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公开(公告)号：CN107919301A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201710935336.0
申请日：2017-10-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67248 , H01J37/32724 , H01J2237/2001 , H01L21/67103 , H01L21/6833 , H05B1/0233 , H05B3/28
Abstract: 提供一种温度控制装置、温度控制方法以及载置台。在加热器发生了断线的情况下也将被处理基板的温度控制的精度维持为高精度。基板处理装置具备静电卡盘、控制部以及多个加热器。静电卡盘的内部的各分割区域分别嵌入有多个加热器。在各分割区域中被嵌入的多个加热器并联连接。控制部针对每个分割区域，基于流过被嵌入到分割区域的多个加热器的电流的合计值来判定被嵌入到每个分割区域的加热器的一部分有无断线。然后，控制部在判定为被嵌入到分割区域的加热器的一部分发生了断线的情况下进行控制，以使得流过被嵌入到加热器的一部分发生了断线的分割区域内的每一个加热器的电流比流过所有加热器都没有发生断线的分割区域内的每一个加热器的电流多。
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公开(公告)号：CN113013014B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202110199431.5
申请日：2018-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置、基板处理装置以及滤波器装置，能够减少针对噪声的每个频率重新制作滤波器的功夫。滤波器(102(1))具有空芯线圈(104(1))、外导体以及可动件(120(1)～120(4))。空芯线圈具有固定的口径和固定的线圈长度。外导体为筒形，收容或包围空芯线圈，与空芯线圈组合而形成以多个频率进行并联谐振的分布常数线路。可动件配置于一个或多个有效区间内，用于变更空芯线圈的各个卷线间隙，所述有效区间是在滤波器的频率‑阻抗特性中使特定的一个或多个并联谐振频率向高频区域侧或低频区域侧产生移位的区间。
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公开(公告)号：CN112331549B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202011162092.5
申请日：2018-05-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置用的载置台，其可设定的温度的范围宽广，并且，能够细微地控制基片的面内温度分布。一个实施方式的载置台包括静电吸盘。静电吸盘具有基座和吸盘主体。吸盘主体设置在基座上，利用静电引力保持基片。吸盘主体具有多个第1加热器和多个第2加热器。多个第2加热器的个数比多个第1加热器的个数多。第1加热器控制器利用来自第1电源的交流或直流的输出对多个第1加热器进行驱动。第2加热器控制器利用来自第2电源的交流或直流的输出对多个第2加热器进行驱动，该第2电源具有比来自第1电源的输出的功率低的功率。
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公开(公告)号：CN113451095A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202110226313.9
申请日：2021-03-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明的基板支承器具备第1区域、第2区域、第1电极及第2电极。第1区域构成为保持载置于其上的基板。第2区域以包围第1区域的方式设置，构成为保持载置于其上的边缘环。第1电极设置于第1区域内，用于接收第1电偏置。第2电极至少设置于第2区域内，用于接收第2电偏置。第2电极以在第1区域内与第1电极相对的方式在第1电极的下方延伸。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113178375A
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN202110439990.9
申请日：2018-08-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种载置台和等离子体处理装置。载置台(2)由第一部件(20)、片部件(21)和第二部件(22)构成。第一部件(20)在与载置晶片(W)的载置面(2a)相反的背面侧的与载置面(2a)对应的范围内形成有凹部(24)。片部件(21)形成为片状，设置有加热件(21c)和对该加热件(21c)供给电力的引出配线(21d)。片部件(21)以加热件(21c)位于凹部(24)的内部的与载置面(2a)对应的区域，引出配线(21d)位于凹部(24)的侧面的方式配置在凹部(24)内。第二部件(22)与配置了片部件(21)的凹部(24)嵌合。由此，能够抑制对被处理体进行的等离子体处理的面内均匀性的降低。
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公开(公告)号：CN113013014A
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN202110199431.5
申请日：2018-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置、基板处理装置以及滤波器装置，能够减少针对噪声的每个频率重新制作滤波器的功夫。滤波器(102(1))具有空芯线圈(104(1))、外导体以及可动件(120(1)～120(4))。空芯线圈具有固定的口径和固定的线圈长度。外导体为筒形，收容或包围空芯线圈，与空芯线圈组合而形成以多个频率进行并联谐振的分布常数线路。可动件配置于一个或多个有效区间内，用于变更空芯线圈的各个卷线间隙，所述有效区间是在滤波器的频率‑阻抗特性中使特定的一个或多个并联谐振频率向高频区域侧或低频区域侧产生移位的区间。
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公开(公告)号：CN112420583A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202010818424.4
申请日：2020-08-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供载置台和等离子体处理装置，其使配置于载置台内的收容空间的基板的动作的稳定性提高。载置台包括：基台，其在内部具有收容空间；电介质层，其设于所述基台的第1面，具有载置基板的载置面，该电介质层在内部具有多个加热器；以及加热器控制基板，其配置于所述收容空间内，用于驱动所述多个加热器，所述基台在与所述第1面相反的面即所述基台的第2面具有向所述收容空间内导入制冷剂的导入口。
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公开(公告)号：CN112349644A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202010758747.9
申请日：2020-07-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种载置台和基板处理装置，能够控制载置台内的流路中的除热均匀性。在静电吸盘上载置基板的载置台具有：基台；所述静电吸盘，其被载置于所述基台的载置面；以及流路，其沿所述载置面形成于所述载置台的内部，用于使热交换介质从热交换介质的供给口流通至排出口，其中，在从所述供给口到所述排出口之间，所述流路的上表面与所述载置面的距离是固定的，所述流路的在与所述上表面垂直的方向上的截面形状根据所述流路的位置而不同。
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公开(公告)号：CN112053971A
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN202010476790.6
申请日：2020-05-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 小泉克之
IPC: H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供温度调整装置、基板处理装置以及控制载置台的控制方法。该温度调整装置具备：载置台，其具有多个加热部和多个温度检测部，所述多个加热部设置于在径向和周向上分别具有至少两个以上的单独区段的区段区域内的每个所述单独区段，所述多个温度检测部设置于多个所述单独区段，且数量比所述单独区段的数量少；以及控制装置，其根据所述温度检测部检测出的温度来控制在第一单独区段和第二单独区段设置的所述加热部，所述第一单独区段是设置有所述温度检测部的单独区段，所述第二单独区段是与所述第一单独区段同步地进行控制且未设置所述温度检测部的单独区段，其中，所述控制装置具有切换与所述第一单独区段同步地进行控制的第二单独区段的切换部。
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