公开(公告)号：CN106610567A

公开(公告)日：2017-05-03

申请号：CN201610860457.9

申请日：2016-09-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑瑟基 ,  金旼秀 ,  金瑆焕 ,  宋炫知 ,  姜善惠 ,  金永珉 ,  金有那 ,  金眞亨 ,  南沇希 ,  白载烈 ,  尹星莉 ,  李忠宪 ,  洪承希 ,  黄善民

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。

公开(公告)号：CN110579943B

公开(公告)日：2023-04-18

申请号：CN201910501950.5

申请日：2019-06-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 裵信孝 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  周范俊 ,  崔有廷

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物以及使用该抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，所述抗蚀剂底层组合物包含具有衍生于异氰脲酸酯衍生物的结构单元的聚合物以及溶剂。

公开(公告)号：CN115685674A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202210845633.7

申请日：2022-07-19

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  金圣振 ,  白载烈 ,  阵和英 ,  南宫烂 ,  朴贤 ,  宋大锡

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，所述抗蚀剂底层组合物包含：聚合物，包含主链、侧链或包含在环中包含两个或大于两个氮原子的杂环的主链和侧链；化合物，包含由化学式1表示的部分；以及溶剂；以及一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法：化学式1的定义与实施方式中所描述的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN108388079B

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN201810067086.8

申请日：2018-01-24

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 裵信孝 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  周范俊 ,  崔有廷 ,  韩权愚

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/115

Abstract: 本申请公开一种抗蚀剂垫层组成物，其包含包括由化学式1和化学式2表示的部分的聚合物和溶剂，且本申请另公开一种使用所述抗蚀剂垫层组成物形成图案的方法。化学式1和化学式2的定义与实施方式中相同。[化学式1][化学式2]

公开(公告)号：CN113204170A

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN202110115902.X

申请日：2021-01-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 白载烈 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  崔有廷

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含含由化学式1表示的结构单元的聚合物和溶剂，以及一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。在化学式1中，每一个取代基与详细描述中所定义的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN113138532A

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN202110056902.7

申请日：2021-01-15

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  金旼秀 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  安度源

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含：(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。

公开(公告)号：CN113396364B

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202080012809.X

申请日：2020-03-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  白载烈

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明是有关于一种抗蚀剂底层组成物及一种使用所述组成物形成图案的方法。根据实施例，所述抗蚀剂底层组成物包含：聚合物，包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元；以及溶剂。化学式1至化学式3的定义与详细说明中所述的相同。

公开(公告)号：CN119668025A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411306733.8

申请日：2024-09-19

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 曹雅罗 ,  林昌模 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  黄丙奎 ,  阵和英 ,  金秀贞 ,  李恩受 ,  崔有廷 ,  郑盛宇 ,  金圣振

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供一种抗蚀剂底层组合物和使用该抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。抗蚀剂底层组合物包括：包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元或其组合的聚合物；具有约0到约60kcal/mol键解离能(bond dissociation energy，BDE)的自由基引发剂；以及溶剂。

公开(公告)号：CN119511636A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411120102.7

申请日：2024-08-15

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金圣振 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  黄丙奎 ,  阵和英 ,  李恩受 ,  曺雅罗 ,  崔有廷 ,  郑盛宇

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/004

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物以及一种使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。所述抗蚀剂底层组合物包含包括由化学式1表示的结构单元的聚合物、以及溶剂。化学式1的定义如本说明书中所阐述。化学式1#imgabs0#

公开(公告)号：CN119472167A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202411088290.X

申请日：2024-08-09

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 阵和英 ,  崔有廷 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  金圣振 ,  曺雅罗

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物以及使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。抗蚀剂底层组合物包括聚合物、由化学式3表示的化合物及溶剂，所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元或其组合。化学式1到化学式3的定义如说明书中所述。化学式1#imgabs0#化学式2#imgabs1#化学式3(R1)x(R2)y(R3)Sn‑(R4)(3‑x‑y)。