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公开(公告)号：CN106276779A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610465128.4
申请日：2016-06-23
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
Inventor： A·甘德尔曼
CPC classification number: G04D99/00 , B81B2201/035 , B81B2203/0384 , B81C1/00103 , B81C2201/0132 , B81C2201/0138 , B81C2201/014 , C23F1/00 , B81C1/00531 , B81B1/00
Abstract: 本发明涉及具有至少一个斜面的硅基部件，所述硅基部件是由这样的方法形成的：所述方法结合了至少一个倾斜侧壁蚀刻步骤和竖直侧壁博世”蚀刻，由此使得由微加工硅基片形成的部件能够有美学改进和改善的机械强度。
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公开(公告)号：CN102627254B
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201210024520.7
申请日：2012-02-03
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C99/0085 , B81B2201/035
Abstract: 本发明涉及一种在单块材料上制造微机械部件(11，31，41)的方法。根据本发明，所述方法包括以下步骤：a)形成衬底(1，21)，该衬底包括用于待制造的所述微机械部件的凹腔(3，23)；b)在所述衬底(1，21)的一部分上形成牺牲层(5，25)；c)在所述衬底(1，21)上沉积用于形成萌发点的颗粒(6，26)；d)移走所述牺牲层(5，25)，以选择性地使所述衬底(1，21)的一部分没有任何颗粒(6，26)；e)通过化学气相沉积沉积第一材料(7，27)层，使得所述第一材料只在所述颗粒(6，26)保留的地方沉积；f)移走衬底(1，21)，以释放在所述凹腔中形成的微机械部件(11，31，41)。
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公开(公告)号：CN103765330A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280036285.3
申请日：2012-07-17
Applicant: 斯沃奇集团研究和开发有限公司
IPC: G04B1/14 , G04B15/14 , G04B31/004 , G04B13/02
CPC classification number: G04B13/02 , B81B2201/035 , B81C99/0095 , C10M2201/041 , C23C16/26 , C23C16/27 , G04B1/14 , G04B1/145 , G04B13/022 , G04B15/14 , G04B31/004 , G04B31/08
Abstract: 本发明涉及一种功能性微机械组件(100)，其包括至少第一构件(10)，第一构件具有限定出第一接触表面的第一层，该第一接触表面用于与由第二层限定出的第二接触表面摩擦接触，所述第二层属于所述第一构件(10)，或者至少属于与所述第一构件(10)一起形成所述组件(100)的第二微机械构件(20)，其特征在于，所述第一和第二层均含有至少50％碳原子的碳，所述层的所述第一和第二接触表面的表层晶面的取向彼此不同。
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公开(公告)号：CN103249864A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201180055106.6
申请日：2011-10-20
Applicant: 斯沃奇集团研究及开发有限公司
CPC classification number: H01L21/02527 , B81B3/0075 , B81B2201/035 , B81C2201/0119 , C23C16/27 , C23C16/278 , C23C16/279 , G04B15/14
Abstract: 涂布微机械系统中的微机械零件，尤其是手表机芯的方法，包括：提供待涂布的基体(4)零件；为所述零件提供掺杂有硼的第一金刚石涂层(2)；为所述零件提供第二金刚石涂层(3)；其中：所述第二金刚石涂层(3)在反应室中通过CVD提供；在CVD沉积过程中，在生长过程的最后阶段，在反应室内可控地增大碳含量，由此使sp2/sp3碳键(6)的增大到sp2含量大体上为1％至45％。另外还提供了相应的微机械零件。
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公开(公告)号：CN101831672B
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201010133985.7
申请日：2010-03-12
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
IPC: C25D1/10
CPC classification number: C25D1/10 , B81B2201/035 , B81C99/009 , C25D17/00
Abstract: 本发明涉及一种用于制造模具(39，39’，39”)的方法(3)，包括以下步骤：a)提供(10)具有顶层(21，21’)和底层(23，23’)的基材(9，9’)，所述顶层和底层由可微机械加工的导电材料制成并且通过电绝缘的中间层(22，22’)相互连接；b)在所述顶层中刻蚀(11，12，14，2，4)至少一个图案(26，26’，27’)直至中间层，以便在所述模具中形成至少一个凹腔(25，25’)；c)用电绝缘涂层(30，30’)涂覆(6，16)所述基材的顶部部分；d)定向刻蚀(8，18)所述涂层和中间层，以便专门在形成于所述顶层中的各垂直壁(31，31’，33)处限制其存在。本发明涉及微机械部件尤其是钟表机芯的领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101831672A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN201010133985.7
申请日：2010-03-12
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
IPC: C25D1/10
CPC classification number: C25D1/10 , B81B2201/035 , B81C99/009 , C25D17/00
Abstract: 本发明涉及一种用于制造模具(39，39’，39”)的方法(3)，包括以下步骤：a)提供(10)具有顶层(21，21’)和底层(23，23’)的基材(9，9’)，所述顶层和底层由可微机械加工的导电材料制成并且通过电绝缘的中间层(22，22’)相互连接；b)在所述顶层中刻蚀(11，12，14，2，4)至少一个图案(26，26’，27’)直至中间层，以便在所述模具中形成至少一个凹腔(25，25’)；c)用电绝缘涂层(30，30’)涂覆(6，16)所述基材的顶部部分；d)定向刻蚀(8，18)所述涂层和中间层，以便专门在形成于所述顶层中的各垂直壁(31，31’，33)处限制其存在。本发明涉及微机械部件尤其是钟表机芯的领域。
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公开(公告)号：CN101625542A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200910140230.7
申请日：2009-07-09
Applicant: 斯沃奇集团研究及开发有限公司
IPC: G04B99/00
CPC classification number: G04D3/0069 , B81B2201/035 , B81C3/008 , B81C99/008 , G04B13/02 , Y10T29/49579 , Y10T29/49581
Abstract: 本发明涉及一种制造机械部件(51)的方法(1)，包括如下步骤：a)提供(3)由可微加工材料制成的基片(53)；b)借助于光刻法，在所述整个基片上蚀刻(5)包含所述部件的图案(50)；根据本发明，该方法还包括如下步骤：c)在所述部件上组装(13)卡夹(91)，使得所述部件(51)随时可被安装，而不必触碰到由可微加工材料制成的部分；d)将部件(51)从基片(53)上分离(11)以将所述部件安装到例如时钟机械装置的装置中。本发明涉及时钟制造领域。
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公开(公告)号：CN101573287A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200780041825.6
申请日：2007-11-01
Applicant: 伊塔瑞士钟表制造股份有限公司
IPC: B81C5/00
CPC classification number: B81C99/0095 , B81B2201/035 , B81C2201/019 , B81C2201/056 , B81C2203/038 , B81C2203/051 , G04B31/004 , G04D3/0069 , Y10T29/49579
Abstract: 本方法包括以下步骤：a)在第一硅片(1)中加工出第一元件(3)或多个所述第一元件(3)并通过材料桥(5)保持所述元件(3)连接在一起；b)用第二硅片(2)重复步骤a)以便加工出与第一元件(3)的形状不同的第二元件(4)，或者加工出多个所述第二元件(4)；c)借助定位装置(6、7)将第一和第二元件(3、4)或第一和第二硅片(1、2)面对面叠放；d)对形成于步骤c)的组合件进行氧化；以及e)从硅片(1、2)分离出零件(10)。通过本方法获得了钟表微机械零件。
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公开(公告)号：CN106276772B
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201610465132.0
申请日：2016-06-23
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
CPC classification number: B81C1/00619 , B81B2201/035 , B81B2203/0384 , B81C1/00103 , B81C2201/0112 , B81C2201/0132 , B81C2201/0138 , B81C2201/014 , B81C2201/0188 , B81C2201/0198 , G04B13/02 , G04B13/026 , G04B13/027 , G04D99/00
Abstract: 本发明涉及具有至少一个减少的接触面的硅基部件，所述硅基部件是由这样的方法形成的：所述方法结合了至少一个倾斜侧壁蚀刻步骤和竖直侧壁“博世”蚀刻，所述硅基部件特别是改进了由微加工硅基片形成的部件的摩擦性能。
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公开(公告)号：CN105527820B
公开(公告)日：2018-07-13
申请号：CN201510673937.X
申请日：2015-10-16
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
CPC classification number: C25D21/04 , B81B2201/035 , B81C1/00674 , B81C2201/032 , C22C19/03 , C22C45/04 , C25D1/003 , G04B1/145 , G04B13/02 , G04B15/00 , G04B15/14 , G04B37/22 , G04D3/0074
Abstract: 本发明涉及一种一体式金属部件，其包括电成型金属本体，该本体的外表面仅在预定深度上或者直至预定深度包括比电成型金属本体的其余部分更少的被捕获氢，导致相对于本体的其余部分发生硬化，以提高该一体式部件的耐磨性，同时保持小于10的相对导磁率和被紧配合或压配合的能力。
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