一种闪烁玻璃的制备方法

    公开(公告)号:CN102153280A

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN201010110055.X

    申请日:2010-02-11

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 一种闪烁玻璃的制备方法,其采用半导体硅、一氧化硅、锂、钠、钡、铯、镧或钇等还原剂添加至闪烁玻璃配方中混合均匀,通过高温熔融及退火处理进行制备。制得的闪烁玻璃提高了玻璃体系中Tb4+→Tb3+转换效率,有效地增强了Tb3+掺杂硅酸盐闪烁玻璃的发光强度。且本发明由于无需采用通入还原气体(如H2,CO等)的方式还原Tb4+→Tb3+,降低了闪烁玻璃的制备成本与难度。

    微柱结构CsI(Tl)X射线闪烁转换屏的预镀层辅助制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN103060752B

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201310025713.9

    申请日:2013-01-22

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种微柱结构CsI(Tl)X射线闪烁转换屏的预镀层辅助制备方法及其应用。该方法采用热蒸镀技术制备预镀层,通过预镀层厚度和退火工艺等的调节,实现使预镀层具有均匀分布的岛状晶粒结构及对其晶粒间距的有效控制,再以CsI(Tl)粉末为原料,采用热蒸镀,在镀有预镀层的衬底上制备后续闪烁薄膜,实现对转换屏微柱形貌、均匀性、线宽、晶面择优取向等的有效控制,近乎垂直于屏面、结晶性能好的闪烁微柱可引导闪烁光沿微柱方向传播,使X射线成像器件的空间分辨率得到提高,满足高空间分辨率和高探测效率要求。本发明得到具有微柱结构CsI(Tl)X射线闪烁转换屏与光电探测器件耦合后可应用于高分辨率数字X射线成像。本发明适合于工业化生产,推广应用价值高。

    模板辅助矩阵式微柱结构CsI(Tl)闪烁转换屏的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN103614694A

    公开(公告)日:2014-03-05

    申请号:CN201310586385.X

    申请日:2013-11-21

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种模板辅助矩阵式微柱结构CsI(Tl)闪烁转换屏的制备方法及其应用。该方法使用的模板衬底为刻有矩阵式矩形微孔阵列的硅片,以CsI(Tl)粉末为原料,采用热蒸镀技术,在模板衬底上制备闪烁薄膜,通过对模板衬底上微孔周期等的调控,实现对转换屏微柱形貌、均匀性、线宽、排列情况等的有效控制,获得了具有矩阵式微柱结构的CsI(Tl)闪烁转换屏,近乎垂直于屏面、结晶性能好、排列规则的闪烁微柱可更好地与后续探测器件耦合,从而使X射线成像器件的空间分辨率得到提高,可同时满足高空间分辨率和高探测效率的要求。此方法制备得到的具有矩阵式微柱结构的CsI(Tl)闪烁转换屏与光电探测器件耦合后可应用于高分辨率数字X射线成像。本发明适合于工业化生产,推广应用价值高。

    微柱结构CsI(Tl)X射线闪烁转换屏的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN102496400A

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN201110442455.5

    申请日:2011-12-27

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种微柱结构碘化铯(掺铊)[化学式:CsI(Tl)]X射线闪烁转换屏的制备方法及其应用。它提供了一种制备具有微柱结构的CsI(Tl)X射线闪烁转换屏的方法,该方法以CsI(Tl)为原料,以石英、光纤面板和光纤锥等为衬底,采用热蒸镀技术,通过蒸镀温度、衬底温度和制备气氛等的调节,实现对转换屏微柱形貌、线宽、晶面择优取向等的有效控制,近乎垂直于屏面、结晶性能好的闪烁微柱可引导闪烁光沿微柱方向传播,从而使X射线成像器件的空间分辨率得到提高,可同时满足高空间分辨率和高探测效率的要求。此方法制备得到的具有微柱结构的CsI(Tl)X射线闪烁转换屏与光电探测器件耦合后可应用于高分辨率数字X射线成像。本发明适合于工业化生产,推广应用价值高。

    模板辅助矩阵式微柱结构CsI(Tl)闪烁转换屏的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN103614694B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201310586385.X

    申请日:2013-11-21

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种模板辅助矩阵式微柱结构CsI(Tl)闪烁转换屏的制备方法及其应用。该方法使用的模板衬底为刻有矩阵式矩形微孔阵列的硅片,以CsI(Tl)粉末为原料,采用热蒸镀技术,在模板衬底上制备闪烁薄膜,通过对模板衬底上微孔周期等的调控,实现对转换屏微柱形貌、均匀性、线宽、排列情况等的有效控制,获得了具有矩阵式微柱结构的CsI(Tl)闪烁转换屏,近乎垂直于屏面、结晶性能好、排列规则的闪烁微柱可更好地与后续探测器件耦合,从而使X射线成像器件的空间分辨率得到提高,可同时满足高空间分辨率和高探测效率的要求。此方法制备得到的具有矩阵式微柱结构的CsI(Tl)闪烁转换屏与光电探测器件耦合后可应用于高分辨率数字X射线成像。本发明适合于工业化生产,推广应用价值高。

    γ-CuI闪烁材料的掺杂改性方法

    公开(公告)号:CN104479672A

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201410663698.5

    申请日:2014-11-20

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种γ-CuI闪烁材料的掺杂改性方法。以高纯CuI和掺杂离子碘化物或单质为原料,进行均匀混合和充分研磨,压块后放入有气体保护的密封容器中进行烧结,可选的掺杂离子为:Zn,Cd,Hg,Mg,Ca,B,Al,Ga,In,Ge,Sn,Pb,S,Se或Te等中任一种,掺杂浓度为0.1% mol-10% mol,通过选择合适的掺杂离子、离子浓度、研磨参数和烧结温度及时间,获得了γ相的掺杂CuI材料,材料组分稳定,并具有稳定的、高强度的430nm快发光峰,同时720nm慢发光峰得到了抑制。所研制的γ-CuI材料可应用于闪烁晶体、闪烁陶瓷和闪烁转换屏的制备,相关器件可应用于高能物理、核医学成像和核技术应用等领域。

    用于中子共振透射谱测温数据处理分析的系统和方法

    公开(公告)号:CN102466527B

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN201010533348.9

    申请日:2010-11-05

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 一种用于中子共振透射谱测温数据处理分析的系统,该系统包括拟合分析模块、面积法分析求解模块、优化厚度求解模块、温度灵敏度与误差数值模拟模块、以及扩展功能模块。应用该系统可对实验中子共振透射谱数据进行多种方法的处理分析获得样品温度等关键参数值,也可对共振测温实验进行数值模拟,以优化实验方案。本发明还公开了一种用于中子共振透射谱测温数据处理分析的方法。使用本发明系统的不同功能模块,可对实验中子共振透射谱数据进行多种方法的处理分析,获得样品温度等关键参数值,也可对共振测温实验进行数值模拟,以优化实验方案。

    钽酸钆透明发光厚膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN101161768A

    公开(公告)日:2008-04-16

    申请号:CN200710047796.6

    申请日:2007-11-02

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明属于发光厚膜制备技术领域,具体说是涉及一种钽酸钆透明发光厚膜及其制备方法。该发光薄膜的化学表达式为:Gd1-xRxTaO4,其中R为Eu3+或Tb3+,0.04≤x≤0.12。具体步骤为:将Gd2O3和Eu2O3或Gd2O3和Tb4O7用硝酸的2-甲氧基乙醇溶液加热溶解;TaCl5用2-甲氧基乙醇和浓盐酸的混合溶液加热溶解,按化学计量进行混合,冷却至室温,备用;将PVP在室温下溶于2-甲氧基乙醇和去离子水的混合液,再将该溶液滴入前面所述的混合溶液中,搅拌,静置,陈化,即得到镀膜所需的溶胶;以石英玻璃为基底,采用旋涂方法镀膜,将旋涂好的湿凝胶膜进行干凝胶化处理,然后在程序温控炉中,以2℃/min的升温速率,从400℃升温至1200℃,并在该温度下保温2小时,自然冷却至室温,即获得所需发光薄膜,该发光薄膜平均单层厚度达到1μm左右。本发明工艺简单、方便,所制备的薄膜发光强度高、均匀透明、致密无开裂、与基底的附着性好。

    γ-CuI纳米线的制备方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104851948A

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201510155285.0

    申请日:2015-04-03

    Applicant: 同济大学

    CPC classification number: H01L33/26

    Abstract: 本发明属于材料制备领域,其公开了一种γ-CuI纳米线的制备方法,以多孔阳极氧化铝(Anodic Aluminum Oxide,AAO)为模板,采用真空熔融热压法。主要对AAO模板预处理,原料掺杂,真空熔融的加热温度,升温过程,气压值和降温过程和AAO模板溶解等工艺进行优化,得到了尺寸一致,连续致密的γ-CuI纳米线。并且可以通过选用不同AAO模板可实现纳米线尺寸的精确调控。所制备的p型半导体γ-CuI纳米线可应用于有机化学催化,太阳能电池,发光二极管等领域。同时该制备方法工艺简单,成本低廉。

    微柱结构CsI(Tl)X射线闪烁转换屏的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN102496400B

    公开(公告)日:2014-09-17

    申请号:CN201110442455.5

    申请日:2011-12-27

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种微柱结构碘化铯(掺铊)[化学式:CsI(Tl)]X射线闪烁转换屏的制备方法及其应用。它提供了一种制备具有微柱结构的CsI(Tl)X射线闪烁转换屏的方法,该方法以CsI(Tl)为原料,以石英、光纤面板和光纤锥等为衬底,采用热蒸镀技术,通过蒸镀温度、衬底温度和制备气氛等的调节,实现对转换屏微柱形貌、线宽、晶面择优取向等的有效控制,近乎垂直于屏面、结晶性能好的闪烁微柱可引导闪烁光沿微柱方向传播,从而使X射线成像器件的空间分辨率得到提高,可同时满足高空间分辨率和高探测效率的要求。此方法制备得到的具有微柱结构的CsI(Tl)X射线闪烁转换屏与光电探测器件耦合后可应用于高分辨率数字X射线成像。本发明适合于工业化生产,推广应用价值高。

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