公开(公告)号：CN102884610A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：CN201180023388.1

申请日：2011-05-06

Applicant: 应用材料公司

Inventor： R·萨卡拉克利施纳 ,  G·巴拉苏布拉马尼恩 ,  J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 ,  D·R·杜鲍斯 ,  M·A·福多尔 ,  周建华 ,  A·班塞尔 ,  M·阿优伯 ,  S·沙克 ,  P·赖利 ,  D·帕德希 ,  T·诺瓦克

IPC: H01L21/205

CPC classification number: H01L21/6719 ,  C23C16/46 ,  C23C16/5096 ,  H01J37/32495 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32651 ,  H01J37/32715

Abstract: 本发明提供用于等离子体处理衬底的设备。所述设备包括处理腔室、设于处理腔室内的衬底支撑件、设于处理腔室内且在衬底支撑件下方的屏蔽构件、以及耦合至处理腔室的盖组件。所述盖组件包括耦合至功率源的导电气体分配器、以及电极，所述电极通过电气绝缘体与导电气体分配器和腔室主体隔开。电极还耦合至电功率源。衬底支撑件制作成具有容许偏离平行甚微的刚性。屏蔽构件热屏蔽腔室主体下部中的衬底传送开口。泵送气室位于衬底支撑件处理位置下方，且从所述衬底支撑件处理位置隔开。