半导体芯片以及使用了该半导体芯片的半导体模块

    公开(公告)号:CN107750392B

    公开(公告)日:2020-04-28

    申请号:CN201680036701.8

    申请日:2016-05-27

    Abstract: 提供一种半导体芯片。半导体芯片具备:开关元件(11a~16a),具有栅极电极;第1控制焊盘(71),与上述栅极电极电连接,被施加控制上述开关元件的接通、断开的电压;以及第2控制焊盘(72),在上述开关元件接通时,在与上述第1控制焊盘之间构成供控制电流流过的电流路径,上述第1控制焊盘以及上述第2控制焊盘中的某一方的控制焊盘被配置成被另一方的控制焊盘夹着。

    半导体装置
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110945633A

    公开(公告)日:2020-03-31

    申请号:CN201880048878.9

    申请日:2018-07-26

    Inventor: 河野宪司

    Abstract: 具备:第1导电型的漂移层(13);第1导电型的沟道层(14),配置在漂移层(13)上;第1导电型的源极层(15),形成在沟道层(14)的表层部;第2导电型的栅极层(16),形成在沟道层(15);第2导电型的体层(17),形成在沟道层(15);漏极层(11),隔着漂移层(13)而配置在与源极层(15)相反的一侧;栅极布线(19),与栅极层(16)电连接;第1电极(21),与源极层(15)及体层(17)电连接;以及第2电极(22),与漏极层(11)电连接。并且,在体层(17)的底部侧,与栅极层(16)的底部侧相比,使电场强度更高。

    半导体装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109478563A

    公开(公告)日:2019-03-15

    申请号:CN201780044650.8

    申请日:2017-06-29

    Inventor: 河野宪司

    Abstract: 半导体装置具备多个开关元件、和半导体基板。多个开关元件并联地连接而被驱动,多个开关元件形成于半导体基板。在半导体基板的平面视图下,多个开关元件分别具有:单元区域(111),形成有被施加栅极电压的有源沟槽栅极(G1),作为IGBT发挥功能;外周区域(112),形成芯片外形;以及非单元区域(113),形成为将单元区域和外周区域分离,设置有对向单元区域的电连接进行中继的焊盘(114)。在半导体基板的平面视图下,有源沟槽栅极在非单元区域中还形成在不与焊盘重叠的位置。

    半导体器件
    26.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102479788B

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201110380839.9

    申请日:2011-11-25

    Abstract: 一种半导体器件,包括半导体衬底(101,210,301,401),其具有第一表面和第二表面。所述半导体衬底具有元件区(30,330,430),所述元件区(30,330,430)包括IGBT区(Xi)和邻近所述IGBT区设置的二极管区(Xf)。在所述IGBT区中形成IGBT元件(100)。在所述二极管区中形成二极管元件(20)。第一导电类型的重掺杂区(40,208,340,440)位于所述元件区周围的所述第一表面侧上。第一导电类型的吸收区(22,222,322,422,522)位于所述元件区周围的所述第二表面侧上。第二导电类型的第三半导体区(523)位于所述元件区周围的所述第二表面侧上。

    半导体器件
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102867846A

    公开(公告)日:2013-01-09

    申请号:CN201210230031.7

    申请日:2012-07-04

    Abstract: 本发明公开了一种半导体器件,该半导体器件具有第一导电类型半导体衬底(10)、第二导电类型沟道区(13)和第二导电类型减薄区(18)。邻近于半导体衬底(10)的衬底表面(10a)形成沟道区(13)和减薄区(18)。此外,空穴阻挡层(19)形成在每个减薄区(18)中,以将减薄区(18)划分为邻近于衬底表面(10a)的第一部分(18a)和邻近于减薄区(18)的底部的第二部分(18b)。空穴阻挡层(19)的面密度小于或等于4.0×1012cm-2,以使得耗尽层能够穿通空穴阻挡层(19),由此限制击穿特性降低。

    半导体器件
    29.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101794778A

    公开(公告)日:2010-08-04

    申请号:CN201010104031.3

    申请日:2010-01-27

    Abstract: 一种半导体器件包括具有第一表面(10a)和第二表面(10b)的半导体衬底(10)。主区域(11)和感测区域(13)形成于所述半导体衬底(10)的所述第一表面侧上。RC-IGBT形成于所述主区域(11)中,且用于传输与流经所述RC-IGBT的电流成比例的电流的感测元件(32)形成于所述感测区域(13)中。所述感测元件(32)的集电极区(24)和阴极区(25,27)形成于所述半导体衬底(10)的所述第二表面侧上。所述集电极区(24)在所述半导体衬底(10)的厚度方向上位于所述感测区域(13)的正下方。所述阴极区(25,27)在所述厚度方向上不是位于所述感测区域(13)的正下方。

    具有二极管和IGBT的半导体器件

    公开(公告)号:CN101393914A

    公开(公告)日:2009-03-25

    申请号:CN200810149208.4

    申请日:2008-09-17

    CPC classification number: H01L27/0676 H01L29/0623 H01L29/7395 H01L29/872

    Abstract: 一种半导体器件,包括:半导体衬底(10、11),其包括第一导电类型层(11);多个IGBT区(1),每个IGBT区(1)提供一个IGBT元件;以及多个二极管区(2),每个二极管区(2)提供一个二极管元件。所述多个IGBT区和所述多个二极管区交替布置在所述衬底中。每个二极管区都包括具有第二导电类型的肖特基接触区(24)。所述肖特基接触区用于回收来自所述第一导电类型层的少数载流子。所述肖特基接触区设置在所述第一导体类型层的第一表面部分中,并且邻近所述IGBT区。

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