浮于腔室内的液体，限位框形成一限域，石墨烯薄膜设于限域内，目标基底设于腔室的底部。蠕动组件用于控制液体进出的流速。其中，随着液面下移，石墨烯薄膜转移至目标基底。
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