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公开(公告)号:CN103337274A
公开(公告)日:2013-10-02
申请号:CN201310190387.7
申请日:2009-10-20
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
Abstract: 一种用于紫外线灯的反射器,该紫外线灯可在基材处理设备中使用。该反射器包含在该紫外线灯长度上延伸的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含多个通孔以将冷却剂气体导向该紫外线灯。在此亦描述使用具有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。
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公开(公告)号:CN103222033A
公开(公告)日:2013-07-24
申请号:CN201180056390.9
申请日:2011-10-27
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/26 , H01L21/205
CPC classification number: H05B41/3921 , H01L21/67115 , H05B41/3922
Abstract: 本发明大致上涉及控制UV灯输出以增加辐照度均匀性的方法。这些方法大致上包含决定腔室内的基准线辐照度,决定与第一灯及第二灯相对应的基板上的相对辐照度,以及根据相对辐照度与基准线辐照度决定修正因子或补偿因子。然后使用修正因子或补偿因子经由闭环控制来调整灯,以单独地将灯调整至要求的输出。在将这些灯调整至要求的输出之前,可选择性地将这些灯调整成相等的辐照度。该闭环控制确保基板与基板之间的处理均匀性。辐照度测量以及修正因子或补偿因子允许由于腔室部件劣化、腔室部件替换或腔室清洁而对灯设定点的调整。
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公开(公告)号:CN102884610A
公开(公告)日:2013-01-16
申请号:CN201180023388.1
申请日:2011-05-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor: R·萨卡拉克利施纳 , G·巴拉苏布拉马尼恩 , J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 , D·R·杜鲍斯 , M·A·福多尔 , 周建华 , A·班塞尔 , M·阿优伯 , S·沙克 , P·赖利 , D·帕德希 , T·诺瓦克
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01L21/6719 , C23C16/46 , C23C16/5096 , H01J37/32495 , H01J37/32568 , H01J37/32651 , H01J37/32715
Abstract: 本发明提供用于等离子体处理衬底的设备。所述设备包括处理腔室、设于处理腔室内的衬底支撑件、设于处理腔室内且在衬底支撑件下方的屏蔽构件、以及耦合至处理腔室的盖组件。所述盖组件包括耦合至功率源的导电气体分配器、以及电极,所述电极通过电气绝缘体与导电气体分配器和腔室主体隔开。电极还耦合至电功率源。衬底支撑件制作成具有容许偏离平行甚微的刚性。屏蔽构件热屏蔽腔室主体下部中的衬底传送开口。泵送气室位于衬底支撑件处理位置下方,且从所述衬底支撑件处理位置隔开。
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