一种基于电场效应硅基内腔成形的方法

    公开(公告)号:CN111488715A

    公开(公告)日:2020-08-04

    申请号:CN202010279647.8

    申请日:2020-04-10

    Abstract: 本发明属于微纳米制造技术领域,具体涉及一种基于电场效应硅基内腔成形的方法,本发明基于电场耦合温度场建立硅基总自由能方程,并对方程进行数值求解及仿真分析,通过C语言编程仿真与可视化处理,观察总结基于电场效应硅基内腔成形的变化规律,为硅基内腔成形的稳定性与可控性的数值模拟提供了新的思路;解决目前硅基内腔在单一温度场作用下成形时存在形状大小不稳定,成形结构存在缺陷的问题。

    基于含有活性铜碳点的尿酸电化学传感器及其应用

    公开(公告)号:CN107102052B

    公开(公告)日:2019-08-09

    申请号:CN201710279857.5

    申请日:2017-04-26

    Abstract: 本发明公开基于含有活性铜碳点的尿酸电化学传感器及其应用。本发明将富含羧基的高分子聚合物、含二价铜盐加入到反应容器中,置于水热反应釜中,200~240℃下反应2~18h,离心,透析纯化,得到含有活性铜碳点溶液;采用三电极体系,以玻碳电极为工作电极,铂丝电极为对电极,饱和甘汞电极为参比电极,将上述预处理过的玻碳电极置入上述含有活性铜碳点的溶液中,利用电沉积法在0~2V的电位范围50~500mV/s的扫速下循环扫描。与现有技术相比,本发明利用含有活性铜碳点这种纳米材料不仅具有碳点大的比表面积和高的电子传递速率,还具有活性铜对电极界面上基质的电子转移速率的促进作用以及对尿酸的非常强的选择性。

    一种内部缺陷规则排列的三维光子晶体的制备方法

    公开(公告)号:CN110016720A

    公开(公告)日:2019-07-16

    申请号:CN201910414264.4

    申请日:2019-05-17

    Abstract: 本发明属于微纳米制造技术领域,具体涉及一种内部球形缺陷规则排列的三维光子晶体的制备方法。包括:S1、在硅基光子晶体表面蚀刻规则排列的阵列微孔;S2、将蚀刻后的硅基光子晶体置于超声耦合高温成型装置,所述超声耦合高温成型装置包括高温加热器及其外部布设的超声波换能器;S3、调节超声波换能器产生的超声驻波的频率和功率,通过热-声耦合作用成型得到内部缺陷规则排列的硅基三维光子晶体。本发明针对恒温环境下硅基光子晶体内部空腔的成型常存在形状不定和位置偏移等问题,引入超声驻波来定位内部缺陷结构成型的位置,从而实现硅基内部产生周期性规则排列的空腔结构,为高Q值的硅基三维光子晶体内部腔体位置的调控提供新的思路。

    一种四氧化三铁复合金属螯合物模拟酶的制备及应用

    公开(公告)号:CN109499616A

    公开(公告)日:2019-03-22

    申请号:CN201811407161.7

    申请日:2018-11-23

    Abstract: 本发明涉及一种四氧化三铁复合金属螯合物模拟酶的制备及应用。本发明采用水热法合成了Fe3O4-SL,SL分子衍生出大的RCOO-基团,吸附在Fe3O4粉末的表面,在温和条件下金属离子被Fe3O4-SL吸附形成纳米复合材料,由于静电和空间效应,颗粒具有良好的分散性;且制备的Fe3O4复合金属螯合物具有良好的形貌且粒径小,具有优异的过氧化物酶催化能力,分离过程简单、方便的、稳定的、可重复利用;基于Fe3O4复合金属螯合物模拟酶优异的过氧化物酶活性,建立了高灵敏、低成本、简便检测过氧化氢的方法。反应条件温和,检测速度快,灵敏度高,选择性好,可实现过氧化氢的可视化快速识别和检测,具有较高的使用价值。

    基于相场模型的聚合物表面微结构可控成形机理研究方法

    公开(公告)号:CN112895408B

    公开(公告)日:2022-05-20

    申请号:CN202011581387.6

    申请日:2020-12-28

    Abstract: 本发明公开一种基于相场模型的聚合物表面微结构可控成形机理研究方法,包括步骤:S1、将样本即聚合物材料放入一定温度下加热使其达到熔融状态;S2、对熔融状态下的聚合物施加电场,通过图形化电极板、设置不同电场强度,诱导聚合物表面微结构成形为各式阵列结构,得到不同时段的聚合物表面微结构形态变化状况;S3、建立电场诱导聚合物表面微结构的系统模型;S4、对模型中的微分方程进行编译得到仿真数据,并将仿真数据导入可视化软件中进行图像显示,得到相应的模拟仿真结果。本发明利用仿真模拟电场诱导聚合物表面微结构成形的动态过程,更加直观的观察聚合物表面结构的成形变化,研究电场形状、参数、空气间隙、聚合物薄膜厚度等对实验的影响。

    一种在硅基材料内部形成球形空腔的方法和设备

    公开(公告)号:CN114289881A

    公开(公告)日:2022-04-08

    申请号:CN202111665891.9

    申请日:2021-12-31

    Abstract: 本发明涉及微纳米制造技术领域,尤其涉及一种在硅基材料内部形成球形空腔的方法和设备,所述方法包括以下步骤:(S.1)采用激光加工的方式,制备具有空腔的硅基材料;(S.2)在热场中置入(S.1)所述中已制备得到的具有空腔的硅基材料,进行热处理工艺;(S.3)在(S.2)所述环境中加入电场,对硅基材料进行诱导成形,完成硅基材料内部球形空腔三维结构。本发明首先将经过激光加工后的硅基材料进行热处理,在经过热处理后,硅材料空腔处的硅原子的原子迁移率大幅提升,然后在加入电场进一步对硅基材料进行诱导成形促使硅基内部三维结构成形,本发明在制备过程中具有简单可控的优点,通过该方法能够有效提升微纳器件的性能表现。

    一种高温作用下制备PMMA内部微通道的方法

    公开(公告)号:CN113427783A

    公开(公告)日:2021-09-24

    申请号:CN202110667114.1

    申请日:2021-06-16

    Abstract: 本发明公开了一种高温作用下制备PMMA内部微通道的方法,其按如下步骤进行:步骤一:确定阵列微孔的基本参数,后采用纳米微针在PMMA表面打出微孔;步骤二:将打好微孔的常态下PMMA放置于高温环境中,在高温下将PMMA加热到熔融态,高温加热的温度为150‑200℃;熔融态的PMMA在表面能的驱动下向着能量最小的方向运动,表面微孔愈合,形成内部微通道。本发明从能量角度出发,实现制备性能完善的聚合物PMMA内部微通道结构,为聚合物内部微通道的制备提供新的方案。

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