公开(公告)号：CN112838025A

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN202011224945.3

申请日：2020-11-05

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 高定奭 ,  金善美 ,  洪志守 ,  金局生 ,  崔成彬 ,  许弼覠

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02

Abstract: 本公开涉及基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置包括：支承单元，支承基板，并使基板旋转；以及喷射单元，包括一个以上喷嘴，所述喷嘴将混合有清洗液和二氧化碳的二流体向基板喷射。

公开(公告)号：CN112201589A

公开(公告)日：2021-01-08

申请号：CN202010609507.2

申请日：2020-06-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金度延 ,  吴世勋 ,  金源根 ,  李周美 ,  黄浩钟 ,  许弼覠 ,  尹铉 ,  李忠现 ,  朴炫九

IPC: H01L21/67 ,  H05K9/00 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置在处理容器设有导电性部件，导电性部件由具有比处理容器的材质小的电阻的材质形成，从而能够在液体处理工艺中抑制基于带电现象的处理容器的电位增大，由此能够防止基板被粒子、静电弧光等损伤。

公开(公告)号：CN103456663A

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201310214510.4

申请日：2013-05-31

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔龙贤 ,  朴正善 ,  许弼覠

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67034 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明提供了一种基板处理设备。该基板处理设备包括：提供了空间的容器，在该空间中超临界流体流动或被接收；回收管，其一端连接到容器以排出在容器内的超临界流体，该回收管包括阀；以及废液管，其连接到容器，以排出在容器内的超临界流体，该废液管包括安全阀。回收管的另一端连接到回收容器，在该回收容器中，从容器排出的超临界流体被接收以用于再利用。