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公开(公告)号:CN107858667A
公开(公告)日:2018-03-30
申请号:CN201711276641.X
申请日:2017-12-06
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: C23C16/513 , C23C16/27
CPC classification number: C23C16/513 , C23C16/276
Abstract: 一种小型椭球式等离子反应腔及其设计方法,包括腔体、设置在腔体内的沉积室以及同轴天线,腔体为下部切边的椭球状金属腔体,椭球状金属腔体的长轴直径Z=430~440mm,短轴半径R=160~170mm,沉积室是由沉积基台与石英钟罩组成,其中沉积基台与椭球体短轴平行,密封设置在腔体的下部切边位置,石英钟罩同轴罩盖在沉积基台上方,同轴天线采用圆柱状铜材料,设置于腔体的上端缺口处,等离子反应腔内的微波耦合方式为天线耦合,微波谐振模式为TM033。使用本发明的等离子反应腔的微波等离子体CVD装置与传统的“TM036”式装置有着相同的微波聚焦能力,但体积是传统“TM036”椭球式装置体积的一半,具有结构合理紧凑、成本低、加工难度低的优点,具有较好的应用前景。
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公开(公告)号:CN106501279A
公开(公告)日:2017-03-15
申请号:CN201611097780.1
申请日:2016-12-02
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种硬脆光学材料的低亚表面损伤检测方法,该方法通过测试仪器准备、样品表面损伤的检测来获得待测样品的布儒斯特角,并进一步利用该布儒斯特角表征样品的表界面粗糙度。其中,测试仪器包括刻度盘、载物台、激光器、第一偏振片、光强度计及第二偏振片,结构简单、成本低,利用线偏振光准确地测出了入射到样品上的光线的布儒斯特角大小,并以此表征样品的表界面粗糙度,可将测量偏差保持在1/100以内,检测结果准确率高,且检测方法简单、快速,对待检测样品的表面无损伤;同时,本发明的方法还可以用于测量光学元件其他的微表面结构,并能达到纳米量级的表面微结构的检测,为制备出高质量的高损伤阈值薄膜提供了条件。
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公开(公告)号:CN105234772A
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201510661587.5
申请日:2015-10-14
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B41/02
CPC classification number: B24B13/00 , B24B13/0031 , B24B13/0055 , B24B41/02
Abstract: 一种真空室光学元件升降定位装置,其特征在于包括架体、电机、托盘、丝杆及导向机构,架体包括至少两块立板及设于立板上的顶板;电机的动力输出端上连接有一蜗杆,托盘包括至少两个纵梁及设于纵梁之间的横梁,每个纵梁上均设于端面朝上的第一定位球,前述横梁上也设有端面朝上的第二定位球,并且,前述的两个第一定位球和第二定位球处于非直线上并能重复定位光学元件;丝杆竖直地设置于前述托盘的横梁上,上端具有转动配合的旋转螺母,该旋转螺母外壁具有与前述蜗杆转动配合的蜗齿。与现有技术相比,本发明的优点在于:整体结构简单、使用方便,控制精确并容易调整提升距离;具有精确的三点定位机构使得重复定位误差较小。
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公开(公告)号:CN104624854A
公开(公告)日:2015-05-20
申请号:CN201410835718.2
申请日:2014-12-29
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
CPC classification number: B21D53/84 , B21D43/003
Abstract: 一种用于高强韧钢连杆盖与连杆体脆化胀断夹紧装置,其特征在于包括底板、定位套、定位销、定胀套、定夹头、滑台、动胀套、胀杆、动夹头及复位机构,定位套纵向设置于前述的底板的上端面;定位销设于前述定位套上并具有供连杆的小头套设的外围面;滑台能水平移动地设于前述底板上;动胀套内侧具有第一楔面并设于前述的滑台上,该动胀套与前述的定胀套配合组成一胀套合件,该胀套合件纵向中空并具有供定位连杆的大头套设的外围面;胀杆纵向设于前述胀套合件内并具有与前述动胀套第一楔面配合的第二楔面。与现有技术相比,本发明的优点在于:同时整个夹紧装置结构简单,容易制造,成本较低。
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公开(公告)号:CN113618542A
公开(公告)日:2021-11-09
申请号:CN202110791252.0
申请日:2021-07-13
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B13/00 , B24B13/01 , B24B41/04 , B24B47/14 , B24B47/22 , B24B47/12 , B24B41/02 , B24B41/00 , B24B49/12 , B24B49/04
Abstract: 一种抛光设备,包括:机架(1)、抛光头(2)、第一传感器(3)、转动件(4)和第一驱动件(5),所述抛光头(2)连接有第一连接件(21);所述第一传感器(3)用于检测加工精度或检测待抛光面的几何尺寸,其连接有第二连接件(31);所述转动件(4)以能转动的方式设于机架(1)上,且转动件(4)上设有供上述第一连接件(21)、第二连接件(31)择一地与其拆卸式连接的连接头(41);所述第一驱动件(5)作用在转动件(4)上,以驱动转动件(4)旋转。与现有技术相比,本申请能减少工件装卸次数,从而提高加工效率,并且提高加工精度。
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公开(公告)号:CN109623560B
公开(公告)日:2021-09-14
申请号:CN201811536305.9
申请日:2018-12-14
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于六轴运动抛光系统的确定离子束抛光工艺参数的方法,本发明以Sigmund溅射理论为基础,利用有限次的法拉第扫描实验来确定比例系数和常数C的值,从而得到去除函数的峰值去除率Rmax和去除函数的半高全宽HR相对于法拉第扫描电流密度分布曲线的相关参数的表达式,因此调节工艺参数后,通过法拉第扫描实验得到法拉第扫描电流密度分布曲线后,利用该曲线的参数即可计算得到去除函数,大大缩短了确定去除函数的时间,从2个小时缩短到5分钟。因此,提高了针对不同的工艺参数进行仿真加工试验的效率,从而能更快速地确定最佳工艺参数。另外,由于该种方法确定去除函数时,不需要对于每种工艺参数都进行刻蚀实验,从而避免了样件的浪费,节约成本。
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公开(公告)号:CN110712094B
公开(公告)日:2021-07-23
申请号:CN201910844111.3
申请日:2019-09-06
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法,1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理;2)将光学元件安装在夹具后,对光学元件和夹具的表面进行清洁处理,随后放入离子束抛光设备的副腔室内,最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内;3)安装离子源,离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网;4)开启离子束抛光设备,启动离子源,使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流,待离子源运行一定设定时间t稳定后,对光学元件进行离子束抛光。采用该方法,离子束加工后光学元件表面洁净,有效抑制污染,提高加工质量。
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公开(公告)号:CN110712094A
公开(公告)日:2020-01-21
申请号:CN201910844111.3
申请日:2019-09-06
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法,1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理;2)将光学元件安装在夹具后,对光学元件和夹具的表面进行清洁处理,随后放入离子束抛光设备的副腔室内,最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内;3)安装离子源,离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网;4)开启离子束抛光设备,启动离子源,使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流,待离子源运行一定设定时间t稳定后,对光学元件进行离子束抛光。采用该方法,离子束加工后光学元件表面洁净,有效抑制污染,提高加工质量。
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公开(公告)号:CN109623560A
公开(公告)日:2019-04-16
申请号:CN201811536305.9
申请日:2018-12-14
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于六轴运动抛光系统的确定离子束抛光工艺参数的方法,本发明以Sigmund溅射理论为基础,利用有限次的法拉第扫描实验来确定比例系数和常数C的值,从而得到去除函数的峰值去除率Rmax和去除函数的半高全宽HR相对于法拉第扫描电流密度分布曲线的相关参数的表达式,因此调节工艺参数后,通过法拉第扫描实验得到法拉第扫描电流密度分布曲线后,利用该曲线的参数即可计算得到去除函数,大大缩短了确定去除函数的时间,从2个小时缩短到5分钟。因此,提高了针对不同的工艺参数进行仿真加工试验的效率,从而能更快速地确定最佳工艺参数。另外,由于该种方法确定去除函数时,不需要对于每种工艺参数都进行刻蚀实验,从而避免了样件的浪费,节约成本。
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公开(公告)号:CN109581609A
公开(公告)日:2019-04-05
申请号:CN201811556828.X
申请日:2018-12-19
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于光学元件面形检测的立式干涉仪标准镜装夹装置和方法,立式干涉仪标准镜装夹装置包括调平机构、辅助支撑件和用于放置标准镜的托盘,所述调平机构的数量至少为三个,并沿托盘的周向方向均匀分布,各所述调平机构包括驱动系统和用于支撑托盘的支承块,所述驱动系统能够驱动支承块沿高度方向移动,支承块能到达的高度最低值记为Hmin,最高值记为Hmax,所述辅助支撑件包括支架和安装在支架上的缓冲垫,该缓冲垫用于支撑托盘,其高度记为h,Hmin、Hmax和h的关系满足:Hmin<h<Hmax。与现有技术相比,本发明的优点在于:能够精密调整标准镜的水平度。
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