公开(公告)号：CN105916554A

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201480072776.2

申请日：2014-01-10

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 坂本裕介 ,  蒲越虎 ,  原田久 ,  本田泰三

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1043 ,  A61N5/1044 ,  A61N5/1071 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明提供一种粒子射线照射装置，其对扫描装置实施如下控制，即将对照射对象的所有照射位置照射粒子射线的照射重复重新扫描次数，对各照射位置照射重新扫描次数的粒子射线，该粒子射线照射装置具备运算部，该运算部被输入重新扫描次数(n)和粒子射线的单位时间的剂量即射束强度(J)中的一方，求出对于所有照射位置满足下述条件(P1)的另一方的值中的最大值，并提示给用户。J*ti

公开(公告)号：CN104010694B

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201280064257.2

申请日：2012-03-27

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 山田由希子 ,  原田久 ,  本田泰三 ,  池田昌广 ,  花川和之 ,  大谷利宏 ,  片寄雅

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1048 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087 ,  H05H13/04 ,  H05H2277/11

Abstract: 控制部(20)中设置有：运转模式保持部(25)，该运转模式保持部(25)中，作为加速器(10)周期反复的运转模式，保持有多个运转模式(OP-S,OP-L)，该多个运转模式(OP-S,OP-L)中，能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在存在磁滞的情况下，也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度；照射条件读取部(22)，该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；运转模式选择部(23)，该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件，从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及主控制部(21)，该主控制部(21)对于每个切片，根据选择的运转模式来控制加速器(10)，并且根据照射条件来控制照射装置(40)。

公开(公告)号：CN102740929B

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201080062466.4

申请日：2010-01-28

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 本田泰三 ,  原田久 ,  蒲越虎 ,  山本雄一 ,  岩田高明

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1042 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1048 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明的目的在于获得可降低扫描电磁铁的磁滞影响且可实现高精度射束照射的粒子射线治疗装置。其包括：照射管理装置（32），该照射管理装置（32）基于带电粒子束（1ｂ）的目标照射位置坐标（Ｐｉ）来控制扫描电磁铁（3）；及位置监视器（7），该位置监视器（7）测定带电粒子束（1ｂ）的测定位置坐标（Ｐｓ），照射管理装置（32）包括指令值生成器（25），该指令值生成器（25）基于校正数据（Ｉａ）和目标照射位置坐标（Ｐｉ）来将控制输入（Ｉｏ（Ｉｒ））输出到扫描电磁铁（3），上述校正数据（Ｉａ）是基于测定位置坐标（Ｐｓ）及目标照射位置坐标（Ｐｉ）而生成的，上述测定位置坐标（Ｐｓ）是扫描电磁铁的励磁图案与正式照射的计划相同的预备照射中，由位置监视器（7）测定的。

公开(公告)号：CN104010694A

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：CN201280064257.2

申请日：2012-03-27

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 山田由希子 ,  原田久 ,  本田泰三 ,  池田昌广 ,  花川和之 ,  大谷利宏 ,  片寄雅

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1048 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087 ,  H05H13/04 ,  H05H2277/11

Abstract: 控制部(20)中设置有：运转模式保持部(25)，该运转模式保持部(25)中，作为加速器(10)周期反复的运转模式，保持有多个运转模式(OP-S,OP-L)，该多个运转模式(OP-S,OP-L)中，能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在存在磁滞的情况下，也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度；照射条件读取部(22)，该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；运转模式选择部(23)，该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件，从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及主控制部(21)，该主控制部(21)对于每个切片，根据选择的运转模式来控制加速器(10)，并且根据照射条件来控制照射装置(40)。

公开(公告)号：CN102015022B

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN200880128977.4

申请日：2008-05-12

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 本田泰三 ,  原田久 ,  蒲越虎

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/10 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1095

Abstract: 在适用于粒子射线癌症治疗装置等的带电粒子束照射装置中，高精度地形成所期望的深层照射剂量分布。在使粒子射线产生装置产生的粒子射线通过用于使所述粒子射线具有所期望的能量分布的、具有周期性厚度分布的隆起滤过板照射到被照射体上的带电粒子束照射装置中，所述隆起滤过板配置有多条隆起，使这些隆起垂直于粒子射线的进入方向。

公开(公告)号：CN103415321A

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201180069037.4

申请日：2011-03-07

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 菅原贤悟 ,  池田昌广 ,  花川和之 ,  本田泰三 ,  原田久

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1077 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明的目的在于，能在短时间内对粒子射线治疗装置所使用的扫描电磁铁的残留磁化进行恰当的消磁，在向照射对象照射经加速器加速、并由扫描电磁铁（11）和（12）进行扫描的粒子射线（18）的粒子射线治疗装置中，对扫描电磁铁（11、12）进行励磁的电源（13）和（14）输出用于对扫描电磁铁（11）和（12）进行消磁的图案电流。图案电流由控制电路（15）进行控制，该控制电路（15）读取消磁图案（17）来控制电源（13）和（14）。

公开(公告)号：CN102015022A

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200880128977.4

申请日：2008-05-12

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 本田泰三 ,  原田久 ,  蒲越虎

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/10 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1095

Abstract: 在适用于粒子射线癌症治疗装置等的带电粒子束照射装置中，高精度地形成所期望的深层照射剂量分布。在使粒子射线产生装置产生的粒子射线通过用于使所述粒子射线具有所期望的能量分布的、具有周期性厚度分布的隆起滤过板照射到被照射体上的带电粒子束照射装置中，所述隆起滤过板配置有多条隆起，使这些隆起垂直于粒子射线的进入方向。

公开(公告)号：CN1284188C

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN200410035146.6

申请日：2004-04-23

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 原田久

IPC: G21K1/02 ,  G21K5/04 ,  A61N5/10

CPC classification number: G21K1/046 ,  A61N5/1045

Abstract: 一种放射线照射装置，包括：进行多次的放射线波束照射的波束遮断装置；为了在包含由多次的放射线波束的照射所形成的重叠区域在内的多个照射区域中能照射到被照射部位整个面的位置控制装置；以及使各照射区域的重叠区域中的线量分布中具有坡度、在包含由多次的放射线波束的照射所形成的重叠区域在内的被照射部位整个面上使线量分布平坦的多叶式准直仪控制装置。采用本发明，在不用强化照射范围扩大装置性能的情况下具有大的照射范围并可确保线量分布的一样性。

公开(公告)号：CN105263577B

公开(公告)日：2018-05-01

申请号：CN201380077190.0

申请日：2013-06-06

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 原田久 ,  池田昌广 ,  高桥理 ,  伊奈信彦 ,  蒲越虎 ,  岩田高明

IPC: A61N5/10 ,  G01T7/00 ,  G21K5/04

CPC classification number: A61N5/1067 ,  A61N5/1071 ,  A61N5/1075 ,  A61N2005/1076 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明包括：按每一层对粒子射线进行成形并进行照射的照射装置(10)；实时测量剂量的剂量监视器(12)；基于剂量监视器(12)测量到的测量值(Ci)和按每一层进行设定的剂量校正系数来对每一层的照射剂量进行评价的剂量评价部(70)；基于剂量评价部(70)的评价结果来控制每一层的照射的照射控制部(60)；以及使用通过对设置有校正剂量计(82)的模拟体模(81)照射粒子射线而获得的实际测量剂量校正系数(αi)、来生成剂量校正系数的插补值或推测值(βi)的插补值生成部(74)，插补值生成部(74)对于成为插补值或推测值(βi)的对象的每一层，基于该层的照射条件，进行每一个实际测量剂量校正系数(αi)的加权。

公开(公告)号：CN107427689A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201580078513.7

申请日：2015-04-09

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 岩田高明 ,  原田久

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/103 ,  A61N5/10 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1077 ,  A61N5/1081 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1096

Abstract: 本发明的治疗计划装置包括：保存要照射至照射对象的目标照射剂量分布的数据统辖管理部；计算广域照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数的广域照射参数运算部；以及计算扫描照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数的扫描照射参数运算部，广域照射参数运算部与扫描照射参数运算部协同地计算并求出广域照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数、以及扫描照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数，以根据广域照射和扫描照射这两者的照射剂量的总和来形成目标照射剂量分布。