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公开(公告)号：CN113134717A
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN202110249185.X
申请日：2021-03-08
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种多用途O型密封圈自动装配设备及方法。密封圈的安装通常由人工完成，安装精度低，效率低。本发明的升降机构驱动旋转机构、机械臂和抓取机构升降，旋转机构驱动机械臂和抓取机构旋转；抓取机构包括壳体、旋转电机、驱动块、卡爪组件和顶推组件；旋转电机经驱动块带动卡爪组件水平移动；卡爪组件的卡爪可相对卡板上下移动；顶推组件包括套筒、滑板和圆弧推板；套筒与壳体固定；圆弧推板与套筒通过滑板连接；滑板穿过卡爪；圆弧推板的底面高于卡爪底面；卡爪组件和顶推组件的数量且均为3、4或5个。本发明适用于不同内径O型密封圈的装配，以及零件不同水平、高度位置的待装配环形槽上安装密封圈。
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公开(公告)号：CN106876520B
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201710046206.1
申请日：2017-01-22
Applicant: 杭州电子科技大学
IPC: H01L31/18 , H01L31/0236 , C23F1/08 , C23F1/24 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种控制硅纳米线走向的装置，包括反应釜体、可调电源、控制单元、盛放蚀刻溶液器皿和泵，反应釜体的中部设有硅片架，反应釜体由硅片架及硅片平分为左右两个腔室，盛放蚀刻溶液器皿通过管道分别连接至两个腔室，泵设于管道的前端，反应釜体的顶部设有端盖，端盖上设有环形导轨和滑块，滑块与环形导轨相匹配，两个腔室分别设有惰性电极，惰性电极与硅片架相对面为平面，惰性电极通过穿设于端盖及滑块的长螺栓与可调电源电连接，两个长螺栓通过连杆连接，惰性电极与可调电源电连接，可调电源和泵分别受控制单元的控制。本发明制备可控硅表面纳米结构的装置具有操作简单、生产效率高、产品质量高等特点，适合大规模产业化应用。
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公开(公告)号：CN106927421A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201710046177.9
申请日：2017-01-22
Applicant: 杭州电子科技大学
CPC classification number: B82B3/0009 , B82B3/0066 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种制造可控走向的硅纳米线的方法，包括如下步骤：(一)对硅片进行清洗；(二)对硅片进行表面处理，在硅片表面镀一层贵金属涂层；(三)在电场方向可调的反应釜内采用刻蚀溶液对镀银后的硅片进行刻蚀；(四)去除硅片表面金属颗粒，干燥。本发明提出添加外电场来驱动贵金属离子，通过调整外加电场的方向来制备不同硅纳米线走向的方法。
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公开(公告)号：CN106449486A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610951584.X
申请日：2016-10-27
Applicant: 杭州电子科技大学
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67086
Abstract: 本发明属于硅表面加工技术领域，具体涉及一种制备可控硅表面纳米结构的电磁耦合装置。本发明电磁耦合装置包括：反应釜、电源；反应釜包括筒状的衔铁，衔铁的上口、下口分别由顶盖、底盖封住，衔铁的内壁安装有对称的两石墨电极，两侧石墨电极的相对面相平行；衔铁外壁缠绕有漆包线绕线组；衔铁内安装托架，托架用于安放硅片，硅片处于两石墨电极之间且与两石墨电极的相对面相平行，硅片将反应釜分隔成两个腔室；电源的一正负极分别与两石墨电极板电连接，电源的另一正负极还与漆包线绕线组两端电连接。本发明制备可控硅表面纳米结构的电磁耦合装置具有操作简单、智能化程度高、生产效率高等特点，适合大规模产业化应用。
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公开(公告)号：CN105439083A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510788271.2
申请日：2015-11-17
Applicant: 杭州电子科技大学
IPC: B81C1/00 , B82Y40/00 , H01L31/0236
CPC classification number: Y02E10/50 , B81C1/00539 , B82Y40/00 , H01L31/02363
Abstract: 本发明公开了一种基于超声驻波场制备硅微纳结构阵列的方法，按如下步骤：(1)、配比腐蚀液：腐蚀液由HF溶液、H2O2溶液和AgNO3溶液均匀混配而成；(2)、将步骤(1)的腐蚀液放入反应釜中，反应釜置于超声发生器形成的超声驻波场中，开启超声波电源，形成超声驻波场；(3)、将清洗后的单晶硅硅片放入反应釜中，腐蚀时间30-60min后，得到单晶硅微纳结构阵列。本发明将超声驻波场与传统的金属辅助化学腐蚀法结合，使反应过程中的金属催化剂颗粒在超声驻波场声辐射力的作用下积聚在超声驻波点，使金属催化剂颗粒呈线性阵列分布在单晶硅表面，随着腐蚀反应的进行，单晶硅表面会形成规则的微纳结构阵列。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103321855A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310232234.4
申请日：2013-06-08
Applicant: 杭州电子科技大学
CPC classification number: Y02E10/46
Abstract: 本发明公开了多能源综合发电机，包括聚光圆柱管(6)，圆柱管(6)之外转动配合转子圆柱环(3)，转子圆柱环(3)的内壁缠绕第一发电机线圈绕组(14)，与此相对应的，圆柱管(6)的外壁缠绕有第二发电机线圈绕组(14)，两相对应线圈绕组留有间隙；圆柱管(6)之内装配旋转式中轴(11)，中轴(11)的外壁固设多片涡轮型扇叶(7)，且中轴(11)的外壁缠绕有第三发电机线圈绕组(14)，与此相对应的，圆柱管(6)之内壁缠绕有第四发电机线圈绕组(14)，两相对应线圈绕组留有间隙；转子圆柱环(3)的外壁沿圆周方向均布多片抛物面扇叶(5)，相邻抛物面扇叶(5)留有间隙，抛物面扇叶(5)的内凹面朝向圆柱管(6)装配中轴(11)的一侧，抛物面扇叶(5)的内凹面固接光伏电池板(15)；抛物面扇叶(5)外凸面固接扇叶(4)。
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公开(公告)号：CN114348957B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202111661815.0
申请日：2021-12-31
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种交变电场结合超声制备硅纳米结构的设备，电机驱动两石墨电极旋转；三个超声发生器分别装配在反应釜内部的底面和两侧壁面上；一个超声发生器装配在釜端盖的下表面上。本发明通过两对超声发生器在硅片表面形成驻波场，使带电金属粒子停滞在驻波场的驻波节点上；石墨电极通电使带电金属粒子沿交变电场力方向运动，团聚在带电金属粒子周围的腐蚀液中的酸在带电金属粒子带动下与硅片表面反应；通过改变超声波频率和幅值改变驻波场中驻波节点位置，改变在硅片上的刻蚀位置；电机调整两石墨电极位置，使交变电场力方向改变；改变交变电流的频率和幅值，调整微结构刻蚀深度。本发明能按预设图案对硅片进行刻蚀。
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公开(公告)号：CN116145201A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202310199518.1
申请日：2023-03-04
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种基于超声驻波剥离阴极涂层的设备及方法。本发明的龙门架两侧内壁与两个Y轴运动机构中的Y轴移动板分别固定；龙门架两侧内壁均设有Z轴运动机构，两个Z轴运动机构中每对称的两个支撑块与一个X轴运动机构中两个支撑板的两端分别固定；每个X轴运动机构的工作台均固定有振动头固定板，振动头固定板上设有多个超声振动模组，超声振动模组中换能器通过电缆与超声波发生器连接；固定在振动头固定板上的吸嘴抽出口通过波纹管与工业吸尘器的吸入端连接。本发明通过驻波振动使阴极涂层内部产生撕裂现象，达到剥离阴极涂层的目的，且避免了飞溅物的产生，同时减小了对阴极板的损伤，提高了阴极板的可重复利用率。
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公开(公告)号：CN114158991B
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202111549182.4
申请日：2021-12-17
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种墙面清洗机器人及其在墙面进行清洁与移动的方法，包括左机身、右机身、双臂机构、升降机构、平移机构、清洁机构和真空吸附机构；双臂机构的两个左长臂和两个右长臂通过球面铰接在左、右机身上；齿轮与齿条配合调整两个左长臂和两个右长臂位置，实现两个左长臂和两个右长臂的前进、后退与升降；真空泵一和真空泵二吸附底部吸盘和爬行脚吸盘内空气，使机器人稳定吸附在墙面；电动缸一、电动缸二、电机五和电机六配合实现机器人的左、右横移；电机三和连杆三实现毛刷公转，电机四实现毛刷自转。本发明的两个左长臂和两个右长臂运动空间大，灵活多变，能实现机器人前进、后退与横移，稳定性好、工作高效，可进行墙面清理工作。
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公开(公告)号：CN113210215A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202110532112.1
申请日：2021-05-17
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种悬浮式匀胶机及其匀胶方法。现有匀胶机涂膜不均匀。本发明包括底座，所述底座上设有风筒；所述风筒上固定匀胶室，所述匀胶室为空腔结构，且匀胶室的底端与风筒连通，所述匀胶室的侧壁开设有通气孔，所述匀胶室内设有载片托盘，所述载片托盘的侧壁上开设有沿周向均布的多个气道；所述风筒内位于所述载片托盘正下方位置处固定设有出风装置；所述出风装置的进气口和所述载片托盘的通气孔均与气体发生装置连接，所述出风装置用于驱动所述载片托盘悬浮，所述通气孔与气道配合用于驱动载片托盘旋转。本发明使得载片托盘中的晶片在空中旋转，没有任何直接的干扰，保证了晶片的形状不会受到破坏，增加了匀胶晶片的成品率。
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