直接注入型离子束加速装置

    公开(公告)号:CN204906839U

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201520715535.7

    申请日:2015-09-16

    Abstract: 本实用新型公开了直接注入型离子束加速装置,包括用于产生离子束的离子源,用于连接离子源与加速腔的束流管道,用于加速、聚焦和传输低能离子束的交变相位聚焦的加速腔,所述加速腔为通过调整加速腔内漂移管的位置和长度来实现交变相位聚焦的加速腔。本实用新型通过上述结构,能够简单方便的加速低能离子束,同时提高加速梯度、降低高频功率消耗。

    一种共振式在线束流位置探测器

    公开(公告)号:CN211669374U

    公开(公告)日:2020-10-13

    申请号:CN202020235705.2

    申请日:2020-03-02

    Abstract: 本实用新型公开了一种共振式在线束流位置探测器,包括信号处理件,还包括圆柱结构的探测器本体,探测器本体内部设有腔体,探测器本体上设有束流通道,探测器本体的空腔内还设有圆环结构的PCB基体,束流通道与探测器本体和PCB基体保持同轴度,PCB基体上设有磁探针回路线圈,信号处理件与磁探针回路线圈连接,探测器本体的腔体内还设有金属垫片,金属垫片呈环形阵列分布在PCB基体的两侧,金属垫片一侧与束流通道连接,另一侧朝向磁探针回路线圈。本实用新型用于加速器的束流位置以及束流流强测量,对加速器的研发调试起到非常重大的作用,并且对于纳秒级单脉冲以及纳秒级的连续微脉冲,该实用新型能够快速响应,并且对于连续微脉冲,能够实现共振式测量。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种离子源气体纯化装置
    33.
    实用新型

    公开(公告)号:CN211837084U

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN202020234312.X

    申请日:2020-03-02

    Abstract: 本实用新型公开了一种离子源气体纯化装置,包括离子源、导管、降温装置,所述导管的一端与离子源连通,导管的另一端用于连接供气装置,所述导管穿过降温装置,所述降温装置能够对导管进行减温,并且能够将导管内气体的杂质分离纯化。利用气体的沸点,凝固点的差异,通过降温装置对离子源装置供气导管进行降温,降温装置能够使导管的一段处于低温状态,当气体经过低温管路时,气体中的杂质遇冷会液化甚至固化,固化和液化后的杂质会吸附在导管管壁上,不会再随气流流动,从而降低进入离子源气体的杂质含量,提高通入离子源气体的纯度,使得离子源的阴极损耗速率降低,进而让离子源的使用寿命增长。

    一种粒子束加速器
    34.
    实用新型

    公开(公告)号:CN206024221U

    公开(公告)日:2017-03-15

    申请号:CN201620689096.1

    申请日:2016-07-01

    Abstract: 本实用新型公开了一种粒子束加速器,包括:同轴谐振腔,同轴谐振腔的外周面具备入射部和出射部;粒子束发射装置,粒子束发射装置正对入射部;多个偏转磁铁,偏转磁铁具备进入部和射出部,多个偏转磁铁围绕同轴谐振腔布置;靶组件,靶组件正对出射部;聚焦组件,聚焦组件位于靶组件和出射部之间。其中,同轴谐振腔上设置有相位压缩装置。相位压缩装置对粒子束的相位进行压缩,降低粒子束的能散度,从而降低粒子束的最小焦点尺寸。如此,使得具备该粒子束加速器的CT装置能够实现高空间分辨率成像。

    高频腔射频击穿保护装置

    公开(公告)号:CN204906345U

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201520730570.6

    申请日:2015-09-21

    Abstract: 本实用新型公开了高频腔射频击穿保护装置,包括模拟比较器、两路检波采样保持电路、线性放大器和波形鉴别单元,所述两路检波采样保持电路包括检波采样保持电路A和检波采样保持电路B,其中的检波采样保持电路A的输入端连接入射信号端,检波采样保持电路A的输出端连接线性放大器,线性放大器输出端连接模拟比较器的反向输入端,其中的检波采样保持电路B的输入端连接反射信号端,检波采样保持电路B的输出端连接模拟比较器的同向输入端;所述模拟比较器的输出端连接波形鉴别单元;所述波形鉴别单元包括射频击穿类型鉴别单元和射频击穿保护单元。本实用新型通过上述原理,能够对高频腔射频击穿信号采集、分析,控制高频腔射频击穿的次数,避免平均束流流强降低。

    离子源准直器及离子源

    公开(公告)号:CN204088256U

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:CN201420544521.9

    申请日:2014-09-22

    Abstract: 离子源准直器,包括准直器基体,所述准直器基体中开设有准直孔,所述准直孔周围设置有环形溅射台,所述环形溅射台高度低于准直器基体上表面,所述环形溅射台周围还设置有高度高于准直器基体上表面的环形定位台阶,所述环形溅射台与准直孔轴线重合。本实用新型还公开了一种采用上述离子源准直器的离子源。本实用新型所述离子源准直器及离子源,添加了用于沉积溅射物质的沟槽,使准直器的维护周期显著延长,从而使离子源的寿命得到延长;本实用新型结构简单,拆装方便;耐受离子溅射,增加了溅射沟槽,长时间的工作状态下能保持性能,维护周期长。

    专用于回旋加速器内刚性离子源的位置调节机构

    公开(公告)号:CN210745640U

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN201921939496.3

    申请日:2019-11-12

    Abstract: 本实用新型公开了一种专用于回旋加速器内刚性离子源的位置调节机构,支撑架中设置有导轨一,支撑架外部安装有驱动装置一,驱动装置一连接有传动装置一,传动装置一与导轨一连接;支撑架固定有用于与加速器外壳固定的法兰一,导轨一上连接有导轨二,导轨二上设置有法兰二和驱动装置二,驱动装置二连接有传动装置二,传动装置二与法兰二连接,法兰二的移动方向与导轨一的移动方向垂直。本实用新型安装在真空外,其体积尺寸不受加速器内部空间的限制,可以实现复杂而精确的多维运动控制。安装在真空外,其轴承、丝杠、导轨的润滑不再受无油的限制。其传动机构、驱动电机、信号线、电源线等均在加速器外部,选型及设计不再被真空条件限制。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种直线感应电子加速器中的双线圈新型探测结构

    公开(公告)号:CN207318733U

    公开(公告)日:2018-05-04

    申请号:CN201721429972.8

    申请日:2017-10-30

    Abstract: 本实用新型公开了一种直线感应电子加速器中的双线圈新型探测结构,所述结构包括:PCB板、探测线圈A、有机玻璃、探测线圈B;有机玻璃固定在束流管道壁上,PCB板固定在有机玻璃上,探测线圈A和探测线圈B固定在PCB板上,其中,探测线圈A与探测线圈B接地方向相反;解决了现有的探测结构复杂,工业要求较高的技术问题,实现了结构简单,工艺要求较低,且对束流的传输没有任何影响,提高了束流半径诊断效率的技术效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

Patent Agency Ranking