薄膜晶体管及其制造方法
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1652353A

    公开(公告)日:2005-08-10

    申请号:CN200510054415.8

    申请日:1997-06-27

    Inventor: 井上聪

    CPC classification number: H01L29/78696 G02F1/13454

    Abstract: 本发明提供一种具有可减少Vgs-Ids特性的变坏的结构的薄膜晶体管。该薄膜晶体管(16)具有由N型杂质扩散区构成的源区(17)、漏区(18)和栅电极(19),栅电极(19)的正下方成为沟道区(30)。此外,在源区(17)、漏区(18)中,通过多个接触孔(20)分别与源电极(21)、漏电极(22)连接。而且在沟道区(30)的内部,在多个部位并隔开一定间隔地形成P型杂质扩散区(23)。

    薄膜晶体管及其制造方法
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1444288A

    公开(公告)日:2003-09-24

    申请号:CN03107749.8

    申请日:1997-06-27

    Inventor: 井上聪

    CPC classification number: H01L29/78696 G02F1/13454

    Abstract: 本发明提供一种具有可减少Vgs-Ids特性的变坏的结构的薄膜晶体管。该薄膜晶体管(16)具有由N型杂质扩散区构成的源区(17)、漏区(18)和栅电极(19),栅电极(19)的正下方成为沟道区(30)。此外,在源区(17)、漏区(18)中,通过多个接触孔(20)分别与源电极(21)、漏电极(22)连接。而且在沟道区(30)的内部,在多个部位并隔开一定间隔地形成P型杂质扩散区(23)。

    半导体器件的制造方法、集成电路、电光装置和电子仪器

    公开(公告)号:CN100403490C

    公开(公告)日:2008-07-16

    申请号:CN200410033468.7

    申请日:2004-04-08

    Inventor: 井上聪

    Abstract: 一种半导体器件的制造方法、集成电路、电光装置和电子仪器,所述半导体器件制造方法包括:在第一基板(10)上形成剥离层(12)的剥离层形成工序;在剥离层上形成绝缘膜(14)的绝缘膜形成工序;在绝缘膜(14)上形成多个微孔(16)的微孔形成工序;在绝缘膜上和微孔(16)内形成半导体膜(18)的成膜工序;通过热处理,熔融结晶化半导体膜,形成包含以所述各微孔大致作为中心的大致单晶的晶粒而构成的结晶性半导体膜(20)的结晶化工序;使用各结晶性半导体膜形成半导体元件(T)的元件形成工序;在剥离层(12)的层内和/或界面上产生剥离,将半导体元件转移到第二基板上的转移工序。根据本发明,可在大面积基板上容易形成细微且高性能的薄膜半导体元件。

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