公开(公告)号：CN1815366A

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：CN200610007140.7

申请日：2006-02-05

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社三养EMS

Inventor： 朴廷敏 ,  柳美善 ,  李羲国 ,  全佑奭

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L27/1288 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0236 ,  H01L27/1214 ,  H01L29/458 ,  H01L29/4908

Abstract: 一种光刻胶组合物，其包含下式所示的酚醛清漆树脂；具有式Z1－SH或SH－Z2－SH的巯基化合物(其中Z1和Z2各自是含有1～20个碳原子的烷基或烯丙基)；感光剂；及溶剂。在下式中，R1、R2、R3和R4各自是氢原子或具有1～6个碳原子的烷基，并且n是0～3的整数。

公开(公告)号：CN101281369A

公开(公告)日：2008-10-08

申请号：CN200810091113.1

申请日：2008-04-02

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进瑟弥侃株式会社

Inventor： 朴廷敏 ,  郑斗喜 ,  李羲国 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/038 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/128

Abstract: 本发明涉及光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法，该光刻胶组合物包括约0.5－约20重量份的光致产酸剂、约10－约70重量份的含有羟基的酚醛清漆树脂、约1－约40重量份的交联剂、以及约10－约150重量份的溶剂，其中该交联剂包括烷氧基甲基三聚氰胺化合物。

公开(公告)号：CN101236356A

公开(公告)日：2008-08-06

申请号：CN200710006730.2

申请日：2007-02-02

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进半导体化学株式会社

Inventor： 李羲国 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  尹柱豹 ,  全佑奭

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/133 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/118

Abstract: 能够形成高清晰度图案的无需额外的加热处理的光致抗蚀剂组合物，其包含包括至少一种式1单元的10－70重量份的碱－可溶苯酚类聚合物、0.5－10重量份的光－酸产生剂、包括至少一种式2单元的5－50重量份的溶解抑制剂和10－90重量份的溶剂，其中上述组分的量是基于总共100重量份的碱－可溶苯酚类聚合物、光－酸产生剂、溶解抑制剂和溶剂，和其中式1和式2具有以上结构，其中R为甲基，其中R1、R2和R3相同或不同，并为氢或叔丁基乙烯醚保护基。