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公开(公告)号：CN100578367C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200480015004.1
申请日：2004-05-17
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种用于去除在半导体装置或液晶显示装置的制造过程中被使用的光致抗蚀剂的稀释剂组合物，并且更具体地涉及一种包括a)丙二醇单烷基醚；b)烷基乙酸酯；和c)环酮的稀释剂组合物。本发明的稀释剂组合物可以进一步包括选自包括d)基于聚环氧乙烷的表面活性剂和e)氟化丙烯酸共聚物的组的至少一种化合物。本发明的用于去除光致抗蚀剂的稀释剂组合物能够在短时间内有效地去除粘在制造液晶显示装置或有机EL显示装置中使用的玻璃衬底或晶片的边缘和背面的不需要的光致抗蚀剂，减小界面处的间隙，并且特别地，防止渗透到光致抗蚀剂的界面中。所以，该稀释剂组合物可以用于多种方法中以提供经济上的利益，简化制造工艺，并且提高生产率。
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公开(公告)号：CN101300529A
公开(公告)日：2008-11-05
申请号：CN200680041062.0
申请日：2006-11-07
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
CPC classification number: G03F7/423
Abstract: 本发明涉及一种用于去除用在半导体器件、液晶显示器或有机发光器件的制备中的光刻胶的稀释剂组合物，并且更具体地，涉及一种包含二元醇醚化合物，特别地作为表面活性剂的氟化丙烯酸共聚物、有机溶剂或其混合物的用于去除光刻胶的稀释剂组合物。本发明的用于去除光刻胶的稀释剂组合物能够在短时间内有效地去除用于有机EL的玻璃基板和用于制备液晶显示器的那些基板的边沿和背面的多余的光刻胶，而无论所使用的特定的光刻胶。
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公开(公告)号：CN101156111A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200680011131.3
申请日：2006-04-04
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
CPC classification number: G03F7/425 , G03F7/426 , H01L21/31133
Abstract: 本发明涉及一种用于半导体器件制备工艺的光刻胶去除剂组合物。本发明的包含铵盐、水溶性有机胺和水的去除剂组合物可以在高温或者低温下、在短时间内有效去除通过硬性烘烤、干法蚀刻、湿法蚀刻、灰化和/或离子注入所硬化和改性的光刻胶膜，以及由光刻胶膜下面的金属膜蚀刻出的金属副产物所改性的光刻胶膜，同时使光刻胶膜下面的金属布线的腐蚀最小化。
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公开(公告)号：CN101093365A
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN200710123038.8
申请日：2007-06-22
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种用于去除在电子电路或显示元件的布图(pattern)过程中所使用的抗蚀膜、且能够抑制对金属布线腐蚀的抗蚀膜(resist)剥离剂组合物，所述抗蚀膜剥离剂组合物优选包含：a)1至20wt％的二胺化合物(diamine compound)；和b)余量的乙二醇醚化合物(glycol ether compound)。本发明可进一步包含极性溶剂。本发明抗蚀膜剥离剂组合物，在进行去除光致抗蚀膜的工序过程中，将不会腐蚀金属布线，且具有优秀的剥离效果。
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公开(公告)号：CN101051191A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200710090332.3
申请日：2007-04-04
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种在通过过滤装置过滤流体之前除去流体中浮游物的显示装置制造系统。本发明的显示装置制造系统包括：工作腔室，在其内部利用工作流体去除显示面板上工作层中的多余部分；浮游物过滤单元，其接收由工作腔室所排出的工作流体，并滤除工作流体中所含有的工作层浮游物；过滤装置，其接收由浮游物过滤单元所排出的工作流体，并滤除工作流体中所含有的工作层成分；流体储存槽，其用于储存通过过滤装置滤除工作层成分后的工作流体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101093365B
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：CN200710123038.8
申请日：2007-06-22
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种用于去除在电子电路或显示元件的布图(pattern)过程中所使用的抗蚀膜、且能够抑制对金属布线腐蚀的抗蚀膜(resist)剥离剂组合物，所述抗蚀膜剥离剂组合物优选包含：a)1至20wt％的二胺化合物(diamine compound)；和b)余量的乙二醇醚化合物(glycol ether compound)。本发明可进一步包含极性溶剂。本发明抗蚀膜剥离剂组合物，在进行去除光致抗蚀膜的工序过程中，将不会腐蚀金属布线，且具有优秀的剥离效果。
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公开(公告)号：CN101424888B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN200810174803.3
申请日：2008-10-31
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明提供光致抗蚀剂剥离用组合物、使用该组合物的光致抗蚀剂剥离方法和显示装置的制造方法，该光致抗蚀剂剥离用组合物能够再次使用而剥离性能没有实质性降低并且金属图案没有损伤，从而能够减少照相蚀刻工序的成本。本发明中的光致抗蚀剂剥离用组合物含有80重量％～98.5重量％砜系化合物、1重量％～10重量％内酯系化合物以及0.1重量％～5重量％烷基磺酸。
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公开(公告)号：CN101042543B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200710086623.5
申请日：2007-03-23
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具体而言，本发明包含，a)0.05重量份～10重量份的有机胺类化合物；b)0.05重量份～30重量份的有机溶剂；c)0.005重量份～5重量份的三唑类防腐剂；d)0.005重量份～5重量份的选自羟基苯酚类、没食子酸烷酯及还原剂类中的防腐剂；e)余量水。本发明的用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具有优异的清洗能力且能够防止金属膜层的腐蚀，并且可替代以往清洗工艺中所使用的甲醇、乙醇、异丙醇等引火性物质即醇类化合物，能够有效地清洗残留在基板上的脱膜剂等有机异物及灰尘等无机异物。
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公开(公告)号：CN1702560B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200510074042.0
申请日：2005-05-25
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 提供感光性树脂去除用稀释剂组合物，用于液晶显示设备中使用的玻璃基板及半导体制造时所用的晶片的周边和背面部分，短时间内可高效去除附着的没用的感光性树脂。本发明提供感光性树脂去除用稀释剂组合物，其包含a)烷基酰胺；和b)乙酸烷基酯。上述稀释剂组合物优选含有a)烷基酰胺1～99重量份；b)乙酸烷基酯1～80重量份。此外，本发明提供使用上述稀释剂组合物的半导体元件及液晶显示装置的制造方法。
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公开(公告)号：CN101000468B
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN200710001267.2
申请日：2007-01-11
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种，为了再利用TFT-LCD彩色滤光片的制造过程中产生的不良基板，去除彩色抗蚀剂及涂层的薄膜晶体管液晶显示器用彩色抗蚀剂剥离液组合物，具体涉及一种包括：(a)1-50w％的选自无机碱氢氧化物、烷基氢氧化铵及苯基烷基氢氧化铵的氢氧化物，所述烷基氢氧化铵包含C1-C4的烷基；(b)5-30w％的极性硫化物；(c)5-35w％的烷撑二醇醚，所述烷撑二醇醚包含C1-C4的烷基；(d)2-30w％的烷撑二醇二烷基醚，所述烷撑二醇二烷基醚包含C1-C4的烷基；(e)2-30w％的水溶性胺化合物；(f)残余量水的彩色抗蚀剂用剥离液组合物。
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