一种高耐刻蚀性钇镁复相透明陶瓷及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN119390427B

    公开(公告)日:2025-04-18

    申请号:CN202510014128.1

    申请日:2025-01-06

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种高耐刻蚀性钇镁复相透明陶瓷及其制备方法和应用,所述制备方法包括如下步骤:将氧化镁和氧化钇按照预定比例混合得到基材,加入含钇的氟化物作为烧结助剂,所述含钇的氟化物的添加质量为基材的质量的1~10%,形成复相陶瓷坯体;将复相陶瓷坯体在惰性无氧气氛中烧结,得到所述高耐刻蚀性钇镁复相透明陶瓷;所述高耐刻蚀性钇镁复相透明陶瓷的刻蚀深度为300~500nm/h。与现有技术相比,采用含钇的氟化物作为烧结助剂,在陶瓷表面形成稳定的保护性氟化层,提高陶瓷的耐刻蚀性,同时避免刻蚀环境下分解并引入杂质的风险,所述高耐刻蚀性钇镁复相透明陶瓷特别适用于半导体制造中的刻蚀设备。

    一种用于闪烁探测的导模共振移波器件

    公开(公告)号:CN105204191B

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201510598647.3

    申请日:2015-09-18

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种用于闪烁探测的导模共振移波器件,包括基底层和基底层上面布置的发光薄膜层,还包括布置在发光薄膜层上面的光子晶体层,光子晶体层由排列排列呈三角构型的周期阵列的介质柱构成,介质柱垂直布置于发光薄膜层上表面,介质柱的材料对发光薄膜层发射的光透明。与现有技术相比,本发明具有高的转换效率和时间分辨能力,又具有高度的光发射方向调控能力,能够提高对紫外等闪烁荧光的探测效率。

    γ‑CuI纳米线的制备方法
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104851948B

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:CN201510155285.0

    申请日:2015-04-03

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明属于材料制备领域,其公开了一种γ‑CuI纳米线的制备方法,以多孔阳极氧化铝(Anodic Aluminum Oxide,AAO)为模板,采用真空熔融热压法。主要对AAO模板预处理,原料掺杂,真空熔融的加热温度,升温过程,气压值和降温过程和AAO模板溶解等工艺进行优化,得到了尺寸一致,连续致密的γ‑CuI纳米线。并且可以通过选用不同AAO模板可实现纳米线尺寸的精确调控。所制备的p型半导体γ‑CuI纳米线可应用于有机化学催化,太阳能电池,发光二极管等领域。同时该制备方法工艺简单,成本低廉。

    伽玛碘化亚铜超快X射线闪烁转换屏的制备方法

    公开(公告)号:CN102787296A

    公开(公告)日:2012-11-21

    申请号:CN201210282563.5

    申请日:2012-09-20

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明提供一种制备伽玛碘化亚铜超快X射线闪烁转换屏的方法。以高纯CuI为原料,采用真空热蒸镀法和气氛退火工艺,通过选择合适的蒸镀温度、衬底温度、退火处理等工作条件,在石英等衬底上制备γ-CuI闪烁转换屏,所获得的转换屏晶型为γ相,微观形貌呈垂直于衬底的微柱状结构,有利于抑制闪烁光的侧向传播,闪烁峰位于430nm,发光衰减时间为亚纳秒量级,该薄膜组分稳定、厚度均匀、无开裂,在超高速数字化X射线成像方面有着重要的应用价值。本发明适合于工业化生产,推广应用价值高。

    一种载磷酸锂纳米晶液体闪烁体及其制备方法

    公开(公告)号:CN111088038A

    公开(公告)日:2020-05-01

    申请号:CN201911292038.X

    申请日:2019-12-16

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明提供了一种载磷酸锂纳米晶液体闪烁体,属于发光材料领域。本发明提供载磷酸锂纳米晶液体闪烁体的组分包括:磷酸锂纳米晶、芳香烃溶剂、荧光闪烁剂2,5-二苯基噁唑以及移波剂1,4-双[2-(5-苯基)噁唑基]苯。本发明的载磷酸锂纳米晶液体闪烁体具有锂含量比例高、锂原子密度大、热稳定性好且不潮解、制备出具有良好n/γ甄别等优点,对开发具有宽能区、高探测效率和快响应的锂-6基纳米晶复合液体闪烁体中子探测器具有重要意义。

    一种闪烁玻璃的制备方法
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102153280A

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN201010110055.X

    申请日:2010-02-11

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 一种闪烁玻璃的制备方法,其采用半导体硅、一氧化硅、锂、钠、钡、铯、镧或钇等还原剂添加至闪烁玻璃配方中混合均匀,通过高温熔融及退火处理进行制备。制得的闪烁玻璃提高了玻璃体系中Tb4+→Tb3+转换效率,有效地增强了Tb3+掺杂硅酸盐闪烁玻璃的发光强度。且本发明由于无需采用通入还原气体(如H2,CO等)的方式还原Tb4+→Tb3+,降低了闪烁玻璃的制备成本与难度。

    铽激活硅酸盐闪烁玻璃及其制备方法

    公开(公告)号:CN1958495A

    公开(公告)日:2007-05-09

    申请号:CN200610118620.0

    申请日:2006-11-22

    Applicant: 同济大学

    CPC classification number: C03C3/112 C03C3/062 C03C4/12 C03C13/00 C03C13/045

    Abstract: 一种铽激活硅酸盐闪烁玻璃,以硅酸盐为基质,其中,该闪烁玻璃引入Tb3+为激活离子,Gd3+为敏化剂,BaF2为助熔剂,用熔融法制备,经定型,退火处理而成,其中,所述闪烁玻璃的配方为(按摩尔百分比计):SiO2(50-80mol%);BaO(10-25mol%);BaF2(1.2-6.0mol%);Na2O+K2O+Li2O(1-12mol%);Al2O3(0.1-1.2mol%);Tb2O3(0.2-4mol%);Gd2O3(0.2-3mol%)。该闪烁玻璃的制备方法包括将配方混合均匀后在1400-1450℃下用熔融法熔制3-6小时;将玻璃液倒入预热处理好的模具中定型;在马弗炉内600℃下保温3小时退火处理。优点是:工艺简单、组分易调、化学稳定性好、可拉制成光纤,发光强度高,发射峰位在550nm附近,对X射线实时成像、核技术应用有重要价值。

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