公开(公告)号：CN106644989A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201710057381.0

申请日：2017-01-26

Applicant: 夏明亮

Inventor： 夏明亮 ,  杨磊

IPC: G01N21/31 ,  G01N21/25

CPC classification number: G01N21/31 ,  G01N21/255 ,  G01N2201/062 ,  G01N2201/0631 ,  G01N2201/0636 ,  G01N2201/0639 ,  G01N2201/0813

Abstract: 本发明公开一种吸光度的检测系统，包括支撑机构、光源机构、成像机构及处理器。支撑机构具有至少两个出光口和至少一个进光口；开设在支撑机构上的至少两个安装腔体和至少一个参照腔体，安装腔体和参照腔体的一端均与进光口连通，另一端分别与出光口一一对应且连通；安装腔体内用于插入透光容器；光源机构用于经进光口给安装腔体和参照腔体内提供所需颜色的光源；成像机构用于经出光口分别对经光源照射后的待检测溶液及参照腔体拍摄图像；处理器根据成像机构获取的图像信息，得出安装腔体内待检测溶液的吸光度值。参照腔体内不放任何溶液，作为空白试验，只需测量一次就可以得到被测溶液的吸光度值，从而实现快速地测量溶液的吸光度。

公开(公告)号：CN101276214A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200810096658.1

申请日：2008-03-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 陈智刚 ,  褚汉友 ,  李世芳 ,  曼纽尔·玛德瑞加

IPC: G05B19/04 ,  G01B11/02 ,  G01B11/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: G01B11/046 ,  B82Y15/00 ,  B82Y30/00 ,  G01B11/06 ,  G01N2201/0639

Abstract: 本发明公开了使用光子纳米喷射、利用光学计量的自动化过程控制。可使用光学计量来控制制造集群。使用制造集群在晶片上执行制造工艺。产生光子纳米喷射，它是在电介质微球体的遮蔽表面侧引起的光学强度图案。使用光子纳米喷射扫描晶片上的监测区域。随着光子纳米喷射扫描监测区域，获得来自电介质微球体的回射光的测量数据。使用获得的回射光的测量数据确定监测区域中结构的存在状态。基于监测区域中的结构的存在状态的确定结果，调节该第一制造集群的一个或多个工艺参数。