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公开(公告)号：CN114641724B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202080076341.0
申请日：2020-12-10
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供光掩模的污染的抑制性优异的防护膜组件的拆卸方法。提供一种防护膜组件的拆卸方法，其包括下述工序：准备层叠体的工序，所述层叠体按下述顺序的配置具备光掩模(805)、防护膜组件框(803)以及防护膜(802)；准备电极(810)的工序；以及拆卸工序，将层叠体和电极(810)以使层叠体中的防护膜(802)与电极(810)对置的方式进行配置，并且通过对于电极(810)施加电压，从而产生静电引力，通过所产生的静电引力将防护膜(802)向电极(810)的方向吸引，从而从层叠体中的光掩模(805)拆卸防护膜(802)。
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公开(公告)号：CN118974649A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202380027548.2
申请日：2023-03-03
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供可抑制由防护膜的张力引起的应变并且能够抑制由防护膜组件框的变形引起的原版的应变的防护膜组件框、防护膜组件以及防护膜组件的制造方法。防护膜组件框具备用于支撑防护膜的硬质框构件(12A)和用于与具有图案的原版连接的软质框构件(11X)。软质框构件(11X)与前述硬质框构件(12A)连接。前述软质框构件(11X)是由基材层(112)和粘着层(111)在与前述防护膜的面方向正交的厚度方向上以前述粘着层(111)配置于两端的方式交替层叠而成的。前述硬质框构件(12A)的杨氏模量高于前述软质框构件(11X)的表观杨氏模量。前述硬质框构件(12A)的杨氏模量为25GPa以上。
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公开(公告)号：CN112088334B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN201980017088.9
申请日：2019-03-01
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供抑制了从粘接层产生释气的防护膜组件。防护膜组件(100)具有：防护膜(101)；支撑上述防护膜的支撑框(103)；设置于上述支撑框的突起部(105)；设置于上述突起部的第1粘接层(107)；以及无机物层，上述无机物层与上述第1粘接层相比设置在上述防护膜所处的一侧。上述无机物层可以包含第1无机物层(109)，上述第1无机物层(109)设置于上述第1粘接层中作为与上述防护膜交叉的方向的侧面的、上述防护膜所处一侧的第1侧面(121)。
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公开(公告)号：CN111919171B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN201980022551.9
申请日：2019-03-15
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种支撑框，其能够设置能够装卸地设置了过滤器的通气孔，粘贴极端紫外光光刻用的防护膜。本发明的一实施方式的支撑框是用于配置防护膜的支撑框，具备：贯通孔，其具有在与上述防护膜的面方向大致平行的第一方向上延伸的孔以及在与上述第一方向相交的第二方向上延伸的孔；以及过滤器，其设于上述贯通孔的内部或上述贯通孔的端部，并且从上述防护膜离开地配置。
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公开(公告)号：CN110325908A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201880012953.6
申请日：2018-02-09
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供EUV透射性高、释气少、污染少的EUV用防护膜组件及其制造方法。防护膜组件(100)的特征在于，具有防护膜(101)、支撑框(103)以及第1粘接层(109)，所述第1粘接层(109)设置于支撑框的与吊挂有防护膜的端部相反一侧的端部，在第1粘接层的沿与防护膜面交叉的方向且处于吊挂防护膜一侧的侧面具有无机物层(111)，上述无机物层的质量吸收系数(μm)为5×103cm2/g～2×105cm2/g的范围。
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公开(公告)号：CN105229776B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201480028625.7
申请日：2014-05-20
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/24 , G03F1/62
Abstract: 本发明的课题在于提供一种EUV透过性高且不易受到由热引起的损伤，进一步强度高的防护膜组件。为了达成所述课题而提供如下防护膜组件，其包括：波长550nm的光的折射率n为1.9～5.0的防护膜，以及贴附了所述防护膜的防护膜组件框。所述防护膜在组成中包含30摩尔％～100摩尔％的碳及0摩尔％～30摩尔％的氢。所述防护膜的拉曼光谱中的2D带与G带的强度比(2D带的强度/G带的强度)为1以下，或者2D带与G带的强度分别为0。
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公开(公告)号：CN105051872B
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201480017656.2
申请日：2014-03-11
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: H01L21/312 , C08G73/02 , C08K5/09 , C08L79/02 , H01L21/768
CPC classification number: H01L23/293 , C08G73/0206 , C08K5/0091 , C08L79/02 , C09J179/04 , H01L21/0206 , H01L21/02118 , H01L21/02282 , H01L21/56 , H01L23/528 , H01L23/53209 , H01L23/5329 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种复合体的制造方法，所述方法具有：组合物准备工序，准备含有具有阳离子性官能团且重均分子量为2000～1000000的聚合物的、pH为2.0～11.0的组合物；复合构件准备工序，准备具有构件A和构件B且满足上述构件B的表面的等电点＜上述组合物的pH＜上述构件A的表面的等电点的关系的复合构件，上述构件B的表面的等电点比上述构件A的表面的等电点低2.0以上且上述构件B的表面的等电点为1.0～7.5；以及赋予工序，对上述复合构件的上述构件A的上述表面和上述构件B的上述表面赋予上述组合物。
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公开(公告)号：CN105229776A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201480028625.7
申请日：2014-05-20
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/24 , G03F1/62
CPC classification number: G03F1/62 , G03F1/24 , G03F7/2004 , G03F7/7015
Abstract: 本发明的课题在于提供一种EUV透过性高且不易受到由热引起的损伤，进一步强度高的防护膜组件。为了达成所述课题而提供如下防护膜组件，其包括：波长550nm的光的折射率n为1.9～5.0的防护膜，以及贴附了所述防护膜的防护膜组件框。所述防护膜在组成中包含30摩尔％～100摩尔％的碳及0摩尔％～30摩尔％的氢。所述防护膜的拉曼光谱中的2D带与G带的强度比(2D带的强度/G带的强度)为1以下，或者2D带与G带的强度分别为0。
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