一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法

    公开(公告)号:CN112592663B

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202011523862.4

    申请日:2020-12-22

    Abstract: 本发明公开一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法,属于超精密研磨抛光技术领域,所述抛光液由以下重量份数的原料组成:水50‑85份;金刚石微粉0.5‑15份;分散剂0.1‑5份;悬浮剂0.1‑5份;润滑剂1‑40份;消泡剂0.001‑0.1份,金刚石微粉粒度10‑1000nm,所述金刚石微粉中,耐磨磨粒/圆形磨粒颗粒数比值为1‑15:1,其中,圆度Fc>0.950为圆形磨粒;0.900≤Fc≤0.950为耐磨磨粒。所述抛光液通过控制金刚石微粉的形貌构成,在耐磨磨粒提高抛光效率的同时,借助圆形磨粒修复表面损伤层和粗糙度,从而实现对抛光划伤的控制。

    一种喷雾型金刚石研磨液及其制备方法

    公开(公告)号:CN113265224A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110471142.6

    申请日:2021-04-29

    Abstract: 本发明涉及一种喷雾型金刚石研磨液,其由以下重量份数的原料组成:水50‑85份,金刚石微粉0.5‑15份,复配型乳化分散剂0.1‑5份,复配型液体增粘剂0.2‑5份,保水剂10‑40份,消泡剂0.001‑0.1份。将该研磨液用于喷雾供液系统时,可有效减少雾化飞散液滴的产生,并可加速液滴沉降,在提升研磨液利用率的同时可以显著避免雾化吸入,从而降低对操作人员的身心伤害。

    一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法

    公开(公告)号:CN112592663A

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN202011523862.4

    申请日:2020-12-22

    Abstract: 本发明公开一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法,属于超精密研磨抛光技术领域,所述抛光液由以下重量份数的原料组成:水50‑85份;金刚石微粉0.5‑15份;分散剂0.1‑5份;悬浮剂0.1‑5份;润滑剂1‑40份;消泡剂0.001‑0.1份,金刚石微粉粒度10‑1000nm,所述金刚石微粉中,耐磨磨粒/圆形磨粒颗粒数比值为1‑15:1,其中,圆度Fc>0.950为圆形磨粒;0.900≤Fc≤0.950为耐磨磨粒。所述抛光液通过控制金刚石微粉的形貌构成,在耐磨磨粒提高抛光效率的同时,借助圆形磨粒修复表面损伤层和粗糙度,从而实现对抛光划伤的控制。

    一种磁性磨料及其制备方法

    公开(公告)号:CN108949106A

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201810647960.5

    申请日:2018-06-19

    Abstract: 本发明涉及一种磁性磨料及其制备方法,属于磨料技术领域。本发明的磁性磨料包括以下重量份数的组分:磨料成形剂1~15份,磁性材料0.1~20份,磨料颗粒0.1~10份,金属盐0.3~15份;所述金属盐为钠、钾、钙、铝、铜、铁、铅、锌、钡或镍的水溶性盐。本发明的磁性磨料中除了添加有磁性材料、磨料颗粒及成形剂之外,还加入了金属盐,金属盐有利于防止磁性磨料颗粒之间相互粘连而导致磁性磨料颗粒发生形变。

    一种蓝宝石抛光组合物及其制备方法

    公开(公告)号:CN105199610A

    公开(公告)日:2015-12-30

    申请号:CN201510670609.4

    申请日:2015-10-16

    Abstract: 本发明属于一种蓝宝石抛光组合物及其制备方法,所述蓝宝石抛光组合物由下述重量百分含量的原料组成:纳米二氧化硅20%~40%、碱性化合物1%~10%、分散剂0.1%~3%、表面活性剂0.1%~3%、腐蚀抑制剂0.001%~1%、余量为去离子水。本发明通过加入腐蚀抑制剂减少了在高温高压下抛光组合物对蓝宝石晶片的过度腐蚀,使表面不产生麻点和橘皮等过度腐蚀的缺陷,同时引入和腐蚀抑制剂协同作用的表面活性剂,增加抛光组合物的腐蚀选择性,让抛光组合物均匀作用在蓝宝石晶片的表面,实现了在高效抛光的同时得以保证完好的表面质量。

    微结晶蓝宝石抛光液
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105111942A

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201510575373.6

    申请日:2015-09-10

    Abstract: 本发明涉及一种微结晶蓝宝石抛光液,其由下述重量百分比的原料组成:纳米二氧化硅20-40%;碱性化合物1-10%;分散剂0.1-3%;表面活性剂0.1-3%;保湿成分0.1-3%;吸湿成分0.1-5%;余量为去离子水。本发明抛光液在加入保湿成分的同时加入吸湿成分,这样可以在减少水分蒸发的基础上吸收空气中的水分,使抛光液不易凝结在机台上,同时不易风干在蓝宝石晶片表面,降低了后期清洗工艺的难度,提高了生产效率。

    一种具有自清洗作用的抛光剂及抛光液

    公开(公告)号:CN104962199A

    公开(公告)日:2015-10-07

    申请号:CN201510332607.4

    申请日:2015-06-16

    CPC classification number: C09G1/02 C09G1/18

    Abstract: 本发明公开了一种具有自清洗作用的抛光剂及抛光液,所述抛光剂包括以下重量份数的组分:二氧化硅5~40份、碱性化合物0.2~10份、椰子酸二乙醇胺缩合物0.001~1份、表面活性剂0.001~0.5份。本发明的抛光液,添加的椰子酸二乙醇胺缩合物可以吸附到有机物和磨料颗粒的表面,大大增加了有机物和磨料颗粒的表面活性,其与其他组分相互配合,协调作用,使抛光液具有自清洗作用;大大减少甚至完全避免了有机物和磨料颗粒在外延晶片表面的粘附;抛光后的晶片表面不会粘附有机物和磨料颗粒,或是仅有极少的粘附,后续勿需再用酸碱清洗,避免了对外延膜层产生腐蚀损坏,简化了清洗工序,节约了清洗成本,适合推广应用。

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