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公开(公告)号：CN103228319B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201080070331.2
申请日：2010-12-24
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1043 , A61N5/1075 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明的目的在于得到一种粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置能够将和带电粒子束的照射位置相关联的照射位置关联值、与照射位置关联值误差相对应地进行显示。该粒子射线照射装置包括数据处理装置（19），该数据处理装置（19）将照射位置关联值误差与实际照射位置关联值相对应地在显示部（43）上显示，该照射位置关联值误差是和带电粒子束（1）的照射位置相关联的实际照射位置关联值的、相对于和目标照射位置相关联的目标照射位置关联值的误差，数据处理装置（19）具有运算部（42），该运算部（42）在目标照射位置关联值的坐标上显示目标值显示图形（23），在将利用变形系数对照射位置关联值误差进行运算后的坐标加上目标照射位置关联值而得到的坐标、即显示坐标上显示测定值显示图形（24），并显示将测定值显示图形（24）与目标值显示图形（23）相连接的线段（25），其中，该目标值显示图形（23）表示目标照射位置关联值，该测定值显示图形（24）表示实际照射位置关联值。
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公开(公告)号：CN105056405A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201510387153.0
申请日：2010-08-17
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 岩田高明
IPC: A61N5/10
Abstract: 本发明的目的在于得到一种不受半影的影响、且能够形成对比度较高的照射野的多叶准直器以及粒子射线治疗装置。该多叶准直器包括：叶片列(5C)，该叶片列(5C)将多个叶片板(5L)的一个端面(EL)对齐并使其排列在厚度方向上；以及叶片板驱动机构(5D)，该叶片板驱动机构(5D)以使一个端面(EL)相对于射束轴(XB)靠近或远离的方式驱动各个叶片板(5L)，对于各个叶片板(5L)，叶片板和与该叶片板在厚度方向上相邻的叶片板的相对面(PL)形成于包括射束轴(XB)上的第1轴(Asa)在内的平面(PSa)内，叶片板驱动机构(5D)沿着以射束轴(XB)上的第2轴(Asb)为中心的圆周轨道(OL)来驱动叶片板(5L)，该第2轴(Asb)与射束轴(XB)及第1轴(Asa)垂直。
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公开(公告)号：CN102292122B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN200980155484.4
申请日：2009-06-09
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: H01J3/22 , A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N5/1078 , A61N2005/1087 , H01J3/26
Abstract: 本发明的目的在于获得一种照射自由度较高、能够减小照射到正常组织的照射量的粒子射线治疗装置。包括：扫描电磁铁(2)，该扫描电磁铁(2)对所提供的带电粒子束Bec进行扫描输出，使其整形为基于治疗计划的三维的照射形状；以及偏转电磁铁(4、5)，该偏转电磁铁(4、5)切换所述带电粒子束Bec的轨道，以使得由扫描电磁铁(2)进行了扫描后输出的带电粒子束Bec经过从扫描电磁铁(2)到等中心C之间设定的多条轨道(7a、7b、7c)中的、所选择的一条轨道，而到达等中心C。
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公开(公告)号：CN102686276B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201080060087.1
申请日：2010-03-31
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 岩田高明
IPC: A61N5/10
CPC classification number: H01J37/147 , A61N5/10 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , G06N3/02 , G21H5/00 , G21K1/093 , G21K5/04 , H01J37/04 , H01J2237/0473
Abstract: 本发明的目的在于获得消除扫描电磁铁的磁滞影响、且在光栅扫描、混合扫描中实现高精度射束照射的粒子射线照射装置。包括：扫描电源(4)，该扫描电源(4)输出扫描电磁铁(3)的励磁电流；以及照射控制装置(5)，该照射控制装置(5)控制扫描电源(4)，照射控制装置(5)包括扫描电磁铁指令值学习生成器(37)，该扫描电磁铁指令值学习生成器(37)对预扫描的结果进行评价，在评价的结果不满足规定的条件的情况下，更新励磁电流的指令值(Ik)，来执行预扫描，将评价的结果满足规定的条件的励磁电流的指令值(Ik)输出到扫描电源(4)，该预扫描是基于由扫描电源(4)输出的励磁电流的指令值(Ik)的、一系列的照射动作。
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公开(公告)号：CN103768730A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201410052116.X
申请日：2009-06-09
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 岩田高明
IPC: A61N5/10
Abstract: 本发明的目的在于提供一种粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置能够不使用IF条件句(区分情况的条件式)，就能运算控制指令值，能提高照射位置精度。包括逆映射单元，该逆映射单元具有逆映射数学模型，该逆映射数学模型基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标来生成实现该照射的扫描电磁铁的指令值，根据基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标、使用上述逆映射数学模型而生成的上述指令值，来对上述扫描电磁铁进行控制，以将带电粒子束进行扫描，来照射至照射对象。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102985136A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201080067834.4
申请日：2010-09-09
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 岩田高明
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1068 , A61N5/1049 , A61N5/1064 , A61N5/1077 , A61N5/1079 , A61N2005/1087 , G16H40/20
Abstract: 本发明的目的在于获得一种通过在多个治疗室中同时照射粒子射线、从而能使多个患者接受治疗的粒子射线治疗装置。包括：呼吸引导装置（22），该呼吸引导装置（22）基于目标呼吸波形（ＷＩｂ）来引导呼吸；切换装置（32），该切换装置（32）切换粒子束的轨道；以及照射装置（21），该照射装置（21）与目标呼吸波形（ＷＩｂ）同步地控制照射，控制器（4）同步地控制多个治疗室（6）的呼吸引导装置（22）和切换装置（32），控制器（4）对各治疗室（6）的呼吸引导装置调整目标呼吸波形（ＷＩｂ）的周期和相位，使得与各治疗室（6）的目标呼吸波形（ＷＩｂ）同步的照射时间（Ｔ Ｉ）不重叠，并且控制器（4）还控制切换装置（32），使得根据各治疗室（6）的各自的照射时间（ＴＩ）来切换粒子束的轨道。
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公开(公告)号：CN102917755A
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201180026450.2
申请日：2011-04-13
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: G21K1/093 , A61N5/1043 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明的目的在于提供一种使用多组扫描电磁铁的、精度较高的、能进行从低速到高速的高自由度的带电粒子束扫描的粒子射线照射装置。粒子射线照射装置使所射入的带电粒子束沿与带电粒子束的前进方向相垂直的X方向及Y方向这两个方向的目标轨道进行扫描，以对照射对象进行照射，上述粒子射线照射装置包括多组使带电粒子束在两个方向上进行扫描的扫描电磁铁组，目标轨道由取决于与时间相对应的目标照射位置的时间序列目标轨道数据所给出，基于对时间序列目标轨道数据进行分频而得的多个数据，来生成发送给多组扫描电磁铁的各扫描电磁铁的指令值。
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公开(公告)号：CN102292122A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN200980155484.4
申请日：2009-06-09
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: H01J3/22 , A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N5/1078 , A61N2005/1087 , H01J3/26
Abstract: 本发明的目的在于获得一种照射自由度较高、能够减小照射到正常组织的照射量的粒子射线治疗装置。包括：扫描电磁铁(2)，该扫描电磁铁(2)对所提供的带电粒子束Bec进行扫描输出，使其整形为基于治疗计划的三维的照射形状；以及偏转电磁铁(4、5)，该偏转电磁铁(4、5)切换所述带电粒子束Bec的轨道，以使得由扫描电磁铁(2)进行了扫描后输出的带电粒子束Bec经过从扫描电磁铁(2)到等中心C之间设定的多条轨道(7a、7b、7c)中的、所选择的一条轨道，而到达等中心C。
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公开(公告)号：CN101309770A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200580052095.0
申请日：2005-11-16
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: B23H7/02
Abstract: 本发明涉及对太阳能电池用硅等的不良导体的线放电加工方法，和基于该线放电加工方法的半导体晶片制造方法以及太阳能电池用单元制造方法。本发明提供通过在线电极上施加脉冲宽度大于等于1μsec且小于等于4μsec、并且线电极在加工时的峰值电流大于等于10A且小于等于50A的脉冲电压，在上述线电极与加工对象物之间发生放电脉冲，对大于等于0.5Ω·cm且小于等于5Ω·cm的高电阻率硬脆材料进行放电加工的方法。
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公开(公告)号：CN1509220A
公开(公告)日：2004-06-30
申请号：CN02810152.9
申请日：2002-03-26
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 岩田高明
IPC: B23K26/02
CPC classification number: B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/0853 , B23K2101/42
Abstract: 在具有放置被加工物的台、激光振荡器和使激光束扫描的光束扫描装置并具备使激光束引导到在台上放置的被加工物上的光学装置、测量加工过的位置的测量装置和使用加工过的加工位置的坐标和目标位置的坐标来计算对光束扫描装置的指令值的控制装置的激光加工装置的激光束定位装置中，控制装置对加工过的加工位置的坐标和此时的对光束扫描装置的指令值附加与目标位置的坐标与加工位置的坐标的距离对应的权重来计算最佳地决定对使激光束指向被加工物的目标位置用的光束扫描装置的指令值的未知参数矩阵。
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