公开(公告)号：CN109659251A

公开(公告)日：2019-04-19

申请号：CN201810971332.2

申请日：2018-08-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 黄泳豪 ,  苏相允 ,  李大熙 ,  丁大声 ,  金东煜 ,  宋钟民

IPC: H01L21/67 ,  G01D21/02

Abstract: 一种用于检测半导体设备中的工艺环境的传感器模块，其包括：传感器主体，其包括第一板和第二板；以及在传感器主体中的传感器电路单元，其中传感器电路单元包括在第一板与第二板之间的静电传感器。

公开(公告)号：CN103847063A

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201310511582.5

申请日：2013-10-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 俞炫硕 ,  金东煜 ,  陈在哲 ,  许元宁

IPC: B29C45/14 ,  B29C45/17 ,  H04M1/02

CPC classification number: B29C45/14336 ,  B29C45/14311 ,  B29C45/14786 ,  B29C45/14811 ,  B29C2045/14237 ,  B29C2045/14319 ,  B29K2069/00 ,  B29K2105/0872 ,  B29K2669/00 ,  B29L2031/3437 ,  B29L2031/3481 ,  G06F1/1635 ,  G06F1/1658 ,  G06F1/181 ,  H04M1/0249 ,  H04M1/0252 ,  H05K5/0217 ,  H05K13/00 ,  B29C45/1418

Abstract: 本发明提供了一种制造电子设备的壳体的方法。该方法包括：通过依次叠置复合材料片和塑料片来制造壳体主体，其中，向复合材料片的上表面和下表面中的至少一个表面应用塑料片；以及通过嵌件成型在壳体主体的塑料片上成型塑料注塑成型产品，以连接性地紧固复合材料片以及壳体主体和塑料片。

公开(公告)号：CN102859905A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201180021422.1

申请日：2011-04-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 闵粲浩 ,  郑丁寿 ,  金东煜 ,  郑景仁 ,  权种炯 ,  林彩权 ,  全泳炫

IPC: H04B7/26 ,  H04W36/04

CPC classification number: H04W36/30 ,  H04W36/0055 ,  H04W36/0083 ,  H04W36/165 ,  H04W48/16

Abstract: 提供了一种移动通信系统中用于提供切换支持信息的装置和方法。一种移动通信系统中移动站（MS）确定相邻基站（BS）之后BS向MS提供测量报告触发执行所需的信息的方法包括，在所述MS是激活模式的MS的情况下，根据特定的相邻BS向该激活模式的MS独立地提供触发时间（TTT），并且在所述MS是空闲模式的MS的情况下，根据特定的相邻BS向该空闲模式MS独立地提供再选时间段（Treselection）。

公开(公告)号：CN100397572C

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN03159790.4

申请日：2003-09-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 文昌郁 ,  柳寅儆 ,  金东煜

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01J37/3175 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/0216 ,  H01J2237/15

Abstract: 一种电子束聚焦设备在电子束投影光刻系统中控制由发射器发射的电子束的路径，该设备有：顶部磁铁和底部磁铁，放在装晶片真空室的上面和下面，顶部磁铁和底部磁铁产生真空室内的磁场；上部磁极片和下部磁极片，从真空室顶部和底部伸出，与顶部磁铁和底部磁铁磁性地接触；及上部环形伸出部和下部环形伸出部，从上部磁极片和下部磁极片相互面对的表面上伸出。所述光刻系统包括：围出一放置一晶片空间的真空室；发射器，它在真空室内以预定距离对着晶片分开地设置，发射电子束到晶片上；及有上述结构的电子束聚焦设备。电子束聚焦设备及使用该设备的所述影光刻系统能在晶片和电子束发射器之间提供均匀的电/磁场并减小由于真空室振动引起的电子束路径的弯曲。

公开(公告)号：CN1530996A

公开(公告)日：2004-09-22

申请号：CN200410002881.7

申请日：2004-01-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金东煜 ,  柳寅儆 ,  文昌郁

IPC: H01J9/02 ,  G03F7/20

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3175 ,  H01J2237/06333

Abstract: 提供一种使用图案化发射体的电子束光刻装置和一种图案化发射体的制造方法，该图案化发射体具有作为掩模并容易构图的半导体薄膜。该装置包括离开基板支座一预定距离设置的热电发射体，该发射体包括具有在其表面上的介电板的热电板和在介电板上并面对基板支座的图案化半导体薄膜。当加热所述热电发射体时，从没有被图案化半导体薄膜覆盖的介电板中发射出电子。

公开(公告)号：CN1527358A

公开(公告)日：2004-09-08

申请号：CN03159790.4

申请日：2003-09-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 文昌郁 ,  柳寅儆 ,  金东煜

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01J37/3175 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/0216 ,  H01J2237/15

Abstract: 一种电子束聚焦设备在电子束投影微影系统中控制由发射器发射的电子束的路径，该设备有：顶部和底部磁铁，放在装晶片真空室的上面和下面，顶部和底部磁铁产生真空室内的磁场；上部和下部磁极片，从真空室顶部和底部伸出，与底部和底部磁铁磁性地接触；及上部和下部环形伸出部，从上部和下部磁极片相互面对的表面上伸出。所述微影系统包括：围出一放置一晶片空间的真空室；发射器，它在真空室内以预定距离对着晶片分开地设置，发射电子束到晶片上；及有上述结构的电子束聚焦设备。电子束聚焦设备及使用该设备的所述影微影系统能在晶片和电子束发射器之间提供均匀的电/磁场并减小由于真空室振动引起的电子束路径的弯曲。