公开(公告)号：CN107868946B

公开(公告)日：2021-06-29

申请号：CN201710887853.5

申请日：2017-09-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 福岛讲平 ,  似鸟弘弥

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/02

Abstract: 提供一种能够控制对基板实施的处理的面内分布的气体导入机构和处理装置。气体导入机构是为了在处理容器内使用预定的气体对基板实施预定的处理而设于所述处理容器的，具有：歧管，其配置于所述处理容器的下端部，具有：喷射器支承部，其沿着所述处理容器的内壁面上下延伸，并且具有喷射器能够插入且能够外嵌支承该喷射器的插入孔；气体导入部，其从所述喷射器支承部向外侧伸出，在内部具有将所述插入孔和所述处理容器的外部连通而气体可流通的气体流路；喷射器，其插入所述插入孔，沿着所述内壁面整体呈直线状延伸，并且，在插入到所述插入孔的部位具有与所述气体流路连通的开口；旋转机构，其与所述喷射器的下端部连接，使所述喷射器旋转。

公开(公告)号：CN112962084A

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN202110135975.5

申请日：2017-09-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 福岛讲平 ,  似鸟弘弥

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够控制面间均匀性的基板处理装置。一实施方式的基板处理装置具有：内管，其收容多张基板；外管，其包围所述内管；可动壁，其设置成能够在所述内管的内部或所述内管与所述外管之间移动；气体供给部件，其向所述基板供给处理气体；以及排气部件，其对向所述基板供给的所述处理气体进行排气，在所述内管的侧壁形成有第1开口部，在所述可动壁形成有第2开口部，所述排气部件经由所述第1开口部和所述第2开口部对向所述基板供给的所述处理气体进行排气。

公开(公告)号：CN101409220B

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：CN200810167750.2

申请日：2008-09-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小山胜彦 ,  似鸟弘弥 ,  竹内靖

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67389 ,  H01L21/67775

Abstract: 提供不产生被处理体的位置偏移，可迅速平稳地将收纳容器体内气氛置换为惰性气体的被处理体导入口机构和处理系统。其包括用于分隔容器体搬送区域(34)和被处理体移放区域(36)之间并具有开口闸门(52)的分隔壁(38)和放置收纳被处理体(W)的收纳容器体(2)的放置台(54)。还设置具有可开闭地关闭开口闸门(52)的开闭门(56)的开闭门机构(57)，在开闭门(56)上设有开闭开闭盖(12)的盖开闭机构(64)。还设有在开口闸门(52)的内周具有向着收纳容器体(2)内喷射惰性气体用的由多孔材料作成筒体状的多孔气体喷身管(80)的气体喷射装置(100)、和具有对利用惰性气体清洗的收纳容器体(2)内气氛进行排气的排气口(82)的排气装置(102)。

公开(公告)号：CN101246815B

公开(公告)日：2011-05-25

申请号：CN200810074119.8

申请日：2008-02-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 似鸟弘弥 ,  菱谷克幸

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  F27B17/00 ,  F27D1/18 ,  F27D3/00 ,  F27D5/00

Abstract: 本发明提供一种对于双舟体系统也能以简单结构防止因地震等外力导致舟体搬送机构上的舟体倒转的立式热处理装置和方法，立式热处理装置(1)包括：下部具有炉口(5a)的热处理炉(5)、封闭炉口的盖体(17)、隔着保温筒(19)载置在盖体上并多层保持多个基板(w)的基板保持件(4)、和使盖体升降从而将基板保持件相对热处理炉搬入搬出的升降机构(18)。当另一方基板保持件(4)在热处理炉中时，另一方基板保持件为了基板(w)的移载而被载置于保持件载置台上。在保持件载置台与保温筒之间，基板保持件通过保持件搬送机构被搬送。保持件搬送机构具有限制基板保持件倒转的倒转限制部件。

公开(公告)号：CN101246815A

公开(公告)日：2008-08-20

申请号：CN200810074119.8

申请日：2008-02-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 似鸟弘弥 ,  菱谷克幸

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  F27B17/00 ,  F27D1/18 ,  F27D3/00 ,  F27D5/00

Abstract: 本发明提供一种对于双舟体系统也能以简单结构防止因地震等外力导致舟体搬送机构上的舟体倒转的立式热处理装置和方法，立式热处理装置(1)包括：下部具有炉口(5a)的热处理炉(5)、封闭炉口的盖体(17)、隔着保温筒(19)载置在盖体上并多层保持多个基板(w)的基板保持件(4)、和使盖体升降从而将基板保持件相对热处理炉搬入搬出的升降机构(18)。当另一方基板保持件(4)在热处理炉中时，另一方基板保持件为了基板(w)的移载而被载置于保持件载置台上。在保持件载置台与保温筒之间，基板保持件通过保持件搬送机构被搬送。保持件搬送机构具有限制基板保持件倒转的倒转限制部件。

公开(公告)号：CN3431473D

公开(公告)日：2005-03-09

申请号：CN200430060829.8

申请日：2004-06-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 似鸟弘弥