公开(公告)号：CN102338990B

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：CN201110204680.5

申请日：2011-07-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 古闲法久

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67288

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够适当地进行周边曝光处理后的基板的检查，并提高包括该检查的基板处理的处理能力。晶片处理装置(42)包括：保持晶片的保持部(120)；使保持部(120)旋转的并使保持部(120)在交接位置(P1)与周边曝光位置(P2)之间移动的驱动部(121)；在周边曝光位置(P2)将晶片(W)的周边部曝光的曝光部(140)；设置于曝光部(140)的上方对晶片(W)摄像的摄像部(150)；和改变形成于被保持部(120)保持的晶片(W)与摄像部(150)之间的光路的方向的方向转换部(153)。方向转换部(153)具有第一反射镜(154)、第二反射镜(155)和第三反射镜(156)，通过第二反射镜(155)和第三反射镜(156)使形成于晶片W与摄像部(150)之间的光路折回。

公开(公告)号：CN102809570A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN201210135466.3

申请日：2012-05-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 久野和哉 ,  富田浩 ,  古闲法久 ,  西山直 ,  早川诚

IPC: G01N21/956

CPC classification number: G01N21/956 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/93 ,  G01N21/9501 ,  G01N2021/9513 ,  G06T7/0004

Abstract: 本发明提供不使用检查用基板、能够防止产生由照明部的照度的降低引起的检查的不顺利的问题的技术。本发明的基板检查装置，具有：模式选择部，用于在检查模式和维护模式之间选择模式，所述检查模式以载置于设置在机箱内的载置台的基板为被摄体进行摄像来进行检查，所述维护模式用于确认照明部的照度；导光部件，设置于上述机箱内，用于将上述照明部的光导向摄像部的摄像元件；判定部，对在维护模式执行时经由上述导光部件被摄像元件取得的照明部的光的亮度是否在预先设定的容许范围内进行判定；和报知部，当由上述判定部判定为上述亮度在上述容许范围外时，用于报知需要进行照明部的更换。

公开(公告)号：CN1275701C

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：CN02154348.8

申请日：2002-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 北野高广 ,  古闲法久 ,  武井利亲 ,  川渊义行

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B13/041 ,  B05C5/0208 ,  B05C11/1013

Abstract: 一种基片由可沿Y方向自由移动的基片固定部分(23)水平固定，在基片上方设有对着基片的喷嘴部分(5)，喷嘴部分(5)可沿对应于基片上涂层液体供给区域的X方向移动。排出口设在喷嘴部分(5)的下端，在排出口内设有将排出口(54)与连接到喷嘴部分上端的涂层液体输送管(61)相连的管道。在所述管道的中游设有直径大于排出口的液池部分，其内部设有由阻塞所述管道的多孔体构成的过滤件(71)。所述过滤件(71)形成压降部分，使涂层液体输送管中产生的脉动在到达排出口之前被吸收。

公开(公告)号：CN1552091A

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：CN02817255.8

申请日：2002-07-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小林真二 ,  北野高广 ,  森川祐晃 ,  石坂信和 ,  古闲法久 ,  南朋秀 ,  杉本伸一 ,  大仓淳 ,  栗岛启聪

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67253 ,  B05C5/0216 ,  B05C5/0291 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 预先对与制品用基板相同的基板以喷嘴边进行扫描边供给涂布液以形成涂布液的线，对其例如以CCD摄像头进行摄像以求取涂布液的接触角，依据该接触角利用几何模型求取进行实际涂布时的扫描速度下的涂布液喷嘴的喷吐流量与间距容许范围二者的关系数据。并且，预先针对每种目标膜厚制作出涂布液喷嘴的喷吐流量与间距二者的关系数据，依据两者的关系数据确定间距。

公开(公告)号：CN218240661U

公开(公告)日：2023-01-06

申请号：CN202220671762.4

申请日：2022-03-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 岩田和也 ,  古闲法久

IPC: G03F7/16

Abstract: 本公开涉及一种基板处理装置，使利用了适于EUV光刻的抗蚀剂材料的基板中的曝光时的感光度在面内均匀。基板处理装置(1)具有：光源(42)，在对利用EUV光刻用抗蚀剂材料形成了抗蚀剂膜的基板进行曝光处理前该光源(42)向该基板照射包括真空紫外光的光；以及作为光量抑制构件的有孔板(52)，其设置于来自所述光源的光的光路上，用于将到达所述基板表面的光的光量在照射区域中整体性地抑制为微弱光，其中，包括真空紫外光的光包括10nm～200nm波长中所包含的至少一部分波长带的连续的光谱成分。

公开(公告)号：CN305385096S

公开(公告)日：2019-10-15

申请号：CN201930081768.X

申请日：2019-02-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 古闲法久

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：用于光照射装置的电连接器壳体。
2．本外观设计产品的用途：在半导体制造中，热处理过程或曝光过程使用到光照射装置，通过连接器壳体连接电缆，连接器壳体与光照射装置连接，使电缆对光照射装置供电。
3．本外观设计产品的设计要点：在于形状的设计。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图1。